金属烤瓷修复体崩瓷原因及临床修补原理

金属烤瓷修复体崩瓷原因及临床修补原理

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1、金属烤瓷修复体崩瓷原因及临床修补原理作者:林晓华 文章来源: 2006-12-1814:28:42       【请投稿博客】【打印】【关闭】  [摘要]随着烤瓷熔附金属修复体的广泛应用,相应的出现了一些问题。本文主要针对金属烤瓷修复过程中常出现的崩瓷现象,分析其发生的原因及出现崩瓷后如何在临床上进行修补。  [关键词]烤瓷熔附金属修复体崩瓷瓷裂瓷剥脱  烤瓷熔附金属修复体(Porcelain-Fused-to-Metal简称PFMC)自1950年问世以来,在不断的发展中日趋完善。因其色泽美观质感逼真具有良好的机械性能,能很好地恢复缺失牙的形态和功能,广泛应用于牙体缺损和牙列缺损的修复

2、。该项修复技术也常作为牙齿美容的主要项目,深受患者喜爱。但是应用PFMC后,临床上还会遇到一些问题,如崩瓷﹑色调不准﹑透明感差﹑颈缘变色,如牙体龋坏未进行彻底治疗还可继发牙髓病根尖周病等。其中最常见的就是崩瓷,即由于在金属烤瓷修复过程中的操作﹑设计疏漏和患者使用不当(如咬过硬物体)导致修复体粘固在口内后出现瓷部分或全部从修复体上崩脱的现象,它包括瓷折裂与瓷剥脱。PFMC发生崩瓷后最理想的处理方法是重作,但有时因患者的时间﹑经济原因及可能对基牙造成损害等原因不宜重作,此时口内直接修复崩瓷的研究就是一件十分有意义的工作。本文主要对崩瓷的原因进行探讨,并对现有的崩瓷修补方法原理进行分析。  

3、一.金属烤瓷修复体发生崩瓷的主要原因  1.适应症选择不当:①患者合力过大,或因职业因素而易造成前牙折裂者;②患者严重深覆合﹑咬合紧,在没有矫正而又无法预备出足够的空间者。在上述的情况下,个别前牙的牙体缺损就不应选择烤瓷修复。  2.金属底冠外形不符要求:①底层冠太薄或厚薄不均②底层冠有穿孔③底层冠表面深凹或锐角造成应力集中。底层冠应有一定的厚度和强度才不致因变形而崩瓷。金属烤瓷冠底层冠厚度不应小于0.2mm。而造成基底冠不合要求的原因主要是牙体预备不规范,使得蜡型制作中厚度达不到均匀一致。金属底层冠厚薄不均使得底层冠热膨胀收缩不均,造成瓷层内存在较大而不利的残余应力,从而导致了崩瓷。

4、而临床上常因各种原因造成打磨不当使基底冠边缘或局部过薄,而当金瓷冠受力就位时,金属底冠易变形而致崩瓷。因此在技工制作过程中切割铸道时,注意切片不要距基底冠切端过近;调磨时用卡尺控制表面厚度,特别注意边缘厚度,对防止崩瓷是有意义的。底层冠有穿孔而导致崩瓷并不绝对是因为瓷无底衬支持,而可能由于周围很薄的金属引起,试冠就位时易使薄的金属变形而致烤瓷折裂。在临床上对修复唇舌径较薄咬合紧的切牙,往往在牙体预备时以及在形成金属底冠时,易将切缘形成锐角,合力易集中在锐角处,引起崩瓷  3.金瓷结合线的位置:在金属烤瓷冠作为修复设计时,因为金瓷结合线是个薄弱区域,因此金瓷连接不应在正中合接触区。应距正

5、中咬合区2mm处,以免对此交接处施加咬合力而造成崩瓷。另外,在正中合和非正中合不应存在合干扰。  4.瓷层局部过厚﹑过长:金属底冠表面和切端应磨出1~1.5mm的瓷层厚度,在临床上常因各种原因造成瓷层局部过厚﹑过长,瓷的热传导性较差,在烧成冷却过程中,表面瓷冷却收缩的瞬间,内层与表层瓷之间存在较大的温差,内层瓷将限制表层瓷的收缩,致使表层瓷内产生张应力,出现微裂。同时过厚的瓷层,气孔率出现机会增高,会降低瓷层的强度。切端瓷层过长,缺乏金属底冠支持更易致崩瓷。而为了美观采取的全瓷缘技术如颈缘游离瓷过长,则组织面易有早接触,冠戴入时易形成支点,造成局部压力过大而致瓷剥脱。  5.喷砂不当:

6、用40~80目的Al2O3喷砂,可以形成粗度适宜的金属表面,以利瓷的熔附。因为粗糙的金属表面不仅增加了与瓷的机械嵌合作用,也增加了金属与瓷的结合面积,使单位面积的氧化物增多,因而提高了金-瓷间的化学结合。但过于粗糙的金属表面会造成界面应力集中及界面气泡而导致金-瓷间结合强度下降。6.金属表面清洁不当:因金属表面被瓷浸湿的越好,粘接性能越强,如果金属表面不清洁,将阻止合金表面浸湿,减少合金与瓷的吸附粘接强度。基底冠在堆瓷前最好用高浓度的乙醇﹑丙酮或30%的盐酸处理并加用超声波清洗15分钟,可增加金瓷结合和减少烧结气泡。  7.忽略除气:被融化的合金在离心浇铸过程中,晶间带入少量气体是必然

7、的,而气泡存在降低金-瓷结合强度。通过除气可去除金属表面有机物和释放金属表层气体,以防发生瓷泡,并消除可能对金-瓷结合产生的不利因素。  8.预氧化不足或过分:预氧化是指合金在一定条件下表面形成一薄层氧化物,而合金表面的氧化层又是化学结合的必备条件。氧化层过薄,不能提供足够的金-瓷化学结合和良好的润湿效果;氧化层过厚,此氧化层热膨胀系数与瓷不匹配,在金-瓷复合体加热冷却过程中,就会形成薄弱易损的残余应力而导致界面直接折裂。理想的氧化层应为0.2

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