半导体器件总复习

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1、雪崩击穿电子和空穴受到强电场作用，向相反的方向加速运动，获得很大的动能和很高的速度，就会发生碰撞电离，产生电子一空穴对。电子和空穴还会继续发生碰撞，产生下一代载流子。如此继续下去，载流子的数量大量增加，这种产生载流子的方式称为载流子的倍增。当反向电压增大到一数值吋，载流子的倍增如同雪崩现象一样，载流子迅速增多，使反向电压急剧增大，从而产生了PN结的击穿，称为雪崩击穿。缓变基区的自建电场（NPN晶体管）缓变基区晶体管的基区存在杂质浓度梯度，基区的多数载流子（空穴）相应具有相同的浓度分布梯度，这将导致杂质向浓度低的方向扩散，空穴一旦离开，基区的电屮性将被破坏。为了维持电中性，必然

2、在基区中产生一个电场，使空穴反方向的漂移运动来抵消空穴的扩散运动，这个电场称为缓变基区的口建电场。JFET的本征夹断电压Up0当栅压Ugs增至耗尽层宽度时，成为全沟道夹断，沟道电导下降为零，定义使导电沟道消失所加的栅■源电压为夹断电压Up,此时，栅结上相应总电势差称为本征夹断电压Up。。简要说明平衡PN结的空间电荷区是如何形成的（5分）。P型和N型半导体接触，由于在界面处存在着电子和空穴的浓度差，N区中的电子要向P区扩散，P区中的空穴要向N区扩散。这样，对于P区，空穴离开后，留下了不可动的带负电荷的电离受主，这些电离受主在PN结的P区侧形成了一个负电荷区；（2分）同样，在N区

3、由于失去电子而出现了由不可动电离施主构成的正电荷区。（2分）通常，把PN结附近的这些电离施主和电离受主所带的电荷称为空间电荷，它们所在的区域称为空间电荷区。（1分）2.双极型晶体管的基区宽变效应及其对晶体管管特性的影响？（5分）当晶体管的集电结反向偏压发生变化时，集电结空间电荷区宽度Xmc也将发生变化，所以，有效基区宽度也随着发生变化。（2分）这种由于外加电压变化，引起有效基区宽度变化的现象称为基区宽变效应。（2分）影响：使输出特性曲线向上倾斜，输出电流增加，电流放大系数增大。（1分）简要说明如何提高双极型晶体管特征频率参数齐？（5分）（1）减小基区宽度，并采用扩散基区，其屮

4、减小基区的宽度是关键。为了得到小的基区宽度，就必须采用浅结扩散。（2分）（2）尽量减小发射结面积。（1分）（3）基区扩散的薄层电阻大些，即浓度低些。（1分）（4）减小集电结面积，适当降低集电区电阻率。（1分）4.何为强反型?并用能带进行表示（5分）强反型是指表面积累的少子浓度等于其至超过衬底多数载流子浓度的状态。用能带表示为，能带弯曲到表面势等于或大于2倍费米势的状态。（3分）用Us表示表面势，屮f表示费米势，则q其中，E和Ef分别为本征与杂质费米能级。（2分）4.MOS管的沟道夹断及其对电流特性的影响。当漏一源电压增加到漏端绝缘层上的有效电压低于表面强反型所需的阈值电压Ut

5、吋，漏端绝缘层中的电力线将由半导体表面耗尽区中的空间电荷所终止，（2分）漏端半导体表面的反型层厚道为0,沟道消失（被夹断），而只剩下耗尽区，这就称为沟道夹断。（2分）对电流的影响：漏电流进入饱和，不随漏电压变化。（1分）综合题（共15分）对于一个增强型NMOS管，（1）给出衬底和沟道中的载流子类型；（2分）（2）画出增强型NMOS管输出特性曲线；（3分）（3）给出线性区饱和区的漏■源电流方程。（5分）（4）根据饱和区的漏■源电流方程和交流小信号增量参数跨导定义，推导出饱和区的跨导,并表示为漏电流的表达式。（5分）（1）衬底为P型，沟道中的载流子类型为电子；（2分）（3分）（2

6、分）（1分）（2分）线性区：I^^gs-^tWos-^ds2}w其中（3=Coxbi—饱和区（4）跨导的定义g〃严里匹（2分）%%乂3/硝0(%s-Ut门z忒;二訥％5=顷(3分)一个硅p+N结（单边突变结）的P+区的杂质浓度为lxl019cm-N区杂质浓度为为lxio16cm-3,其中硅的£v=11.8,f0=8.85xir,4F/c/7?,q=1.5x1010^3,q=L6xlO件T=3OOK(1)求平衡PN结的接触电势差（/»（2分）(2)求P+N结的最大雪崩击穿电压；（2分）(3)在反向偏压10伏时，求出势垒区的宽度和最大电场强度，画出电场强度的分布。(1)rzkT

7、.NnN.CMClxl0,9xlxl016UD=—InzA=0.026In而〒~dqn；(1.5X1O10)2=0.278V（2分）(2)=6xlO,3ND~3M=6x10bx(10,6)_3/4=60V（2分）（3）势垒区的宽度1/2_2x8.85xl0',4xl1.8x(0.28+10)'_1016xl.6xl0-19_1/2Xm=1.58xl0~4c/n=1.58////2分）最大电场强度丄2x1x10"xl.6xl0T9x(0.28+10)F11.8x8.85xl0Z14（2分）=1.77xl