2020版高考化学大一轮复习模块综合检测（选修3）

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1、模块综合检测(时间：45分钟　分值：90分)1．(15分)(2019·山西重点中学协作体期末)现有前四周期T、X、Y、Z、W、M六种元素，已知W、Z、X、T、Y五种非金属元素原子半径依次减小，其中W原子的s电子总数等于p电子总数的2倍，M原子的M能层上有4个未成对电子。请回答下列问题：(1)写出W、Z、X、T四种元素第一电离能由大到小的顺序：____________(用元素符号表示)。(2)基态M原子的核外电子排布式为__________________________。(3)根据VSEPR理论，推断出由W与X两元素组成的最简单二价阴离

2、子的立体构型为____________，W原子的杂化类型为____________。(4)Y与T、X、Z、W所形成的最简单化合物的沸点由高到低的顺序为__________________________(用化学式表示)。解析：根据题中信息“W原子的s电子总数等于p电子总数的2倍”可知，W的电子排布式是1s22s22p2，则W是碳元素；又知“W、Z、X、T、Y五种非金属元素原子半径依次减小”，根据元素周期律可推知Z是氮元素，X是氧元素，T是氟元素，Y是氢元素；“M原子的M能层上有4个未成对电子”，则M的电子排布式是1s22s22p63s2

3、3p63d64s2，即M是铁元素。(1)C、N、O、F四种元素位于同一周期，随原子序数增大，第一电离能呈增大趋势，但N元素反常，因此第一电离能由大到小的顺序是F>N>O>C。(3)C和O两种元素组成的最简单的二价阴离子是CO，该离子的中心原子的价层电子对数是3，孤电子对数是0，因此其立体构型是平面三角形，C原子的杂化类型为sp2杂化。(4)H与F、O、N、C所形成的最简单化合物分别是HF、H2O、NH3、CH4，其中HF、H2O、NH3分子之间都存在氢键，它们的沸点都比没有氢键的CH4高，常温下H2O为液态，HF、NH3为气态，标准状况

4、下HF为液态，NH3仍为气态，因此四种氢化物的沸点由高到低的顺序为H2O>HF>NH3>CH4。答案：(1)F>N>O>C(2)1s22s22p63s23p63d64s2(或[Ar]3d64s2)(3)平面三角形　sp2(4)H2O>HF>NH3>CH42．(15分)硼及其化合物应用广泛。回答下列问题：(1)基态B原子的价电子排布图为__________________________，其第一电离能比Be________(填“大”或“小”)。(2)氨硼烷(NH3BH3)被认为是最具潜力的新型储氢材料之一，分子中存在配位键，提供孤电子对的

5、成键原子是________；写出一种与氨硼烷互为等电子体的分子：________(填化学式)。(3)常温常压下硼酸(H3BO3)晶体结构为层状，其二维平面结构如图a。①B原子的杂化方式为________。从氢键的角度解释硼酸在冷水中的溶解度小而加热时溶解度增大的原因：___________________________。②路易斯酸碱理论认为，任何可接受电子对的分子或离子叫路易斯酸，任何可给出电子对的分子或离子叫路易斯碱。从结构角度分析硼酸是路易斯酸：_____________。(4)立方氮化硼(BN)是特殊的耐磨和切削材料，其晶胞结构

6、与金刚石相似，如图b所示。①与氮原子直接连接的硼原子构成的几何形状为________。硼原子和氮原子所连接的最小环为________元环。②晶胞有两个基本要素：ⅰ.原子坐标参数，表示晶胞内部各原子的相对位置。如图b所示，其中X原子的坐标参数为(0，0，0)，Y原子的坐标参数为(，0，)，则Z原子的坐标参数为________。ⅱ.晶胞参数，描述晶胞的大小和形状。已知立方氮化硼的密度为dg·cm－3，阿伏加德罗常数的值为NA，则晶胞参数a＝______________nm(列出计算式即可)。答案：(1)　小(2)N　C2H6(3)①sp2　

7、硼酸分子间通过氢键缔合，加热时部分氢键被破坏　②硼酸分子中B原子有一个2p空轨道(4)①正四面体　六　②(，，)　×1073．(15分)山西大学分子科学研究所翟华金教授、李思殿教授与清华大学李隽教授、美国布朗大学LaiShengWang教授及复旦大学刘智攀教授课题组合作，首次合成“中国红灯笼分子”——硼球烯B40。B40是继C60之后第二个从实验和理论上完全确认的无机非金属笼状团簇。(1)C60中碳原子杂化方式为____________。(2)构成C60晶体的作用力是____________。(3)与硼同周期但第一电离能比硼大的元素有_

8、___________种。(4)磷化硼(BP)是由硼元素与磷元素组成的无机化合物，属于一种半导体材料。磷化硼可由三溴化硼和三溴化磷在氢气中高温反应合成。BP晶胞中B采用面心立方堆积，P原子填入四面体空隙中。