大功率直流磁控溅射开关电源的设计与实现

大功率直流磁控溅射开关电源的设计与实现

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时间:2018-08-06

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1、中图分类号:TM911密级:公开UDC:本校编号:硕士学位论文论文题目:大功率直流磁控溅射开关电源的设计与实现研究生姓名:马腾飞学号:0207428学校指导教师姓名:魏宗寿职称:研究员申请学位等级:工学硕士专业:控制理论与控制工程论文提交日期:2010.6.17论文答辩日期:2010.6.5独创性声明本人声明所呈交的学位论文是本人在导师指导下进行的研究工作和取得的研究成果,除了文中特别加以标注和致谢之处外,论文中不包含其他人已经发表或撰写过的研究成果,也不包含获得兰州交通大学或其他教育机构的学位或证书而使用过的材料。与我一同工作的同志对本研究

2、所做的任何贡献均已在论文中作了明确的说明并表示了谢意。学位论文作者签名:签字日期:年月日学位论文版权使用授权书本学位论文作者完全了解兰州交通大学有关保留、使用学位论文的规定。特授权兰州交通大学可以将学位论文的全部或部分内容编入有关数据库进行检索,并采用影印、缩印或扫描等复制手段保存、汇编以供查阅和借阅。同意学校向国家有关部门或机构送交论文的复印件和磁盘。(保密的学位论文在解密后适用本授权说明)学位论文作者签名:导师签名:签字日期:年月日签字日期:年月日硕士学位论文大功率直流磁控溅射开关电源的设计与实现TheDesignandImplement

3、ationofHigh-powerDCMagnetronSputteringSwitchingPowerSupply作者姓名:马腾飞学科、专业:控制理论与控制工程学号:0207428指导教师:魏宗寿完成日期:2010.5兰州交通大学LanzhouJiaotongUniversity兰州交通大学硕士学位论文摘要从工业生产到日常生活,开关电源与人们息息相关,且其在体积和效率等方面相对于线性电源具有无可比拟的优势,因此在许多领域中得到广泛应用。半导体技术的发展,大功率开关管、快恢复二极管以及其它元器件性能的大大提高,为高频开关电源的发展创造了有利条

4、件。本文所设计的是针对大型真空镀膜设备所需的直流磁控开关电源。论文首先介绍了目前开关电源的发展现状以及趋势、开关电源原理,简单介绍了磁控溅射工艺环节的原理,以及溅射镀膜技术的应用领域。然后论证了各种开关电源主电路的拓扑结构,并分析它们的优缺点,确定以全桥式变换器拓扑作为主电路形式,选用MOSFET作为功率开关管。控制电路设计中选用由ST(意法半导体)公司生产设计的SG3525PWM脉冲控制器,并设计电压反馈电路、电流反馈电路、保护电路、驱动电路等。论文还介绍了开关电源中所用到的磁性原件,对高频开关电源变压器主要参数的确定、磁芯和高频磁线的选择

5、进行了研究。最后根据上述研究制作一台样机,在实际应用中表明,该样机能适应输入电压大范围的波动,并可根据设定输出所要求的稳定电压。该电源具有高可靠性,能广泛应用于各种真空镀膜设备当中,不受来自工业现场的干扰,具有一定的先进性和广阔的应用前景。该电源已用于实际生产当中。关键词:开关电源;磁控溅射;SG3525;PWM;MOSFET;论文类型:应用研究-I-兰州交通大学硕士学位论文AbstractSwitchingpowersupplyiscloselyrelatedtopeople'sproductionandlifeinindustrialpr

6、oductionanddailylife.Itiswidelyusedinmanyfieldsbecauseofitssizeandefficiencyrelativetoalinearpowersupplywithincomparableadvantages.Thedevelopmentofsemiconductortechnology,high-powerswitchtube,fastrecoverydiodesandothercomponentsofthegreatlyimprovedperformancehascreatedfavor

7、ableconditionsforthedevelopmentforhigh-frequencyswitchingpowersupply.ThisarticleisdesignedforDCmagnetronswitchingpowersupplyoflargevacuumcoatingequipment.Thispaperdescribesthestatusofthedevelopmentofswitchingpowersupplies,aswellasthetrendofswitchingpowersupplytheory,briefly

8、introducedtheprincipleofmagnetronsputteringtechnologyandprocessareas,aswellassputt

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