无公害设施黄瓜生产技术规程

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2、公害食品黄瓜生产技术规程》NY/T5072―2002标准。　　日光温室黄瓜生产处于日照时数、光照强度、外界温度不断下降的季节。幼苗期和甩蔓发棵期处于9～10月，温度、光照条件较好；开始采收时进入冬季，日照缩短、温度降低，外界环境条件不利于黄瓜的生长发育，一般产量较低。而且在秋凉季节，昼夜温差大，叶片结露时间长，利于病害发生和蔓延。因此，搞好日光温室一大茬黄瓜生产必须注意以下几个方面的问题。　　1品种选择　　必须选用耐低温、耐弱光、生长期长、雌花节位低、节成性好、抗病性强、生长势强、品质好、产量高的品种。目前生

3、产上采用的品种有：津优、津研等品种。　　2嫁接育苗　　嫁接育苗是日光温室高产栽培的主要技术措施之一。嫁接目的一是为抗土传病害，特别是提高对枯萎病的抵抗能力；二是提高黄瓜根系的耐寒性和抗逆性，克服困重茬导致的土壤连作障碍。目前生产上采用温室营养土方育苗，配有小拱棚，待3叶1心时定植。嫁接方法见附页：　　3栽培季节　　每年的9月中旬播种育苗，10月中、下旬定植，11月下旬至翌年6月采收上市。　　4定植后管理　　定植黄瓜应不与瓜类作物重茬，防止枯萎病等土传病害发生。定植前10～15天进行田间清理，重施有机施。一般6

4、67米2施充分腐熟优质鸡粪10方，2/3用于普施，1/3用于后期追肥，而后深翻40厘米，耙平后按行距起垄。定植密度一般为每667米23000株左右，太密影响通风透光。采用宽窄行定植，宽行距80厘米，窄行距50厘米，株距20厘米。定植后均采取地膜覆盖，增温保墒，并降低温室内空气湿度，减轻霜霉、灰霉病的发生危害。　　环境控制　　　温度日光温室栽培黄瓜温度控制主要是通过风口的开、闭和揭盖草苫时间来调整，黄瓜要求较高温度，定植后整个生育期内温度控制应遵从以下原则：定植初期尽量给予较高温度，促进植株生长。开花前在同一2

5、4小时平均温度下，较大的日夜温差控制的植株营养生长旺盛，前期产量显著提高。生长前期的温度控制至关重要，产量与这一时期的温度直接相关。因此这段时间也宜尽量提高控制温度。生长后期的温度控制不严格，对产量影响不大，可降低控制要求。黄瓜生育期间最适宜地温20～25℃，最低为15℃左右。　　日光温室一大茬生产，可按日光温室本身环境的日变化，结合黄瓜在一天中不同时段的生理活动中心来进行温度环境的管理，即“四段式温度管理”。上午是黄瓜一天中光和作用最强阶段，温度控制在28±2℃；下午光照减弱，同时注意与夜间温度衔接，因此温

6、度控制在28±2℃；前半夜为促进养分运输，温度控制在17±2℃；后半夜为抑制呼吸，减少养分消耗，温度控制在12±2℃。根据上述控制指标，放风温度应控制在30±2℃，晴天取上限，阴天取下限。早晨揭苫时室内温度保持在8～10℃，当温室温度下降到20℃时应盖草苫，具体揭盖草苫时间应根据当天的天气情况，视棚内温度变化而定。　　　光照选用无滴、防雾功能膜，并经常清扫表面灰尘；在保证室内温度前提下尽量早揭、晚盖草苫；在北墙张挂镀铝反光膜，改善室内光强和光分布；栽培上采用地膜覆盖和膜下灌水技术，降低温室内湿度；采用宽窄行定

7、植，及时去掉侧枝、病叶和老叶，改善行间和下部通风透光。　　　湿度日光温室内湿度的控制主要通过放风和浇水方式来实现。冬季揭苫后短时放风排湿，时间一般10～30分钟，浇水后中午放风排湿，低温季节一般只放顶风，春季气温升高后；可以同时放顶风、腰风，放风量大小及时间长短主要根据黄瓜温度管理指标和室内外气温、风速及风向等的变化来决定。　　　肥水管理根据黄瓜需肥需水特点和根系吸肥吸水特性，肥水管理总的原则是少量多次，黄瓜肥水管理分为采收之前、开始采收至盛果期、采收后三个主要时期。采收之前适量控制肥水，防止植株徒长，促进根

8、系发育，增强植株的抗逆性。开始采收至盛果期掌握勤施少施的原则，一般自采收起每3～5天浇淡水肥一次，施肥量先轻后重，以氮磷钾复合肥为主，避免偏施氮肥，亩每次10～30千克。但在冬季严寒季节要加大浇水间隔天数，可10～20天浇一次肥水，每次要浇透，以免频繁浇水降低地温。后期及时补充有机肥，搞好叶面施肥，防止早衰。　　　二氧化碳施肥日光温室内白天二氧化碳浓度较低，每天早上揭开草苫后如不及时放风，二氧化碳可