土方开挖及基坑支护施工方案设计(喷锚及悬臂桩支护)

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1、WORD格式可编辑襄阳科技馆（新馆）工程土方开挖及基坑支护施工方案中建三局二公司襄阳科技馆（新馆）项目部2013年7月1日专业知识整理分享WORD格式可编辑目录1编制依据12工程概况13地质条件23.1地形地貌23.2地层岩性23.2.1粉质粘土23.2.2粉砂23.2.3圆砾23.3水文地质条件24施工部署34.1总体安排34.2施工流程54.3机械设备54.4测量控制点55施工方案55.1土方开挖55.2边坡支护55.2.1喷锚支护大样65.3降排水85.3.1基坑降排水85.3.2水泵数量

2、95.4基坑边坡变形监测105.4.1监测目的105.4.2监测项目105.4.3监测点布设105.4.4观测方法及技术要求115.4.5监测数据警戒值及抢险值115.4.6监测频率115.4.7信息返馈及观测资料整理125.5北边支护桩125.5.1abcde段支护125.5.2ef段支护135.5.3支护桩施工工艺135.5.4桩基检测156进度计划及工期保证措施156.1基坑施工顺序及周期156.2工期进度保证措施156.2.1组织措施156.2.2技术措施166.2.3其他措施167质量

3、措施168安全文明施工措施169雨季、汛期施工保证措施1710应急预案及对应措施18专业知识整理分享WORD格式可编辑10.1应急预案的方针与原则1810.2危险因素1810.2.1基坑坍塌滑坡1810.2.2基坑坑底隆起1910.2.3涌砂涌水1910.2.4高空坠物1910.3应急救援组织架构1910.4事故报告2010.5应急结束2110.6后期处置2110.7演练21专业知识整理分享WORD格式可编辑1编制依据（1）、中华人民共和国颁布的现行建筑结构和建筑施工的各类规程、规范及验评标准（

4、2）、襄阳市人民政府有关建筑工程管理、环境保护、安全文明施工等法规及规定（3）、襄阳地质工程勘察院提供的襄阳科技馆（新馆）地下室基坑支护设计（4）、我司有关规范及规定（5）、主要施工规程、规范如下：《建筑基坑支护技术规程》JGJ120-2012《建筑地基基础施工质量验收规范》GB50202-2002《建筑工程施工质量验收统一标准》GB50300-2001《锚杆喷射混凝土支护技术规范》(GB50086-2001)《湖北省深基坑工程技术规定》（DB42/159-2012）《建筑边坡工程技术规范》(G

5、B50330-2002)2工程概况中建三局第二建设工程有限责任公司襄阳市东津新区科技馆（新馆）项目是襄阳市东津新区十大公共工程之一；该项目位于襄阳市东津新区，毗邻S218省道。东津新区科技馆（新馆）项目总建筑面积约33800m2：包括地下一层，建筑面积约8800m2；地上三层（钢结构），建筑面积约25000m2；建筑高度约30m；整个基坑abcdef段为钻孔灌注桩支护，fghijka段为二级放坡开挖，锚杆支护。基坑周长为483米，基坑平面布置图如下图所示：根据襄阳地质工程勘察院提供的襄阳科技馆（

6、新馆）地下室基坑支护设计图纸，fg段基坑开挖底标高为59.2米，ghijka段基坑开挖底标高为61.1米，目前整个场区标高为67至69米不等，土方量约为7.2万m3。开挖部位开挖深度ghijka段7.6米fg段9.4米基坑开挖过程中旁边无其它建筑物，在东边、西边、南边有临时道路，临时道路与基坑边线的距离为15米，在开挖安全范围之内。专业知识整理分享WORD格式可编辑1地质条件1.1地形地貌拟建场地位于襄州区东津镇西岗村五组，场地地形较平坦，地貌单元上属汉江二级阶地，场地土层自上而下为第四系上更新

7、统（Q3）冲洪积粉质粘土、粉砂及圆砾层。1.2地层岩性现将各岩土层工程地质特征分述如下：1.2.1粉质粘土层顶埋深（m）层顶高程（m）层厚（m）特征0.068.41-69.690.90-1.90土质稍均匀，切面稍光滑，表层30-50cm为耕植土。0.90-1.9066.85-68.494.70-8.60土质较均匀，切面较光滑。6.00-9.8058.95-62.892.80-7.70土质不均匀，切面稍光滑，夹较多粉砂薄层。12.70-14.054.87-56.020.5-1.30土质不均匀，切面

8、稍光滑，略具臭味，夹少量粉砂薄层。1.2.2粉砂层顶埋深10.2-14.60米，层顶高程54.15-58.61米，层厚0.50-4.5米，颜色为灰黄色，矿物成份主要为石英、长石、云母，分选性好。1.2.3圆砾层顶埋深13.60-16.0米，层顶高程52.75-55.15米，层厚0.60-1.80米，颜色为灰色，成分以石英岩、硅质岩为主，其中卵石占15.0-25.0%，粒径2-5cm、圆砾约占30.0-40.0%，粒径10-20cm，卵石、圆砾间充填粉砂。分选性差，磨圆度较好，呈次圆状、圆状。1.