聚吡咯分子印迹膜修饰电极研究(可编辑)

聚吡咯分子印迹膜修饰电极研究(可编辑)

ID:17510241

大小:149.00 KB

页数:47页

时间:2018-09-02

聚吡咯分子印迹膜修饰电极研究(可编辑)_第1页
聚吡咯分子印迹膜修饰电极研究(可编辑)_第2页
聚吡咯分子印迹膜修饰电极研究(可编辑)_第3页
聚吡咯分子印迹膜修饰电极研究(可编辑)_第4页
聚吡咯分子印迹膜修饰电极研究(可编辑)_第5页
资源描述:

《聚吡咯分子印迹膜修饰电极研究(可编辑)》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在教育资源-天天文库

1、聚吡咯分子印迹膜修饰电极研究学校代码:中图分类号::密级:公开篙越天淫硕士学位论文聚吡咯分子印迹膜修饰电极的研究南开大学研究生院二。一一年五南开大学学位论文使用授权书根据《南开大学关于研究生学位论文收藏和利用管理办法》,我校的博士、硕士学位获得者均须向南开大学提交本人的学位论文纸质本及相应电子版。本人完全了解南开大学有关研究生学位论文收藏和利用的管理规定。南开大学拥有在《著作权法》规定范围内的学位论文使用权,即:学位获得者必须按规定提交学位论文包括纸质印刷本及电子版,学校可以采用影印、缩印或其他复制手段保存研究生学位论文,并编入《南开大学

2、博硕士学位论文全文数据库》;为教学和科研目的,学校可以将公开的学位论文作为资料在图书馆等场所提供校内师生阅读,在校园网上提供论文目录检索、文摘以及论文全文浏览、下载等免费信息服务;根据教育部有关规定,南开大学向教育部指定单位提交公开的学位论文;学位论文作者授权学校向中国科技信息研究所和中国学术期刊光盘电子出版社提交规定范围的学位论文及其电子版并收入相应学位论文数据库,通过其相关网站对外进行信息服务。同时本人保留在其他媒体发表论文的权利。非公开学位论文,保密期限内不向外提交和提供服务,解密后提交和服务同公开论文。论文电子版提交至校图书馆网站

3、:://...:/.。本人承诺:本人的学位论文是在南开大学学习期间创作完成的作品,并已通过论文答辩;提交的学位论文电子版与纸质本论文的内容一致,如因不同造成不良后果由本人自负。本人同意遵守上述规定。本授权书签署一式两份,由研究生院和图书馆留存。作者暨授权人签字:程雪。一一一年月日南开大学研究生学位论文作者信息聚吡咯分子印迹修饰电极的研究论文题目程雪姓名学号答辩日期年月日博士口论文类别学历硕士一硕士专业学位口高校教师口同等学力硕士口化学学院专业分析化学院/系/所...通信地址邮编:天津南开大学化学楼南楼否备注:是否批准为非公开论文注:本授权

4、书适用我校授予的所有博士、硕士的学位论文。由作者填写一式两份签字后交校图书馆,非公开学位论文须附《南开大学研究生申请非公开学位论文审批表》。南开大学学位论文原创性声明本人郑重声明:所呈交的学位论文,是本人在导师指导下进行研究工作所取得的研究成果。除文中已经注明引用的内容外,本学位论文的研究成果不包含任何他人创作的、已公开发表或者没有公开发表的作品的内容。对本论文所涉及的研究工作做出贡献的其他个人和集体,均已在文中以明确方式标明。本学位论文原创性声明的法律责任由本人承担。学位论文作者签名:年月日程雪非公开学位论文标注说明本页表中填写内容须打

5、印根据南开大学有关规定,非公开学位论文须经指导教师同意、作者本人申请和相关部门批准方能标注。未经批准的均为公开学位论文,公开学位论文本说明为空白。论文题目口限制≤年口秘密≤年口机密≤年申请密级保密期限年月日至年月日年月批准日期审批表编号日南开大学学位评定委员会办公室盖章有效注:限制★年可少于年:秘密★年可少于年:机密★年可少于年摘要摘要分子印迹聚合物口是一种对某一目标分子具有特异性识别能力的人工合成聚合物,其机理类似于抗原抗体的机理,功能单体同模板分子作用可形成对模板分子“量身定做的空腔。电化学传感器将目标分析物的信号转化为可测量的电信号

6、,它具有灵敏度高、成本低、易于微型化自动化、操作简单等诸多优点。结合分子印迹技术制备的分子印迹聚合物膜同电化学传感器制备的生物传感器,具有可观的应用前景和重要的研究意义。槲皮素是自然界中分布最广泛的黄酮类化合物。广泛存在于许多植物中,包括多种蔬菜、水果、以及多种药用植物中均含有此成分。槲皮素具有还原性,因此能对抗自由基,络合和捕获自由基防止氧化反应,具有抗炎、抗过敏、降血压、抗血小板凝聚、抗氧化、抗肿瘤等药理作用对癌症、衰老、心血管疾病的治疗和预防有重要的意义,具有较大的开发价值,所以倍受人们的关注。本论文研究了以槲皮素为模板分子,聚吡咯

7、为功能单体的不同印迹材料基质的修饰电极。共分三部分,包括绪论、聚吡咯分子印迹膜修饰电极测定槲皮素、//溶胶凝胶分子印迹膜的合成初探。第一章为绪论部分。对化学修饰电极,分子印迹技术,分子印迹膜修饰的电化学传感器进行了详细的总结。第二章采用电方法合成聚吡咯分子印迹聚合物膜修饰电极的研究。使用电化学方法在玻碳电极表面原位合成了槲皮素分子印迹聚合物膜,制成了分子印迹聚合物膜修饰电极.。探讨了合成以及测定的最佳条件,线性范围././,检测限为.×一/。采用同为黄酮类的芦丁作为干扰物,.能够对于一定程度排除芦丁的干扰。第三章是合成//印迹槲皮素溶胶凝

8、胶.,用旋涂法将溶胶修饰在电极表面。将和制成共混型溶胶,并探讨了两种物质的含量、配比对于成膜的影响,作为功能单体其含量的影响,利用循环伏安法并对电极的印迹效果进行了测定,总结出最优的合成条件。

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。