半导体生产用高纯气体供应系统

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1、洁净与空调技术半导体生产用高纯气体供应系统中国电子工程设计院陈霖新、,文摘本文简介半导体用高纯气的种类品质要求和供应系统对以超大规模集成电路、,为代表的半导体高纯气的制取纯化和高纯气配管技术进行了介绍可供从事高纯气供气系统、。设计施工和运营人员参考关键词高纯气体供气系统制取纯化配管为旧‘日,,甲七详甲习以眠脚而比丘月,邝叭罗仆司面眠脚加朗习记几此记淤欢却祀示创蚊脚饰吨难,若不能及时解救也会有危险甚至死亡,这类气概述、、、体有姚伍等半导体生产用高纯气可分为两大类腐蚀性气体,通常遇水就显示其腐蚀,、、。是普通气体的高纯气或称大宗气体

2、的高性如几等许多气体同时兼有多种,。,、、。纯气另一为特种气体大宗气体主要有氢气性质在这些气体输送储运使用中应予重视、、、、。,玩氮气凡氧气仇氢气等半导体生产用气体不仅种类多而且更、〕、、、。特种气体主要有残几七重要的是对气体品质有很严格的要求,、、、、、、、、在时高纯气体中的凡玩拙、、、、、、、、、、。仇杂质含量要求控制仪一以科凡玩即,、、、、⋯⋯等,、、、。时则要求控制高纯气体中的珑仇场以及它们与姚几的混合气体等,若,可分残的浓度为气体中微粒粒径脚以上述半导体气体使用时危险性的分类为的粒子数而的生产要求、、,、,、、可燃自燃

3、可燃气体在空气等助燃高纯气中杂质含量珑仇,、,气体中点火就会燃烧可燃易燃气体都有一定的场微粒粒径脚的粒子数,着火燃烧爆炸范围此范围越大的气体则爆炸危。,、、、、、险越高属于此类气体如姚凡几玩表是半导体工业协会和国际、玩、、等半导体发展委员会对集成电路制造所需普。有毒气体,半导体气体很多是对人体通高纯气体的品质预测对特种气体的品质控制、,、、,要求是根据产品生产工艺要求或各类气体的用途有害有毒如巧氏等气体毒性很大在。空气中的允许浓度极微,在储运、使用中应特别小确定心高纯气体供应助燃气体,这些气体自身不能燃烧,但、,,若与可燃物可燃

4、气体接触将帮助燃烧容易燃普通高纯气供气系统、,、,、烧加速燃烧应在储运使用中倍加注意如仇普通高纯气的供气系统方式有现场制气,由、、从凡⋯⋯等管道输送至用气点外购液态气体,气化后供气窒息性气体,这类气体性质稳定,不燃外购气体钢瓶或集装式钢瓶组或长罐拖车,减压,,。,也无毒性但当它们排放在不通风的场所时若空后供气具体某一工业企业采用那一种方式应,、气中氧含量降到以下时因缺氧使人呼吸困根据工厂的规模用气量和用气品质要求以及当··沉坦年第期。地或周边地区的气体状况等因素经认真的技术经济比较后确定衰认对集成电路生产用普通商纯气品质的趋势预

5、测时间理〕五刃万仪旧线宽脚’肠气体中杂质氏、仇、、仇、践允许量“每种气体中颗粒刃肠仍工粒径脚夕,,,现场制气管道供气通常在用气较大或意图为平衡用气负荷一般设液态气储罐或高中压用气品种较多的工厂内或工厂邻近处或楼,,区域设置储气罐对低温空分装置通常设液态气储罐储气中,,。制气装置向工厂或邻近工厂管道供气为调节负荷压储罐作缓冲罐对氢气生产通常用高中压储气罐。,常设置气体灌充装置或生产液态气体外销据了解根据用气品质和制气装置生产气体的纯度可在制。。国内这种形式日渐增多图是这种供气方式的示气装置或用气车间设气体纯化装置至用气点制气装置图

6、现场制气管道供气系统示意图一气压储气罐一调式阀一计量装置一气体纯化装置一气体过滤装置厅液态气一气化器外购液态气体供气系统,由集中制气购液态气的品质或杂质含量不能满足产品生产的,,厂生产液态气用液态气槽车运至使用工厂一般需要时可在车间内设气体纯化设备去除杂质提在使用工厂内设液态气储罐,将槽车内液态气倒纯气体。一般在车间人口处或末端应设置精度气,。人储罐内储存根据工厂的用气情况液态气经气体过滤器化器气化后供应,图是这种方式的示意图,如外几图液态气体供气系统示意图一一一一一一一液态气槽车液态气储罐气化器调压阀计量装置气体纯化设备气体过

7、滤器外购气体钢瓶供气系统,外购气体钢计量装置计量后送各用气设备,根据产品生产的瓶集中储放在工厂的气瓶间库内,或将长罐拖要求,有的用气设备尚应设末端纯化设备去除杂车通常用,以。口于氢气的输送储量扩左右设在质与前述种供气系统一样在车间人或末端,。厂区内规定的场所气瓶中的高压气体经减压和应设末端高精度气体过滤器图是这种供气系调压后送出,一般气瓶中的气体纯度为左统的示意图。右或更低,通常应设气体纯化设备纯化气体后经洁净与空调技术图钢瓶供气系统示意图一一一一一一钢瓶组成汇流排调压阀气体纯化设备计量装置末端气体纯化设备气体过滤器,、、特种气

8、体供应半导体生产用特种气体仇玩。的各自含量或用于、,的品种多单种气体的用量较少一般均采用各种大规模集成电路生产,通常可采用①以低温分离容量的钢瓶供应,特气钢瓶可在厂区内或车间内法得到的的普通氧或液态氧气经催化吸,,、、、设特气瓶间库储存在车间集中设置或在用气附法

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