附件二漳州古雷环境监测站实验室仪器设备（合同包2）

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1、附件二：漳州市古雷环境监测站实验室仪器设备(合同包2)招标技术参数及要求及评标办法序号货物名称招标参数1ICP★1、仪器总体描述仪器为一体化台式设计，ICP-OES占地面积≤0.59㎡（提供证明文件，否则视为本项技术参数负偏离）；垂直火炬双向观测全谱直读型电感耦合等离子体发射光谱仪；具有多元素同时分析、分析速度快、分析元素多、线性范围宽、检出限低和稳定性高的特点。广泛应用于各行业的科研和生产过程分析，可方便的进行定性、半定量和精确的定量分析，是常量、微量和痕量无机元素同时分析的理想仪器。2、技术参数：2.1、光学系统★

2、2.1.1、整个中阶梯光学系统无任何移动部件，所有光学元件均密封于35℃恒温光室中，保证最低的检出限和优异的长期稳定性。★2.1.2、中阶梯光栅+CaF2棱镜交叉色散多色器系统，波长连续覆盖167〜785nm，无任何波长断点，焦距:0.400米，光栅刻线：94.74条/mm。2.1.3、测定方式：紫外和可见区由同一狭缝，同一检测器同时测定，一次分析测定全谱覆盖。★2.1.4、波长校正:采用氩的发射谱线自动进行周期性的波长校准,保证分析波长的正确性，没有汞灯或氖灯校准的预热和耗材问题。每半年或需要的场合可采用15种元素标

3、准混合溶液进行波长例行校核。★2.1.5、吹扫型光室：对189nm以下波长测定，可选择氩气或者氮气进行光路吹扫。吹扫流量：标准的光室吹扫气体流量为0.7L/Min，测定短波长谱线时，电脑控制，增加3L/min的气体流量，所有光室吹扫气体流量均由质量流量计（MFC）控制。2.1.6、分辨率：光学分辨率≤0.007nm(在As188.980nm处实际测量半峰宽)。2.1.7、杂散光：≤2.0mg/L（10000mg/LCa溶液在As188.980nm处测定）。2.2、检测器 ★2.2.1、采用独特的成像匹配技术（I-MAP

4、TM），专门设计的CCD检测器覆盖从167-785nm整个波长范围；整个波长范围内所有元素一次测定一次读出。 2.2.2、紫外区平均量子化效率：独特的背投照射技术，使平均量子化效率≥75%，检测器表面无任何光转换化学涂膜。 ★2.2.3、检测器冷却：半导体制冷，－40℃，暗电流和背景噪音低。检测器充氮密封，无需气体吹扫，开机即可点火，提高分析效率，降低气体消耗。 ★2.2.4、防饱和溢出：针对每一个像素进行防饱和溢出保护，彻底消除谱线饱和溢出问题。★2.2.5、积分方式：智能化积分，同时以最佳信噪比获得高强度信号和弱信

5、号，使高低含量元素可以同时检测。2.2.6、CCD检测器采用1MHz的数据读取速度，只需0.8秒即可完成检测器上所有像素结果的读取，双面数据输出，最快的检测器读取速度，节省一半的数据处理时间。2.3、射频发生系统 ★2.3.1、自激式27.12MHz固态发生器，耦合效率大于75%。★2.3.2、功率范围：700〜1500W，10W增量，计算机控制进行功率调节。2.3.3、高效强劲的自激式固态发生器轻松应对从无机到有机各种复杂基体的样品，快速的功率反馈速度确保样品基体变化时仍然获得稳定准确的结果。2.4、观测方式★2.4

6、.1、垂直火炬双向观测方式,所采购的仪器必需具备双向观测(即水平加垂直观测)要求提供仪器炬管为垂直设计且提供彩页图片及技术佐证资料，否则视为本项技术参数负偏离。★2.4.2、尾焰去除：专利的CCI冷锥接口，高效去除尾焰。检出限较垂直观测提高5-10倍，具有高的分析灵敏度。★2.4.3、冷锥接口无切割气体的消耗，降低运行成本。★2.4.4、观测位置调节：等离子体观测位置由计算机控制，X、Y方向可调。242.5、样品导入系统2.5.1、进样系统：标配双通道玻璃旋流雾化室和玻璃同心雾化器，其它多种类型的雾化器和雾化室可选。2

7、.5.2、炬管：标配一体化炬管，快速插拔式设计，无需气体管路连接和炬管准直定位，便于安装和维护，其它多种类型的炬管可选，同时可配置中心管为陶瓷或者石英的可拆卸式炬管。★2.5.3、气体控制：所有等离子体相关气体均为质量流量计（MFC）控制，软件在线调节：等离子体气：8〜20L/min，增量0.1L/min；辅助气：0〜2.0L/min，增量0.01L/min；雾化气0-1.5L/min，增量0.01L/min；补偿气（用于可选附件）：0〜2.0L/min，增量0.01L/min；2.5.4、蠕动泵：3通道蠕动泵，转速0

8、-80rpm可调，全计算机控制，具有快泵功能。3、软件性能：3.1、ICPExpertV7专家级操作软件，易学易用，可快速进行方法的开发、顺序的编辑。3.2、计算机全自动化控制，仪器设置和参数选择可自动完成，包括气体流量、功率、点火、诊断等。具有自动安全连锁系统。★3.3、背景校正功能：包含传统的单边、双边离峰法背景校正技术，同时