【化学】2015年湖南省益阳市箴言中学高考三模试卷

【化学】2015年湖南省益阳市箴言中学高考三模试卷

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1、2015年湖南省益阳市箴言中学高考化学三模试卷一、选择题(本题共20小题,每小题只有一个选项符合题.每小题3分,共60分)1.(3分)(2015•赫山区校级三模)化学在生产和日常生活中有着重要的应用.下列说法不正确的是()A.明矾水解形成的Al(OH)3胶体能吸附水中悬浮物,可用于水的净化B.在海轮外壳上镶入锌块,可减缓船体的腐蚀速率C.“静电除尘”、“燃煤固硫”、“汽车尾气催化净化”都能提高空气质量D.电解MgCl2溶液,可制得金属镁2.(3分)(2015•赫山区校级三模)化学与社会、生活密切相关.对下列现象或事实的解释正确的是()选项现象或事实解释A用浸泡酸性高

2、锰酸钾溶液的硅土延长果实的成熟利用乙烯可以发生加成反应B施肥时,草木灰(有效成分为K2CO3)不能与NH4Cl混合使用K2CO3与NH4Cl反应生成氨气会降低肥效CSO2能使品红溶液褪色SO2具有还原性DFeCl3溶液可用于铜质印刷线路板制作FeCl3能从含有Cu2+的溶液中置换出铜A.AB.BC.CD.D3.(3分)(2015•赫山区校级三模)用NA表示阿伏加德罗常数的值,下列叙述中正确的是()A.78g苯含有C=C双键的数目为3NAB.常室温下,1LpH=13的Ba(OH)溶液中,溶液中的OH﹣离子数目为0.2NA39C.0.1molMg在空气中完全燃烧生成Mg

3、O和Mg3N2,转移的电子数为0.2NAD.含2molH2SO4的浓硫酸与足量铜片在加热条件下反应,产生NA个SO2气体分子4.(3分)(2015•赫山区校级三模)下列说法不正确的是()A.铜片在稀硫酸和NaNO3混合溶液中可溶解B.常温常压下,46gNO2和N2O4混合气体共含有3mol原子C.光纤通讯中制造光纤的基本原料是SiO2D.光照氯水有气泡逸出该气体是Cl25.(3分)(2015•赫山区校级三模)下列试剂的保存方法正确的是()A.氢氟酸保存在玻璃瓶中,烧碱溶液存放在带有玻璃塞的试剂瓶中B.水玻璃存放在滴瓶中,硝酸银溶液保存在无色广口瓶中C.少量金属钠保存

4、在煤油中,少量白磷保存在水中D.液溴直接存放在棕色滴瓶中,浓硝酸保存在带橡胶塞的无色玻璃瓶中6.(3分)(2015•赫山区校级三模)下列有关溶液组成的描述合理的是()A.常温下在c(H+)=1×10﹣13mol/L的溶液中能大量存在Mg2+、Cu2+、SO42﹣、NO3﹣B.使甲基橙试液变红的溶液中可能大量存在Na+、ClO‾、SO42‾、I‾使PH试纸变蓝的溶液中可大量存在Na+、K+、AlO2﹣、CO32﹣39C.D.常温下,在水电离产生的c(H+)×c(OH﹣)=1×10﹣24的溶液中可大量存在Fe2+、Cl﹣、NO3﹣、K+7.(3分)(2015•赫山区校级

5、三模)下列反应的离子方程式正确的是()A.碳酸钙跟醋酸反应:CaCO3+2H+═Ca2++H2O+CO2↑B.硫酸铝溶液中加过量氨水:Al3++3NH3•H2O═Al(OH)3↓+3NH4+C.向足量的溴化亚铁溶液中通入少量的氯气:2Fe2++4Br﹣+3Cl2═2Fe3++2Br2+6Cl﹣D.碳酸氢钠溶液与足量的氢氧化钡溶液混合:Ba2++2OH﹣+2HCO3﹣═BaCO3↓+CO32﹣+2H2O8.(3分)(2013•大连模拟)某溶液中只可能含有下列离子中的几种(不考虑溶液中含的较少的H+和OH﹣)Na+、NH4+、SO42﹣、CO32﹣、NO3﹣.取200m

6、L该溶液,分为等体积的两份分别做下列实验.实验1:第一份加入足量的烧碱并加热,产生的气体在标准状况下为224mL.实验2:第二份先加入足量的盐酸,无现象,再加足量的BaCl2溶液,得固体2.33g.下列说法正确的是()A.该溶液中可能含有Na+B.该溶液中肯定含有NH4+、S042﹣、CO32﹣、NO3﹣C.该溶液中一定不含NO3﹣D.该溶液中一定含Na+,且c(Na+)≥0.1mol/L9.(3分)(2015•赫山区校级三模)下列图示实验合理的是()39A.图1为证明非金属性强弱:S>C>SiB.图2为制备少量氧气C.图3为配制一定物质的量浓度的硫酸溶液D.图4为

7、制备并收集少量NO2气体10.(3分)(2012•太原一模)X、Y、Z、W为周期表中前20号元素中的四种,原子序数依次增大,W、Y为金属元素,X原子的最外层电子数是次外层电子数的3倍,Y、Z位于同周期,Z单质是一种良好的半导体.W能与冷水剧烈反应,Y、Z原子的最外层电子数之和与X、W原子的最外层电子数之和相等.下列说法正确的是()A.原子半径:W>Y>Z>XB.气态氢化物的稳定性:X<ZC.最高价氧化物对应水化物的碱性:Y>WD.Y、Z的氧化物都有酸性和碱性11.(3分)(2015•辽宁模拟)三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中

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