端氨基纳米银抗菌整理纯棉织物研究_纳米银妇女外用抗菌器.docx

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1、端氨基纳米银抗菌整理纯棉织物研究_纳米银妇女外用抗菌器  本文以实验室自制的端氨基超支化聚合物为还原剂,通过和硝酸银反应制得纳米银抗菌剂。利用激光粒径仪、透射电镜和紫外可见分光光度计表征了抗菌剂的稳定性,并用SEM观察抗菌整理后纤维上银的分布。结果表明,相同工艺条件下,氧化并接枝的纯棉织物经最低浓度的抗菌剂整理,织物上的银含量也是原棉的10倍左右。  Thehomemadeamino-terminatedhyperbranchedpolymerwasappliedasareducingagent,reactingwithsilve

2、rnitratetoproducesilvernanoparticlesbiocides.ThestabilitywascharacterizedbythemeansofDLS、TEMandUv-vis.MeanwhilesilvernanoparticlesdistributionwasobservedwithSEM.Asaresultoftheexperiments,weconcludedthatwiththesameprocessing,thesilvercontentonoxidized-graftedcottonfabr

3、icwasabout10timesthatofrawone,thoughtreatedwiththelowestconcentrationofantimicrobialagent    端氨基超支化聚合物是一种高度支化的水溶性单分散聚合物,其表面含有丰富的氨基和亚胺基,可作为自还原剂,将Ag+还原为纳米银单质。  经高碘酸盐氧化处理后的纤维本身具有良好的物理机械性能,并可通过高分子化学反应,引入其它官能团,如羟基、氨基、肼基、羧基等,合成具有新功能和新用途的纤维素衍生物,如可获得具有荧光、储能、螯合剂及生物医用等特殊功能的高分子材

4、料。  1实验  1.1材料与仪器  织物:纯棉漂白布(120g/m2),中国华芳集团。  试剂:端氨基超支化聚合物(简称HBP�NH2,实验室自制);硝酸银、硝酸,均为分析纯(AR级以上);高碘酸钠(AR级)。  仪器:SZCL�数显智能控温磁力搅拌器、R201D旋转蒸发仪、SHZ�D(III)型循环水式真空泵(巩义市予华仪器有限公司);HPPS5001型激光粒度分布仪(英国马尔文公司);TecnaiG220型透射电镜(美国FEI公司);U�3010紫外分光光度计(日本日立公司);电热鼓风干燥箱(南通宏大有限公司);VistaM

5、PX电感耦合等离子体原子发射光谱仪(美国瓦里安公司);WD�5型全自动白度仪(北京市兴光测色仪器公司)。  1.2纳米银抗菌剂的制备  将端氨基溶液与一定浓度的AgNO3溶液混合均匀,加热搅拌,直到溶液由无色变为棕色,得到纳米银抗菌剂。  1.3纳米银抗菌剂的表征  (1)纳米银的形态和粒径分布  取少量纳米银溶液,采用HPPS5001激光粒径仪(DLS)测定纳米银的粒径及分布情况。将一定量的纳米银溶液滴加于铜网上,采用TecnaiG220透射电镜观察纳米银的形态。  (2)纳米银溶液的紫外可见光吸收性能  采用UV�3010紫外

6、可见分光光度仪测定纳米银溶液的紫外吸收性能。  1.4棉织物纳米银抗菌整理  稀释抗菌剂至纳米银含量为20~200mg/L,将纯棉织物放在不同浓度的整理液中,浴比1∶50,常温浸渍一段时间后水洗烘干。  (1)纤维微观形态测试(SEM)  用S�4700扫描电子显微镜放大一定倍数观察纤维的纵向表面形态。  (2)织物白度测定  用WD�5型全自动白度仪测定,将织物折叠成4层,选取不同位置测4次取平均值。  (3)织物上纳米银含量测试  取50mg纳米银整理织物用10mL浓硝酸(65%)溶解,再用水稀释10倍。将得到的溶液用电感耦合

7、等离子体原子发射光谱仪测量其在Ag波段(328nm)上的值。  2结果与讨论  2.1纳米银的形态和粒径分布  端氨基超支化聚合物在纳米银抗菌剂的制备过程中发挥了重要作用。HBP�NH2分子结构中含有大量的伯、仲、叔胺基,能和溶液中银离子络合并将银离子还原成银单质。    由图1可以推测,HBP�NH2在纳米银抗菌剂的形成过程中起到了稳定剂的作用。纳米银在溶液中是呈负荷性的,而HBP�NH2分子具有聚阳离子特征,因此HBP�NH2分子会吸附在纳米银颗粒表面,阻碍纳米银颗粒因相互碰撞而发生团聚,起到了稳定剂的作用。  2.2纳米银溶

8、液的紫外可见吸收性能  纳米银颗粒在紫外可见光范围内具有明显的吸收特征峰。不同晶形的纳米银颗粒,其紫外可见特征吸收峰的形状也不同。如图1所示,端氨基化合物和硝酸银反应得到的纳米银颗粒为球形。根据有关资料显示,在接近400nm左右出现特征吸收峰,则表

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