多晶硅中二氯二氢硅反歧化地的综述

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1、实用标准文案二氯二氢硅歧化反应的综述摘要：二氯二氢硅（Dichlorosilane,简称DCS）是多晶硅行业中产生的废料之一，如何充分利用二氯二氢硅，减少污染，增加三氯氢硅的产量，是多晶硅行业中比较重要的问题之一。本文详细综述了国内外二氯二氢硅歧化反应的有关技术，并对二氯二氢硅歧化反应的催化剂进行了详细的叙述，为今后进一步研究二氯二氢硅的歧化反应提供了理论依据。关键词：二氯二氢硅，歧化，多晶硅英文摘要：Dichlorosilaneisoneoftheby-productsfromthereactionofatleastoneofmeatallurgicalsiliconands

2、ilicontetrachloridewithatleastoneofanhydroushydrogenchlorideandhydrogentoproducetrisilane.Itisimportanttothesiliconindustryhowtotakeadvantageofthedichlorosilane.Thispaperintroducedthedispropornationofdichlorosilanetoproducetrichlorosilaneandsummarizedthedispropornationcatalyst.Throughthispap

3、er,itprovidedatheoreticalbasisforthefurtherresearchofthedichlorosilanedispropornation.二氯二氢硅(又名二氯硅烷，Dichlorosilane，简称DCS），分子式SiH2Cl2，无色，剧毒，腐蚀性，易燃，带有刺激性的盐酸味，常温下呈液化的气体。二氯二氢硅在空气中易燃，100℃以上能自然，燃烧后生成氯化氢和氧化硅。加热至100℃以上时会自行分解而生成精彩文档实用标准文案盐酸、氯气、氢气和不定性硅，施以强烈撞击时也会自行分解，在湿空气中产生腐蚀性烟雾。与碱、乙醇、丙酮起反应，即使接触少量卤素或其他

4、氧化剂也会发生激烈反应。二氯二氢硅的毒性主要是由它在湿空气中的水解产物氯化氢引起的。二氯二氢硅主要用作半导体外延和化学气相沉积工艺中的硅源气体，有机硅化合物的生产，制作大规模集成电路所必需的优质硅源。一、多晶行业中二氯二氢硅的来源在多晶硅行业的生产中，DCS废料的产生主要有以下两个过程：一是氯化过程或冷氢化过程中所产生的二氯二氢硅；二是在化学气相沉积（CVD）还原炉中三氯氢硅（TCS）的还原过程中也会产生二氯二氢硅。这些二氯二氢硅在以前的多晶硅装置中是不能够回收利用的，它在蒸馏过程中随其它轻组分一起蒸出，而进入到废物回收系统中，水解产生大量的废气，对环境造成严重的污染。如果这部

5、分二氯二氢硅能够转化为可利用的三氯氢硅，整个系统中产生废气的量将大幅减少，而且也能够提高三氯氢硅的产率及降低电能的耗用。为此，人们想到了二氯二氢硅的反歧化作用，即四氯化硅和二氯二氢硅在一定的温度、压力、催化剂的作用下反应生成三氯氢硅。二氯二氢硅的反歧化反应的方程式如下：二、反歧化作用的催化剂氯硅烷的反歧化工艺由UCC（）在上世纪七十年代中期开发，并精彩文档实用标准文案成功应用于工业化装置中。目前，随着我们国家对排放物要求的提高及多晶硅行业向大型化的发展，利用反歧化技术回收以二氯二氢硅，将是一个很好的选择。由于二氯二氢硅在电子工业上的应用，对二氯二氢硅歧化反应的研究更多一些。二氯

6、二氢硅的歧化主要是利用三氯氢硅来生产二氯二氢硅和四氯化硅[]（见2）。但是，这两个反应是平衡反应，它们可以无限地发生下去，这主要取决于温度和反应的压力。1、歧化反应催化剂目前，二氯二氢硅歧化作用的催化剂主要有氰类、活性炭、金属氯化物、杂环类、胺铵盐及酰胺类、负载类催化剂等。下面将对这些催化剂做以下概述。1）氰类：US2732280用脂肪族的氨基氰来做二氯二氢硅歧化反应的催化剂，反应温度在150℃以下，在30℃到80℃最佳。当温度大于150℃时，催化剂易分解。反应时间较长，产率也不高。US2732281使用金属氯化物处理过的脂肪族氨基氰来做催化剂，产率相对没有处理的脂肪族氨基氰

7、有了提高，温度在20-60℃之间，但反应时间仍然很长。US2732282使用腈类催化剂来催化该反应，反应温度仍然较高，在150℃-200℃之间。2）活性炭：US3147071用活性炭做催化剂来催化二氯二氢硅的歧化反应，反应在反应釜中进行，温度150℃-250℃，反应时间在精彩文档实用标准文案1h-10h之间，压力1-100atm不但反应时间较长，温度也很高。US3627501用活性炭和/或碱金属氯化物和过渡金属氯化物混合或氰化物做为催化物。3）金属氯化物：US2900225用AlCl3来做催