《pvd开发基础讲义》ppt课件

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1、PVD技朮簡介蘇會軍2007.11.13報告大綱PVD技朮基礎理論介紹1.PVD工藝流程2.PVD技朮發展應用3.1.PVD介紹何謂PVD？物理氣相沈積(PhysicalVaporDeposition)PVD的用途鍍金屬的目的:美觀、防腐蝕、耐磨、導電、反光、反射熱等。所鍍的厚度與材料視實際的用途而不同。PVD技朮基礎理論介紹2.PVD原理PVD(PhysicalVaporDeposition)即物理氣相沉積技朮﹐即在電場作用下形成的等離子體中,塊體材料被濺射出來,而沉積在工件表面,形成一定厚度的薄膜.濺射出的靶材粒子氣體離子電子靶材工件氬氣在電場作用下被離化同時被加速,向加有負電

2、壓的靶面飛去,轰击靶材表面，引起靶材表面各种粒子，如原子、分子或团束逸出即產生溅射。溅出的中性原子與真空腔內同時被離化的氣體粒子反應而沉积到工件表面上，於是形成了一定厚度的膜层。2.1PVD過程第一步氣體離化e¯Ar+Ar能量離子化Argon氣體團Ar+eAr++2e以TiN為例,過程如下:第二步濺射Ar++TiTi(Atom)+Ar+靶材被濺射出的靶材粒子Power氣體離子Ar+接地PVD原理第三步反應成膜Ar++N22N+Ar+Ti+NTiN基底材料3.PVD生產流程圖4.PVD設備4.1清洗線:工件:工件的運動軌跡:靶材Tn:反應氣體真空室前門T1T2T3T44.2鍍膜機單筒

3、式鍍膜機T1T2:工件:工件的運動軌跡:靶材Tn:反應氣體(N2,C2H2)T3T4T5T6T7T8連續式鍍膜機鍍膜機結構介紹4PVD技術魚骨圖挂具設計設備真空系統電控系統激發系統加熱系統气体材料靶材基材制程偏壓電源氣路膜系設計真空度鍍膜時間工件旋轉速度濺射電源旋轉方式裝夾系統遮蔽系統材料（SUS,Ti）等離子監控儀(PEM)氣體分壓控制器(OGC)殘余氣體分析儀(RGA)氣體流量控制器(MFC)監控系統膜厚可靠度耐磨耗光澤度色差硬度附著力檢測系統環境濕度潔淨度防震動防靜電溫度流量分壓位置電流電壓功率電流電壓佔空比O2ArC2H2N2TiNiCrZrSUSTi塑膠公轉自轉可操作性形

4、狀尺寸彈性導電性5.PVD檢驗規範一覽表6.材質要求哪些材質可以PVD?不銹鋼、高速鋼、鎢鋼、玻璃基板電鍍處理後的銅合金、鋅合金電鍍處理後的ABS、PC、ABS+PCPVD技朮基礎理論介紹高金屬質感和艷麗飽滿的色彩效果優異的功能性(與基材的良好結合﹐高的硬度和耐磨性等)底材選擇的多樣化(如不鏽鋼﹐鈦合金﹐甚至鋁合金)制程的良好的穩定性和再現性適應現代環保潮流PVD發展應用7.PVD優點8.真空技术的应用领域平面显示器產業電腦資訊產業光儲存媒體半导体产业通訊產品消費性電子汽车工业军事航空航海PVD發展應用9.真空镀膜技术在富士康的应用不锈钢手机殼装饰膜手機視窗半透膜金属化装饰性镀膜金

5、屬質感非導電膜NC-VMTFT-LCD光学镀膜EMI处理刀模具镀膜PVD發展應用PVD產品展示PVD技朮基礎理論介紹二.PVD工藝流程清洗PVD核心工藝鍍膜為了更好的講解PVD技朮的具體工藝流程，我們以目前生產的N專案前蓋的PVD過程講解PVD工藝PVD工藝流程上挂清洗烘烤鍍膜下挂入庫全檢來料抽檢涂抗指紋油UV終檢PVD工藝流程PVD工藝流程為什麼要清洗？清洗的效果有什麼影響？清洗效果的好壞,直接關系到金屬表面防護層的附著力,可保証涂層不脫落,不起泡,不產生裂紋,保証防銹封存,表面改性,轉化膜質量,是后續工序順利進行不可少的工序.而清洗效果又與清洗工藝密不可分,如何有效而合理地制定

6、清洗工藝,將是整個清洗效果的至關因素.清洗流程介紹清洗流程酸洗脫脂除蠟上挂慢拉切水烘烤PVD工藝流程清洗---上挂首先將產品上挂到清洗治具﹐要求戴專用手套﹐并且在手套外戴指套。上挂后的清洗挂具PVD工藝流程清洗---除蠟超聲波清洗除蠟﹐清洗后有三道軟水槽清洗﹐具體參數如下﹕除蠟槽軟水槽溫度80±5℃55±5℃時間360S30S搖擺25次/分25次/分酸鹼性鹼性PVD工藝流程超聲波清洗原理超聲波是利用超聲波空化沖擊效益.由超聲波發振箱發出高頻高壓振蕩信號,經換能器巒換為機械振動傳入到清洗介質中去.以連續不斷的方式產生幅射狀連續傳播的超聲波束,它在介質中傳播時會產生成千上萬個負壓小氣泡

7、,這些小氣泡在一定壓力下,在清洗物體表面形成一連串密集的爆炸,不斷沖擊被清洗物體的表面,包括穿透到被清洗物的另一側面,以及所有侵入介質中的內腔,盲孔,狹縫將清洗物表面附著的污垢剝落,達到完美的清洗效果。超聲波振頻的調整超聲波清洗主要靠空穴的作用,聲學參數和清洗液的物理化學性質.但是影響產生空穴的主要因素有哪些呢:1.超聲波聲強(聲壓).在液體中只有交奕聲壓幅值超過靜壓力時才出現負壓,而負壓要超過液體強度才產生空穴,使液體產生空穴的最低聲強為空化閥.聲強的選擇1~2W/