高新技术中高分子光敏材料基础研究.doc

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1、“高新技术）11高分子光敏材料基础研究”取得重要成果作者:发表时间:2001-08-06摘自:5、无显影气相光国家H然科学基金逋点项目“高新技术中高分了光敏材料基础研究”口前在专家验收会上获得高度评价。该项目是山北京大学曹维孝教授主持,北京大学与清华大学合作完成的。主要研究巫氮树脂型光硕材料、自组装型超薄胶印版、化学增幅与无显影光刻胶及刻蚀技术，通过4年的努力，取得了一系列重要进展和研究成果。1、在重氮树脂型光敏材料方面，制备了文献上尚未见报道的多种带不同取代基的二苯胺-4-巫氮盐及其聚合物巫氮树脂，其中冇两种聚合物感光和热稳定性能突出，这些岛分了新材料在阴图

2、型感光胶印版方面冇巫要应川前景。获得了水性感光液，打破了感光液只能是以仃机液体为溶剂的传统，对减少冇机溶剂带来的环境污染、降低成本、发展绿色高分了感光液具冇非常虫要的意义。在聚电解质与表面活性剂体系相互作用的研究中，观察到了两个黏度陡升降区的特殊现象，证明是与表面活性剂的临界聚集浓度和临界胶束浓度宜接冇关。2、实现了基于所研究得到的虫氮树脂的氢键型、电荷-转移型和静电烈H组装。尤为重要的是发现光照后这些组装膜中的弱键都转变为共价键，而保持了组装膜冇序结构，得到了对极性溶剂很稳定的超薄膜，克服了组装膜对溶剂不稳定的缺陷。这一结果具仃源头创新性，应用此F1组装后弱

3、键转变为共价键的原理，发展了儿种超薄烈铝基感光胶印版技术。其中一种最简便的技术只需将印刷用铝版在巫氮树脂的水溶液（0.5%）中浸约5分钟，让带正电荷的巫氮树脂分了白组装到具负性的印刷铝版表面,T后形成一层致密的薄膜,厚度仅5〜10nm,即可用作感光阴图胶印版。形成的图像清晰，结构致密，耐印力很高，在印刷机上印至7万份时,印版文字仍非常清晰。3、运川所研究的新感光高分子材料，发展了一种新型激光印字版。此版宜接通过激光打印机打印制版，打印得到的文字（或图形）版能直接上印刷机印刷，耐印力>10000份，已达到商品化的要求。4、在光致抗蚀剂和光刻技术方面，研制了3种水

4、性、高玻璃化温度和白交联型的化学增幅光致抗蚀剂。阐明了在上述光致抗蚀剂体系中，二苯基碘踰盐不仅可以作为光敏产酸物，而且可以作为阻溶剂。采用不同的显影液和光刻工艺，实现了同一光致抗蚀剂的JT负性反转，还分别得到了负性光刻图形和JE性光刻图形。刻技术是我国H主发明的一项新的光刻技术。它具冇不需显影、高分辨率、高刻蚀纵宽比等优点。在本项目支持下，在无显影气相光刻的基础研究方面建立了全新的无显影气相光刻刻蚀机理，同时对原仃无显影气相光刻存在的缺点进行了改进，为无显影气相光刻技术的发展注入了新的活力。阐明了无显影气相光刻中氟化氢对二氧化硅和氮化硅的刻蚀反应动力学，对无显

5、影气相光刻的机理有了更全面的了解。本成果获得2000年度北京市科技进步二等奖。在本重点项目执行期间，共发表论文67篇，其中SCI收录38篇，影响因子＞1.5的有20篇。所发表的论文已引起国际学术界巫视，很短的时间内，已冇13篇文章被他人引用，总引用次数为49次。在化学增輛抗蚀剂、自纽装印刷胶印版等方面取得了一系列具冇自主知识产权的成果，申请专利9项,其中2项已授权。获得2(X)0年度北京市科技进步二等奖1项。培养硕士研究生6人，博士研究生4人。该项目的立项体现了国家自然科学基金项目的前瞻性，已取得的成果非常显著，冇很高的科学意义和明显的应用价值。(丁程与材料科

6、学部董建华)