ELA基础介绍

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1、ELA基础知识介绍Array-MFG2015/09/10Locfe南城1精选可编辑pptOutline1.ELA与LTPS制程2.准分子激光退火系统3.ELA工艺技术4.ELA工艺测试2精选可编辑pptELA简介准分子就是一种处于激发态的复合粒子，在标准状态下，即在基态时，它处于分离状态，而在激发态处于分子状态。常见的准分子有：XeF、KrF、ArF、XeCl、XeBr3精选可编辑pptELA简介为什么选用准分子激光？准分子激光对应的紫外波段，a-Si薄膜对紫外光有大的吸收系数紫外光的注入深度较小，可以减小激光对玻璃基板的作用4精选可编辑pp

2、tELA与LTPS制程5精选可编辑pptELA与LTPS制程6精选可编辑pptELA与LTPS制程7精选可编辑ppt2.准分子激光退火系统(2)准分子激光原理、结构及参数(1)准分子激光退火系统的结构(3)光学系统构成简介(4)退火腔结构简介8精选可编辑pptELA系统基本组成准分子激光退火系统9精选可编辑pptTCZ&JSWELASystemoverview准分子激光退火系统-ELASystemoverview10精选可编辑ppt准分子激光原理、结构及参数-激光器原理11精选可编辑ppt准分子激光原理、结构及参数-激光器原理12精选可编辑p

3、pt准分子激光原理、结构及参数-Lasertubedesign13精选可编辑ppt准分子激光原理、结构及参数-Lasertubedesign14精选可编辑ppt准分子激光原理、结构及参数LasingIonbranchDischargeXe，F2Xe，Xe，Xe+，F2，F-Xe，F2Xe+，F-(XeF)Xe，FNeutralbranch351nme-+Xe→Xe++e-+e-e-+Xe→Xe+e-e-+F2→F-+FXe++F-+M→(XeF)+MXe+F2→(XeF)+FPumping:Stimulated:(XeF)+hν→Xe+F+2

4、hν(351nm)Losses:(XeF)→Xe+F+hν(351nm)(XeF)+M→Xe+F+M(XeF)+M+Xe→Xe2F+MX+hν(351nm)→X15精选可编辑ppt准分子激光原理、结构及参数-Laserarchitecture16精选可编辑ppt准分子激光原理、结构及参数-Gaslifetime17精选可编辑ppt准分子激光原理、结构及参数-参数18精选可编辑ppt准分子激光原理、结构及参数-参数PeaktoPeakEnergyFluctuation19精选可编辑ppt准分子激光原理、结构及参数-参数Pulseduration

5、20精选可编辑pptPulseduration21精选可编辑ppt准分子光学系统简介光学系统示意图22精选可编辑ppt准分子光学系统简介Monitorsystem示意图23精选可编辑ppt准分子光学系统简介BeamShortAxis&LongAxis24精选可编辑pptShortAxisSlope准分子光学系统简介25精选可编辑ppt退火腔结构简介退火腔室结构26精选可编辑ppt退火腔结构简介ScanProcess27精选可编辑ppt3.ELA工艺技术(1)晶化机制(2)主要参数28精选可编辑ppt薄膜吸收与加热薄膜表层熔融热能传导部分熔融接

6、近完全熔融完全熔融激光照射多晶硅晶化过程29精选可编辑pptELA工艺技术-晶化机制30精选可编辑pptELA工艺技术-主要参数EnergyDensityVsMeltregime31精选可编辑pptELA工艺技术-主要参数OverlapVsPitchOverlap—相邻两个shot之间的重合程度Pitch—相邻两个shot之间的距离Overlap=(BeamWidth-Pitch)/BeamWidth32精选可编辑pptOverlapVs.GrainSizeELA工艺技术-主要参数33精选可编辑pptELA工艺技术-主要参数CVDThinFi

7、lmConcern34精选可编辑pptELA工艺技术-主要参数Dehydrogen35精选可编辑ppt4.ELA工艺测试(2)SEM测试(3)AFM测试(1)宏观检查(4)ｕ-PCD测试36精选可编辑pptELA工艺技术-宏观检查宏观检查-Mura37精选可编辑pptELA工艺技术-SEM测试38精选可编辑pptELA工艺技术-AFM测试39精选可编辑pptELA工艺技术-AFM测试SurfaceMaphologyMechanism40精选可编辑pptELA工艺技术-ｕ-PCD测试41精选可编辑pptThanks42精选可编辑ppt