半导体三极管和交流电压放大电路ppt课件.ppt

半导体三极管和交流电压放大电路ppt课件.ppt

ID:59344236

大小:3.57 MB

页数:147页

时间:2020-09-20

半导体三极管和交流电压放大电路ppt课件.ppt_第1页
半导体三极管和交流电压放大电路ppt课件.ppt_第2页
半导体三极管和交流电压放大电路ppt课件.ppt_第3页
半导体三极管和交流电压放大电路ppt课件.ppt_第4页
半导体三极管和交流电压放大电路ppt课件.ppt_第5页
资源描述:

《半导体三极管和交流电压放大电路ppt课件.ppt》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在教育资源-天天文库

1、第2章半导体三极管和交流电压放大电路1.掌握半导体三极管的基本结构、特性、电流分配和放大原理。2.理解单管交流放大电路的放大作用和共发射极、共集电极放大电路的性能特点。3.掌握静态工作点的估算方法和放大电路的微变等效电路分析法。4.了解放大电路输入、输出电阻和多级放大的概念,了解放大电路的频率特性。放大的概念:放大的目的是将微弱的变化信号放大成较大的信号。放大的实质:用小能量的信号通过三极管的电流控制作用,将放大电路中直流电源的能量转化成交流能量输出。对放大电路的基本要求:1.要有足够的放大倍数(电压、电流、功率)。2.尽可能小的波形失真。另

2、外还有输入电阻、输出电阻、通频带等其它技术指标。本章主要讨论电压放大电路。2.1半导体三极管2.1.1基本结构NNP基极发射极集电极NPN型BECBECPNP型PPN基极发射极集电极符号:BECIBIEICBECIBIEICNPN型三极管PNP型三极管基区:最薄,掺杂浓度最低发射区:掺杂浓度最高发射结集电结BECNNP基极发射极集电极结构特点:集电区:面积最大BE输入输出CB输入输入输出输出BEECC共基极共发射极共集电极2.1.2电流分配和放大原理1.三极管放大的外部条件BECNNPEBRBECRC发射结正偏、集电结反偏PNP发射结正偏VB

3、VE集电结反偏VC>VB2.各电极电流关系及电流放大作用IB(mA)IC(mA)IE(mA)00.020.040.060.080.10<0.0010.701.502.303.103.95<0.0010.721.542.363.184.05结论:1)三电极电流关系IE=IB+IC2)ICIB,ICIE3)ICIBβ=IC/IB把基极电流的微小变化能够引起集电极电流较大变化的特性称为晶体管的电流放大作用。实质:用一个微小电流的变化去控制一个较大电流的变化,是CCCS

4、器件。3.三极管内部载流子的运动规律BECNNPEBRBECIEIBEICEICBO基区空穴向发射区的扩散可忽略。发射结正偏,发射区电子不断向基区扩散,形成发射极电流IE。进入P区的电子少部分与基区的空穴复合,形成电流IBE,多数扩散到集电结。从基区扩散来的电子作为集电结的少子,漂移进入集电结而被收集,形成ICE。集电结反偏,有少子形成的反向电流ICBO。3.三极管内部载流子的运动规律IC=ICE+ICBOICEICIBBECNNPEBRBECIEIBEICEICBOIB=IBE-ICBOIBEICE与IBE之比称为共发射极直流电流放大倍

5、数集-射极穿透电流,温度ICEO(常用公式)若IB=0,则ICICE02.1.3特性曲线即管子各电极电压与电流的关系曲线,是管子内部载流子运动的外部表现,反映了晶体管的性能,是分析放大电路的依据。为什么要研究特性曲线:1)直观地分析管子的工作状态2)合理地选择偏置电路的参数,设计性能良好的电路重点讨论应用最广泛的共发射极接法的特性曲线发射极是输入回路、输出回路的公共端共发射极电路输入回路输出回路测量晶体管特性的实验线路ICEBmAAVUCEUBERBIBECV++––––++1.输入特性特点:非线性死区电压:硅管0.5V,锗管0.1

6、V。正常工作时发射结电压:NPN型硅管UBE0.6~0.7VPNP型锗管UBE0.2~0.3VIB(A)UBE(V)204060800.40.8UCE1VO2.输出特性IB=020A40A60A80A100A36IC(mA)1234UCE(V)912O放大区输出特性曲线通常分三个工作区:(1)放大区在放大区有IC=IB,也称为线性区,具有恒流特性。在放大区,发射结处于正向偏置、集电结处于反向偏置,晶体管工作于放大状态。IB=020A40A60A80A100A36IC(mA)1234UCE(V)912O(2)截

7、止区IB<0以下区域为截止区,有IC0。在截止区发射结处于反向偏置,集电结处于反向偏置,晶体管工作于截止状态。饱和区截止区(3)饱和区当UCEUBE时,晶体管工作于饱和状态。在饱和区,IBIC,发射结处于正向偏置,集电结也处于正偏。深度饱和时,硅管UCES0.3V,锗管UCES0.1V。工作状态(晶体管工作状态的判定)放大截止饱和1.根据PN结UBE>0UBE≤0UBE>0偏置电压(正偏)(反偏)(正偏)UBC<0UBC<0UBC≥0(反偏)(反偏)(正偏)2.根据IB0<IB<IBS≈0≥IBSIBICIEIC=IB≈0<I

8、BIE=IB+IC≈0<(1+)IBIBS=EC-UCES/RC硅管临界饱和UCES=0.5V深饱和UCES≈0.1~0.3V工作状态(晶体管工作状态的判定)3

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。