气体的除杂与净化

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时间:2018-10-27

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1、气体净化和除杂一、气体除杂的原则:1.不加——不能引入新杂质2.不减——不能与原物质反应3.彻底——除杂试剂过量好,气体除杂液体好,液体浓度大些好,固体粉末网状好,除杂效果彻底好。4.简明——操作简便、简单易行二、常用实验装置:1.洗气瓶:除杂药品是液体;长进短出2.干燥管(U形管):除杂药品是固体,粗进细出3.玻璃管:除杂药品是固体,一般与酒精(喷)灯仪器使用。ABCD三、常用试剂及作用:吸收剂吸收的气体杂质水无水硫酸铜灼热的铜网灼热的氧化铜氢氧化钠固体碱石灰(碱性干燥剂)氢氧化钠溶液浓硫酸(酸性干燥剂)四、气体的干燥(除水)干燥剂可以干燥的气体不能干燥的气体酸性浓硫酸H2、O2、CO2、C

2、ONH3碱性固体NaOH碱石灰H2、O2、CO、NH3CO2、SO2、SO3、HCl气中性CaCl2除NH3以外的所有气体NH3注:1.酸性干燥剂不能干燥碱性气体,碱性干燥剂不能干燥酸性气体2.酸性气体:CO2、SO2、SO3、HCl气;碱性气体:NH3;中性气体:H2、O2、CO、N24五、除去多种气体杂质1.原则:除杂时,先除杂后干燥;检验时,先验水再检验其他气体。2.实验室制取三大气体中常见的要除的杂质:(1)、制O2要除的杂质:水蒸气(H2O)(2)、用盐酸和锌粒制H2要除的杂质:水蒸气(H2O)、氯化氢气体(HCl,盐酸酸雾)(用稀硫酸没此杂质)(3)、制CO2要除的杂质:水蒸气(H

3、2O)、氯化氢气体(HCl)3.装置顺序的确定例1.如何除去H2中少量的CO2和水蒸气?NaOH溶液浓H2SO4abcd装置的正确连接顺序是:混合气体例2.如何检验H2中是否含有CO2和水蒸气?ab石灰水d无水CuSO4c装置的正确连接顺序是:混合气体cdNaOH溶液ghCa(OH)2溶液b浓H2SO4af碱石灰e例3.如何测量H2中混有的CO2和水蒸气的质量?装置的正确连接顺序是:混合气体六、练习1、用稀HCl和Zn粒制取H2时,常混有HCl气体和水蒸气,某同学欲制得干燥纯净的H2还原CuOde浓H2SO4丙fgNaOH溶液丁bcCuO乙稀HClZn粒甲a4(1)下列装置中各导管连接顺序是:

4、a(2)丙装置的作用是(3)丁装置的作用是发生反应的化学方程式是:2、现有一混合气体,其主要成分为CO,含有少量水蒸气,还可能含有少量HCl气体。某化学课题组的同学欲用该混合气体进行实验:①检验HCl气体是否存在,并除去HCl气体②用干燥纯净的CO气体还原不纯的氧化铜试样(其中的杂质不发生变化)③实验CO气体还原氧化铜生成的气体生成物的性质试用如图所示的仪器组装一套实验装置,完成上述实验任务。请回答下列问题:(1)实验进行时,若要气体从左向右流动,则这几种仪器组件的连接顺序应是(填写仪器导管接口处字母):()接(),()接(),()接()。(2)判定HCl气体是否存在的根据是。(3)仪器B的作

5、用是。(4)仪器D中的现象是。(5)反应进行完全后,若仪器D中物质增重ag,则仪器C中的试样质量减少g.(计算结果可为分数形式)3、某课外小组的同学们收集了含一氧化碳和二氧化碳的废气,为了确认这种废气的组成,他们在实验室按如下装置进行了实验。(l)B装置中盛放足量浓氢氧化钠溶液,其作用是__________________。(2)C装置中发生反应的化学方程式是____________________________________。(3)A装置和D装置完全相同,其作用的不同之处是______________________________。(4)该小组同学认为废气中的一氧化碳可以利用,于是设计

6、如下装置除去废气中的二氧化碳,并收集一瓶一氧化碳,准备进行后续地探究。其中最合理的装置是_________(填序号,瓶内为氢氧化钠溶液)。4、安多夫是一种4嫩肉粉,其主要成分碳酸氢钠(NaHCO3)可破坏肉质纤维结构、促进肉类吸收水分,从而使肉质松软,达到鲜嫩爽滑的目的。小于发现将拌了安多夫粉的肉类放到锅中并加入食醋等调料烧煮时产生了大量气体,他对此颇感兴趣,决定对其进行探究。Ⅰ.小于对气体的成分进行了猜测:气体中除了醋酸气体之外,还可能含有水蒸气和CO2。他设法收集气体样品并除去醋酸气体后,用右图实验装置进行验证。装置a中盛放的试剂是。Ⅱ.小于对二氧化碳的来源作了两种猜测:猜测①:;猜测②:

7、二氧化碳可能是由碳酸氢钠受热分解产生的。针对以上猜测,小于设计了以下实验:实验步骤实验现象实验1。。实验2取碳酸氢钠样品少许加入试管中,加热使之充分反应,并把产生的气体通入澄清石灰水。试管口出现小水珠,澄清石灰水变浑浊。实验结论:猜想①、②都正确Ⅲ.实验2中,小于发现充分反应后,试管中仍留有一些白色粉末,他猜测可能是氢氧化钠或碳酸钠,请用物理、化学方法各1种进行鉴别。(1)物理方法:;(2)化学方

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