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时间:2019-05-14
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1、实用标准文案半导体废水及废气的处理半导体废水及废气的处理2~1Q7bl0x8A9j*E6t0~2W$M5o:E%W"V;b5G 由于制程技术不断演进,使得相关供应系统等级及质量日趋精密且复杂,如毒性气体,化学药品或纯水系统等,而此物质的排放却造成环境恶化的来源之一;因此,如何处理此类高纯度且大量的毒性物质之排放,将是厂务废水,废气处理的重要工作与任务。c1K!~$v(r.Z8Q4SV!S&I7N一、首先是废水处理系统.d7N"`b,G.q m.E$C9r:])s 半导体厂废水之来源,可略分为
2、制程废水,纯水系统之废水,废气洗涤中和液废 水等三种,如表七所列。各排放水可分为直接排放及回收处理方式。 y6L(D![4T G4x1. 制程废水:7F n4q!L,}"N5n* 直接排放-HF浓废液,HF洗涤废水,酸/碱性废水,晶圆研磨废水等五种,经各分类管线排至废水厂。D%n!n5N F回收处理-有机系列(Solvent,IPA),H2SO4,DIR70%
3、,及DIR90%等,经排放收集委外处理或直接再利用。,K9o%w)B2]2.纯水系统之废水:1z;Q3*m3t;F 直接排放-纯水系统再生时之洗涤药剂混合水(含盐酸再生/洗涤液及碱洗涤液)回收处理-系统浓缩液(逆渗透膜组,超限外滤膜组)或是碱性再生废液。_,.u)J(h2l(h.e p)V8]3.废气洗涤废水#Z;n0@4[!t e直接排放-洗涤制程所排放的废气之水,均直接排放至处理厂。U"Y5"x'S)]/k至于其处理的程序及步骤,下文为其各项之说明:(o,^2w-I0E'e1. HF浓
4、废液:%Q%x u#TC+O:d5~9_'_.[此废液至处理系统后,添加NaOH提升pH值至8~10之间,注入CaCl2,Ca(OH)2与HF反应向生成CaF2污泥,即7d'D$]2y*n!f/z;l/d:lHF+CaCl2+Ca(OH)2←CaF2+HCl+H2O的反应式。;_,E*l*D+l$[,V:b/E藉此去除氟离子之浓度量,而CaF2污泥产物与晶圆研磨废液混合,且添加Polymer(高分子)增进其沈降性,以利CaF2污泥经脱水机挤压过滤。污泥饼则委托代处理业者处理。另一产物HCl酸气由处理厂废
5、气洗涤后排放,污泥滤液则注入调节池。.s+z:D3@6A G$b-H2.一般废水:)A([6u u!f.M包括HF洗涤废水,酸/碱性废水。经水系统树脂塔再生废液,废气洗涤废水等进入调节池混合均匀,稀释后泵入调整池中,添加NaOH,H2SO4等酸碱中和剂,将之调整为6.0~9.0的pH值范围后放流入园区下水道。"C u3p$@7H"F!B精彩文档实用标准文案!@.
6、:I6P3l;y4?-R6d;f3.回收处理单元:8}3}3v-T.r)x0@:H.Na.有机废液回收-将IPA溶剂、显影液及浓硫酸废液等
7、独立收集,并委外处理。-w;~)z3{$gb.浓缩液回收再利用-纯水系统设备产生之浓缩液,除供应原系统反洗,再生用外,更可补充大量飞散之冷却用水,如此不但降低排水量,亦可节省用水量。)Y8N e$K7[%
8、c.纯水供应系统回收水-目前纯水供应系统可直接回收70%至纯水制造系统,另将制程之洗涤水回收以供冷却系统及卫生用水,此部份占20%,因此,纯水供应系统回收水已可达90%。}1s1v4?)^*Pd.碱性再生废液-纯水系统碱性再生废液收集应用于废水处理系统之pH值调节用,如此可减少化学药剂之使用量。o#W
9、2q5d6P5X+v8?:g4V@2n;o/f(j0j(2)废气处理系统,Z8G%Y1A:Z/j废气产生的设备约有离子布值机,化学清洗站,蚀刻机,炉管,溅镀机,有机溶剂与气瓶柜等,其中有较高浓度污染的废气均先由该机台所属的LocalScrubber(局部洗涤机)先行处理后,在经由全厂之中央废气处理系统做三次处理后,再排入大气中,以达到净化气体之功能。;D;s#U7o5H-{v4`;E 晶圆厂的废气常含有酸,碱性或腐蚀性,故处理系统的管材就必须能耐酸、碱性或腐蚀性,故处理系统的管材就必须能耐酸、碱性,抗蚀
10、性,甚至耐高温及防水性等,故表八乃将常用材质及使用种类整理归纳。而其废气处理种类及方式如下:o}v_!O1p4}0s$Y-P#^2s4]3{0{6t6O1v#U/h6i5m1{1.一般性废气,其来源为氧化扩散炉的热气,烤箱及干式帮浦的排气,此废气可直接排放至大气。-u;F4w'l/s6H!e:d"x*x4?3S2. 酸、碱性之废气,来源为化学清洗站,具刺激性及有害人体。故一般以湿式洗涤塔做水洗处理后再排入大气。洗涤塔利用
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