薄膜制备技术基础(原著第4版)

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1、薄膜制备技术基础（原著第4版）作者：[日]麻蒔立男出版社：化学工业出版出版日期：2009年5月开本：16开册数：1册光盘数：0定价：39.8元  优惠价：36元进入20世纪，书籍已成为传播知识、科学技术和保存文化的主要工具。随着科学技术日新月异地发展，传播知识信息手段，除了书籍、报刊外，其他工具也逐渐产生和发展起来。但书籍的作用，是其他传播工具或手段所不能代替的。在当代,无论是中国，还是其他国家，书籍仍然是促进社会政治、经济、文化发展必不可少的重要传播工具。详细介绍：第1章薄膜技术 11生物计算(biocomputing)和薄膜技术 12医用微型机械 13人工脑的实现

2、（μElectronics） 14大型显示的实现 15原子操控 16薄膜技术概略 参考文献 第2章真空的基础 21真空的定义 22真空的单位 23气体的性质 231平均速率 Va 232分子直径 δ 233平均自由程 L 234碰撞频率 Z 24气体的流动和流导 241孔的流导 242长管的流导 （L/a≥100） 243短管的流导 244流导的合成 25蒸发速率 参考文献 第3章真空泵和真空测量 31真空泵 311油封式旋片机械泵 312油扩散泵 313吸附泵 314溅射离子泵 315升华泵 316

3、冷凝泵 317涡轮泵（分子泵）和复合涡轮泵 318干式机械泵 32真空测量仪器——全压计 321热导型真空计 322电离真空计——电离规 323磁控管真空计 324盖斯勒（Geissler）规管 325隔膜真空计 326石英晶振真空计 327组合式真空规 328真空计的安装方法 33真空测量仪器——分压计 331磁偏转型质谱仪 332四极质谱仪 333有机物质质量分析IAMS法 参考文献 第4章真空系统 41抽气的原理 42材料的放气 43抽气时间的推算 44用于制备薄膜的真空系统 441残留气体 442

4、用于制备薄膜的真空系统 45真空检漏 451检漏方法 452检漏应用实例 参考文献 第5章薄膜基础 51气体与固体 511化学吸附和物理吸附 512吸附几率和吸附（弛豫）时间 52薄膜的生长 521核生长 522单层生长 53外延基板晶体和生长晶体之间的晶向关系 531外延生长的温度 532基板晶体的解理 533真空度的影响 534残留气体的影响 535蒸发速率的影响 536基板表面的缺陷——电子束照射的影响 537电场的影响 538离子的影响 539膜厚的影响 5310晶格失配 54非晶膜层 54

5、1一般材料的非晶化（非薄膜） 542非晶的定义 543非晶薄膜 544非晶Si膜的多晶化 55薄膜的基本性质 551电导 552电阻率的温度系数（TCR） 553薄膜的密度 554时效变化 555电解质膜 56薄膜的内部应力 57电致徙动 本章小结 参考文献 第6章薄膜的制备方法 61绪论 62源和膜的组分——如何获得希望的膜的组分 621蒸发和离子镀 622溅射法 63附着强度 631前处理 632蒸发时的条件 633蒸发法和溅射法的比较(基板不加热情况） 634蒸发、离子淀积、溅射的比较（加热、离子轰击

6、等都进行情况） 64台阶覆盖率、绕进率、底部覆盖率——具有陡峭台阶的凹凸表面的薄膜制备 65高速热处理装置（Rapid Thermal Annealing，RTA） 66等离子体及其在膜质的改善、新技术的开发方面的应用 661等离子体 662等离子体的产生方法 663基本形式和主要用途 67基板传送机构 68针孔和净化房 参考文献 第7章基板 71玻璃基板及其制造方法 72日常生活中的单晶制造及溶液中的晶体生长 73单晶提拉法——熔融液体中的晶体生长 731坩埚中冷却法 732区熔法（Zone Melting，Flot Zone,FZ法） 

7、733旋转提拉法（切克劳斯基Czochralski, CZ法） 74气相生长法 741闭管中的气相生长法 742其他气相生长法 75石英玻璃基板 76柔性基板（Flexible） 参考文献 第8章 蒸镀法 81蒸发源 811电阻加热蒸发源 812热阴极电子束蒸镀源 813中空阴极放电（HCD）的电子束蒸发源 82蒸发源的物质蒸气分布特性和基板的安置 83实际装置 84蒸镀时的真空度 85蒸镀实例 851透明导电膜In2O3SnO2系列 852分子束外延（