JGP-560b型高真空磁控溅射系统操作规程.doc

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1、JGP-560b型高真空磁控溅射系统操作规程一．开机前准备工作准备好溅射用的靶材、基片，开通循环冷却水，确保水量足够。开控制柜总电源（左）→开V2→升腔体→关V2→装靶（留一圈起辉），装样品托→检查样品转动，挡板控制等程序→关腔体二．抽真空1.开机械泵，开旁抽气阀V1,溅射室开始抽真空。2.打开左侧控制柜上真空计电源，开真空计，待真空计显示低于10Pa时，关闭V1，开电磁阀DF。3.打开分子泵（必须保证腔室<10Pa且V1关闭时方可开启分子泵），旋开G档板阀，先慢后快，抽真空至所需真空度。注：如果腔体已经抽至低真空，需跳过开关V1的步

2、骤，依次开机械泵、电磁阀DF、分子泵和G阀。三．溅射1.溅射实验前，先把真空计由“自动”调至“手动”，旋开阀V4，抽混气室。2.到所需真空度后，打开氩气瓶，先开大阀（直通瓶体），后开小阀，调流量至20L/min左右，大于大气压。3.开控制柜流量计电源，调节流量计MFC1至所需值，开V7，并关小G档板阀至所需工作气压。4.打开右侧控制柜总电源，打开相应靶输入功率电源，直流靶（A、B、D靶），由小到大调节输入功率，待起辉后，调至所需功率。5.打开左侧靶挡板控制电源、转盘电机和挡板电机，打开电脑程序，设定时间和样品位置后正式溅射。6.射频靶

3、（C靶），则需预热10分钟以上，再启动。高气压、调节电压至700V左右起辉后，匹配器量程选择所需档位，调节匹配器C1，C2,使入射最大，反射最小，再调至所需工作气压和功率（从匹配器上读取入射功率）。7.若样品需要加热，可在到达所需真空度后，打开加热电源，设定加热温度，100℃以下低于2A，后随温度的变化可适当增大电流。再到步骤3.1四．停机1.将输入功率调至零，关闭直流（射频）电源。关闭靶控制电源，将MFC1调至零，关闭V4，V7，关闭氩气瓶，先关小阀，后关总阀。2.如果使用了加热电源，必须将电流调零，将G阀调大，待其冷却到100℃以

4、下才可关机。3.关闭G阀，停止分子泵，待频率降至为“100”以下时方可关闭分子泵，再关闭电磁阀、机械泵。五．取样旋开V2,通气进真空室，必须待其内外气压相等时，关闭V2。用升降机小心开真空室。取样，后降下封盖，密封。抽至一定真空（开机械泵→开V1和真空计→抽至10Pa以下→关V1和真空计→关机械泵）。六．注意事项1.使用加热样品托温度>80℃时，必须取下样品托上小磁块，以免被退磁。2.直流、射频电源连续溅射时间不得超过3个小时，长时间溅射需中途暂停。3.换拔线时，必须关闭电源。4.溅射完成后，各功率、电流、电压必须调至最小值。5.实验

5、完后溅射腔室必须用机抽至真空状态，长时间不实验时应抽至高真空。6.每次做完必须对腔体进行清理。7.加热、溅射电源等出现异常时，不要盲目继续调大，以免损坏仪器，应将其降至最小值后及时与设备管理人联系。