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1、基本薄膜材料名称：轧(Y)三氧化二铠，(Y2O3)使用电了枪蒸镀，该材料性能随膜厚而变化，在5()()nm时折射率约为18用作铝保护膜其极受欢迎，特别相对于800-l2000nm区域高入射角而言，可用作眼镜保护膜，且24小吋暴露于湿气中・一般为颗粒状和片状.透光范围(nm)折射率(N)500nm蒸发温度(°C)蒸发源应用蒸气成分250-80001・792300-2500电子枪防反膜，铝保护膜名称：二氧化肺(CeO2)使用高密度的鹄舟皿(较早使用)蒸发，在200°C的基板上蒸着二氧化肺,得到一个约为
2、2.2的折射率，在大约3000nm有一吸收带其折射率随革板温度的变化而发生显著变化，在300°C基板500nm区域折射率为2.45,在波长短过400nm时有吸收,传统方法蒸发缺乏紧密性,用氧离了助镀可取得n=2.35(500nm)的低吸收性薄膜,一般为颗粒状，还可川一增透膜和滤光片等.透光范围(nm)折射率(N)500nm蒸发温度(°C)蒸发源应用杂气排放量400-160002.35约2000电了枪防反膜，多名称：氧化镁(MgO)必须使用电了枪蒸发因该材料升华，坚便耐久冇良好的紫外线(UV)穿透性
3、,250nm时“1.86,190nm时n=2・06.166nm时K值为0.1,n=2.65.可用作紫外线薄膜材料.MG0/MGF2膜堆从200nm400nm区域透过性良好，但膜层被限制在60层以内(山于膜应力)500nm时环境基板上得到n=l.70.由于大气C02的干扰,MGO暴露表面形成一模糊的浅蓝的散射表层，可成功使用传统的MHL折射率3层AR膜(MgO/CeO2/MgF2).名称：硫化锌(ZnS)折射率为2.35,400-13000nm的透光范围，具有良好的应力和良好的环境耐久性，ZnS在高
4、温蒸着时极易升华，这样在需要的膜层附着Z前它先在棊板上形成一无吸附性膜层,因此需要彻底清炉拼「L在最高温度下烘干,花数小吋才能把锌的不良效果消除.HASS等人称紫外线(UV)对ZNS冇较大的影响，市于紫外线在大气中导致15—20nm厚的硫化锌膜层完全转变成氧化锌(ZNO).透光范围(nm)折射率(N)550nm蒸发温度(°C)蒸发源应用方式400-140002.351000-1100电子枪，钮钳舟防反膜，升华应有:分光膜，冷光膜,装饰膜，滤光片,高反膜，红外膜.名称:二氧化钛(TIO2)TI02由
5、于它的高折射率和相对坚固性，人们喜欢把这种高折射率材料用于可见光和近红外线区域，但是它木身又难以得到一个稳定的结果.TI02,TI2O3.TIO,TI，这些原材料氧一钛原子的模拟比率分别为20,1.67,1.5,1.0,0.后发现比率为1.67的材料比较稳定并且大约在55()nm生成一个重复性折射率为2.21的坚固的膜层，比率为2的材料第一层产生一个大约2.06的折射率，后而的膜层折射率接近于2.21.比率为1.()的材料需要7个膜层将折射率2.38降到2.21.这儿种膜料都无吸收性，儿乎每一个T
6、IO2蒸着遵循一个原则:在可使用的光谱区内取得可以忽略的吸收性,这样可以降低氧气压力的限制以及温度和蒸着速度的限制.TIO2需要使用IAD助镀，氧气输入口在挡板下面.TI3O5比具它类型的氧化物贵一些，可是很多人认为这种材料不稳定性的风险要小一些,PULKER等人指出,最后的折射率与无吸收性是随着氧气压力和蒸着温度而改变的，基板温度高则得到高的折射率.例如，基板板温度为400C时在550纳米波氏得到的折射率为2.63,可是由于別的原因,高温蒸着通常是不受欢迎的，而离子助镀已成为一个普遍釆用的方法其
7、在低温甚至在室温时就可以得到比较高的折射，通常需要提供足够的氧气以避免(因为有吸收则降低透过率)，但是可能也需要降低吸收而增人镭射损坏临界fl*L(LDT).TIO2的折射率与真空度和蒸发速度有很人的关系，但是经过充分预熔和IAD助镀可以解决这一难题,所以在可见光和近红外线光谱中,TIO2很受到人们的欢迎.在IAD助镀TIO2时，使用屏蔽栅式离子源蒸发则需要200EV,而用无屏蔽栅式离子源蒸发时则需要333EV或者更少一些，在那里平均能量估计大约是驱动电压的60%,如果离子能量超过以上数值,TIO
8、2将有吸收.而SIO2有电子枪蒸发可以提供600EV碰撞(离子辐射)能量而没有什么不良效应.TIO2/SIO2制程中都使用300EV的驱动电压,冃的是在两种材料中都使用无栅极离了源，这样避免每一层都改变驱动电压，驱动电压高低的选择収决于TIO2所允许的范围，而蒸着速度的高低取决于完全致密且无吸收膜所允许之范围.TIO2用于防反膜，分光膜舲光膜,滤光片，高反膜,眼镜膜，热反射镜等，黑色颗粒状和白色片状,熔点:1175°C透光范围(nm)折射率(N)500nm蒸发温度(°C)蒸发源应用
