污水处理技术进展

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时间:2018-09-27

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1、污水处理技术进展  摘要:指出了水资源是人类生存的必需物质,其污染问题已经变得日益严重,严重影响了周围的生态环境。根据我国水体污染的状况,探讨了SBR、氧化沟、化学混凝、MBR等常见的污水处理技术,展望了未来污水处理技术的发展趋势。  关键词:污水;处理技术;污染物  中图分类号:X703文献标识码:A文章编号:1674-994412-0186-04  1引言  水污染问题已经成为社会的焦点之一。水体污染主要是由于工业“三废”及生活污水的任意排放,农业活动中农药、化肥的大量使用等造成的。水体污染的危害主要有危害人体健康,易引发传染病,影响水生生物的生长,导致河道内鱼类大量死

2、亡,此外,还有制约经济发展,阻碍工业发展的弊端等[1,2]。  水体污染是指当排入水域的污水、废水、各种废弃物等污染物质超过水体自净能力时,水质就受到了污染[3]。21世纪以来,水体严重污染的现象时常发生,如江苏太湖的蓝藻事件,广东北江中上游河段铊等重金属超标事件,山西潞城的煤化工厂的苯胺泄漏入河事件等。水体中的污染物主要有Hg、Ag等重金属离子,As、P、N等非重金属离子及其它的有毒有害物质、悬浮物等。对于水污染日益严重的现象,应当从源头上进行治理,主要有物理方法、化学方法、生物方法以及物化、化生、物生等相结合的方法。下面将简单介绍几种常见的污水处理方法,SBR污水处理技

3、术、氧化沟污水处理法、化学混凝法等,这些污水处理技术具有不同的特点及适用条件。  2污水处理技术  污水处理技术  SBR,为序批式活性污泥法的简称,从传统的活性污泥法改进而来,在国内外广受欢迎的污水生物处理技术。SBR污水处理工艺流程如图1所示。  SBR处理工序是间歇、周期性的,整个运行过程分成进水期、反应期、沉降期、排水期和闲置期,各个运行期在时间上按序排列,称为一个运行周期[4]。在进水期时,要求反应池中残存着高浓度的活性污泥混合液,不断进行曝气,使污泥再生;在反应期能够去除大量的BOD,对污水进行脱氮、除磷处理等;在沉降期具有澄清出水、浓缩污泥的作用;在排水阶段,

4、经处理达到一定要求的水排出处理系统,剩余污泥被引出排放,闲置期是为下一个运行周期创造良好的初始条件[5,6]。此流程主要处理高浓度的BOD及氨氮废水。  近年来,SBR污水处理技术在我国具有广阔的前景。北京同仁堂药酒厂、上海中药三厂以及上海乳制品一厂均采用此工艺,发现此工艺的污水处理效果极好[7];SBR技术对造纸废水中的COD具有较强的去除能力,真菌对造纸废水活性污泥具有生物强化作用[8];采用SBR+过滤工艺进行综合处理煤制甲醇废水,能够有效降低废水中主要污染物的含量,出水水质能达到排放要求[9];研究表明,采用SBR工艺对小型污水处理厂及垃圾渗滤液的废水进行生物脱氮除

5、磷处理,具有较高地去除效率[10,11]。  SBR污水处理技术的优点是水质较好,速度快,工艺简单,造价低;对高浓度有机废水中氮、磷、硫的去除效果独特;沉淀性能较好,污水处理效果大幅提升等[12~15]。当然,此方法也有其缺点,主要是设备长时间闲置,不能够得到充分利用;不适用于大型处理厂;在我国北方寒冷地区,受温度限制,易出现不稳定的现象等[15~17]。  氧化沟法  氧化沟法是城市生活污水处理常见的方法,是利用活性污泥中的微生物通过分解、合成完成自身生长过程来处理净化污水的技术[18]。  氧化沟处理污水的主要原理是将污水处理过程中的反应池设置为椭圆形,污水和活性污泥在

6、沟内进行几十圈甚至更多的循环,并利用曝气器对反应池不断进行曝气,让其进行水平流动,再排出系统从而达到污水进化的效果[19]。氧化沟系统基本结构通常包括氧化沟池体、曝气设备、进水出水设备、导流和混合装置以及附属构筑物等。该方法主要处理水体中的BOD5,去除N、COD、SS等。常见的氧化沟类型有Orbal氧化沟、一体化氧化沟、T型氧化沟等,它们的工艺也有微妙的差别[19]。  采用改良型氧化沟工艺对草浆废水进行处理后,出水水质可达到造纸工业水污染物排放的国家标准[20];根据四川某合建式一体化氧化沟工艺特点和运行情况,针对其生物除磷的特点,分析其除磷的优势和存在的不足,可以提出

7、改善措施和建议[21];研究表明,奥贝尔氧化沟应用于城市污水处理时出水指标均达到国家规定的排放标准[22];增加氧化沟的曝气量,可以使污水在处理过程中出现流动分层现象[23]。  氧化沟污水处理技术的优点是该方法处理效果好、运行稳定,污泥量少,构筑物少运行管理方便,运行费用低等[24~26]。  化学混凝法  化学混凝法是向废水中加入一定的化学混凝剂,破坏胶体的稳定性,使细小悬浮颗粒和胶体微粒聚集成较粗大的颗粒而沉淀,并与水分离,以污泥形式排出,从而达到净化的目的[27]。化学混凝法可以去除水体中的BOD,COD,

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