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1、氧化铝钝化在晶体硅太阳电池中的应用aaaaa吴大卫,贾锐,武德起,丁武昌,陈伟,aaab陈晨,岳会会,刘新宇,陈宝钦(中国科学院微电子研究所a.微波器件与集成电路研究室;b.纳米加工与新器件集成技术实验室,北京100029)摘要:首先,回顾了氧化铝钝化技术的发展历程,对制备氧化铝钝化薄膜的手段进行了总结,并且详细描述了氧化铝的材料性质和钝化的机理。其次,指出氧化铝薄膜的优点在于优异的场效应钝化特性和良好的化学钝化性质,因此可以应用于低掺和高掺p型硅表面的钝化。此外,氧化铝薄膜及其叠层还具有良好的热稳
2、定性,符合丝网印刷太阳电池的要求。最后,总结了氧化铝薄膜钝化技术在晶体硅太阳电池中的最新研究动态,指出氧化铝钝化薄膜用于工业生产中存在的问题,并针对这些问题提出了有效的解决方案。关键词:硅表面钝化;氧化铝;原子层沉积;场效应钝化;烧结稳定性中图分类号:TN305.5;TM914.4文献标识码:A文章编号:1671-4776(2011)08-0528-08Al2O3PassivationforCrystallineSiliconSolarCellsaaaaaWuDawei,JiaRui,WuDeqi,Di
3、ngWuchang,ChenWei,aaabChenChen,YueHuihui,LiuXinyu,ChenBaoqin(a.KeyLaboratoryofMicrowaveDevicesandIntegratedCircuits;b.KeyLaboratoryofNanotechnologyandNovelDeviceIntegrationTechnology,InstituteofMicroelectronics,ChineseAcademyofSciences,Beijing100029,China)
4、Abstract:Firstly,thedevelopmentofthealuminumoxide(Al2O3)passivationtechnologyisreviewed,andthepreparationmethodsaresummarized.Then,thematerialpropertiesandpassivationmechanismsoftheAl2O3filmsaredescribedindetail.ItispointedoutthattheAl2O3filmshaveexcelle
5、ntfieldeffectpassivationpropertyandchemicalpassivationproperty.Thus,theAl2O3filmscanbewellappliedtothepassivationoflowlydopedandhighlydopedptypesiliconsurfaces.Besidesthat,theAl2O3filmsareofgoodheatstability,satisfyingtherequirementofscreenprintedsolar
6、cells.Finally,thelateststudiesoftheAl2O3filmspassivationtechnologyappliedtocrystallinesiliconsolarcellsarepresented,theapplicationproblemsofAl2O3filmsfortheindustryproductionarepointedout,andsomeeffectivesolutionsareproposedinthelightoftheseproblems.Keywor
7、ds:siliconsurfacepassivation;aluminumoxide;atomiclayerdeposition;fieldeffectpassivation;firingstabilityDOI:10.3969/j.issn.1671-4776.2011.08.010EEACC:8420收稿日期:2011-03-15基金项目:国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目及攀登计划课题资助项目(1J2006CB604904);国家面上资助项目(110360676001);中国科学院
8、知识创新工程领域前沿资助项目(5406SF053001)Email:wudawei@ime.ac.cn528MicronanoelectronicTechnologyVol.48No.8August2011吴大卫等:氧化铝钝化在晶体硅太阳电池中的应用绍和总结。0引言1Al2O3钝化薄膜的制备手段现今,晶体硅光伏产业的发展趋势是要制造出更薄、更高效的电池片
