生物芯片表面氨基硅烷化修饰.pdf

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1、第28卷第5期无机化学学报Vo1.28No.52012年5月CHINESEJ0URNALOFIN0RGANICCHEMISTRY953—958生物芯片表面氨基硅烷化修饰余良春1陈奇2郎关东3叶邦策(华东X-Y-大学材料科学与工程学院,超细材料制备与应用教育部重点实验室,上海200237)(华东理工大学无机材料系,上海200237)(华东X.z-大学先进聚合物材料重点实验室,上海200237)(4华东理工大学生物工程学院,上海200237)摘要:本文以无水乙醇为溶剂、3一氨基丙基三乙氧基硅烷(APTES)为修饰试剂、醋酸为催化剂,采用浸泡法,对生物芯片玻璃基片表面进行了氨基硅烷化修饰。得

2、到了一种基片表面氨基修饰的制备方法。着重研究了制备过程中浸泡时间、APTES的浓度、酸处理的时间和羟基化的时间对基片噪声的影响通过对以上工艺参数的逐步优化.基片噪声逐渐减小,最小值为193。通过对最佳修饰条件下得到的基片进行DNA点样和杂交测试可知.此方法制备得到的基片能够有效结合基因探针.且杂交清洗后信号强度可达17000以上.信噪比在l10以上。由X射线光电子能谱分析可知,采用浸泡法可以获得表面氨基修饰的生物芯片基片最后通过对修饰前后基片透过率的比较可知.修饰过程对透过率影响很小.且透过率在91%以上,从而保证了后续杂交信号与微阵列噪声检测的准确性关键词:生物芯片;3一氨基丙基三乙

3、氧基硅烷;氨基修饰;基片噪声中图分类号:Q789文献标识码:A文章编号:1001-4861(2012)05.0953—06AminoSilanizationModificationofBiochipSurfaceYULiang—ChunCHENQi,,-LANGMei—DongYEBang.CefKeyLaboratoryforUltrafineMaterialsofMin~tryofEducation,SchoolofMaterialsScienceandEngineering,EastChinaUniversityofScience&Technology,Shanghai20023

4、7.China)(2DepartmentofInorganicMaterials.EastChinaUniversityofScience&Technology,Shanghai200237,China)(3KeyLaboratoryofAdvancedPolymericMaterials,EastChinaUniversityofScience&Technology,Shanghai200237,China)(4SchoolofBiotechnology,EastChinaUniversityofScience&Technology,Shanghai200237.China)Abst

5、ract:Biochipswithaminogroupsonthesubstratesurfacewerepreparedthroughaspecialimmersionmethodusingabsoluteethanolasthesolvent,3-aminopropyhriethoxysilane(APTES)asthemodifyingagentandaceticacidasthecatalyst.Theimpactsofdifferentprocessparametersinthepreparationprocessonthesubstratenoiseweremainlyst

6、udied,includingsoakingtime,APTESconcentration,acidtreatmenttimeandhydroxylationtime.Throughstage—by—stageoptimizationoftheprocessparametersabove,thesubstratenoisedecreasedeffectively,withtheminimumvalueof193obtained.Theresultsofthespottingtestandhybridizationtestofthesubstratespre—treatedunderth

7、eoptimummodificationconditionshowthatthesubstratepreparedbythismethodcouldeffectivelyconnectthegeneprobe,withthehybridizationsignalintensityaftercleaningupto17000andthesignal—to.noiseratioabove110.TheX—rayphotoelectronspectr

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