共掺杂及介孔硅负载naalh4储氢性能研究

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1、万方数据独创性声明本人声明所呈交的学位论文是本人在导师指导下进行的研究工作及取得的研究成果。据我所知,除了文中特别加以标注和致谢的地方外,论文中不包含其他人已经发表或撰写过的研究成果,也不包含为获得中国工程物理研究院或其他教育机构的学位或证书使用过的材料。与我一同工作的同志对本研究所做的任何贡献均已在论文中作了明确的说明并表示谢意。学位论文作者签名:闾露轻签字日期:wIf年6月?日学位论文版权使用授权书本学位论文作者完全了解并接受中国工程物理研究院研究生部有关保存、使用学位论文的规定,允许论文被查阅、借阅和送交国家有关部门或机构,同时授权中国工程物理研究院研究生部可以将学位论

2、文全部或部分内容编入有关数据库进行检索,可以影印、缩印或扫描等复制手段保存、汇编学位论文。学位论文作者签名:t司躲电签字日期:"?/oil年6月;日剔醛轹鲜签字日期:2.olf年莎月;日万方数据共掺杂及介孔硅负载NaAll-14储氢性能研究摘要作为一种新型储氢体系,铝氢类配位氢化物储氢材料由于其高的质量储氢密度和体积储氢密度吸引了人们广泛的研究兴趣。动力学性能差及可逆条件苛刻是限制该类储氢材料广泛应用的最大“瓶颈”。本文以NaAII-14为研究对象,采用共掺杂多孔材料(活性炭AC,介孔硅SBA一15)和TiF3以及介孔硅负载NaAlH4两种方法改善体系的储氢性能,分别研究了N

3、aAlH4+T氓+AC和NaAU-L/SBA.15两种复合储氢材料的吸放氢动力学性能以及循环稳定性能。采用高能球磨法制备了多孔材料和TiF3共掺杂NaAlH4复合储氢材料。通过对NaAlH4+TiF3+AC和NaAIH4+TiF3+SBA一15的放氢动力学以及循环稳定性能对比得知,共掺杂AC后样品的储氢性能更为优良。共掺杂AC后样品的前两步放氢起始温度为126℃和175℃,与共掺杂SBA.15相比,分别降低了24℃和15。C;且样品在4次循环中显示有良好的循环稳定性,在160。C和真空下放氢240rain,可逆储氢量达4.8wt%。结合再氢化动力学性能以及XRD、SEM分析得

4、知,共掺杂AC抑制了球磨及循环过程中NaAIH4的分解以及颗粒的长大,提高了有效储氢量,从而改善了NaAIH4+TiR放氢性能以及循环稳定性能。进一步系统研究了NaAIH4+3m01%TiF3+10wt%。AC复合储氢材料的放氢性能、再氢化性能以及CO毒化性能。研究结果表明:TiF3和AC对NaAlH4放氢.再氢化过程具有协同催化作用,样品在50℃下即可开始放氢,AC掺杂量为20wt%时,样品在130℃和9MPa下吸氢200min即可完成理论吸氢量的84%:掺杂AC一方面能够有效使含Ti相均匀分布在NaAlH4表面,从而改善了样品的放氢性能。另一方面能够抑制再氢化过程中颗粒的

5、团聚,加快了NaH、A1等的迁移过程,从而显著改善了样品的再氢化性能。此外,对NaAlH4+TiF3+AC样品进行1%CO.H2毒化研究表明:随着循环的进行,样品吸放氢动力学降低,有效储氢量也逐渐降低,CO毒化程度加深。采用高温熔融法制备了介孔硅SBA一15负载NaAlH4储氢材料。研究结果表明:在不添加催化剂的情况下,NaAIH4/SBA一15可在160℃和真空下放氢,且在9MPa和130℃下实现了NaAIH4的放氢后再氢化反应;采用不同成分配比的NaAIH4负载于SBA一15上在160。C下测试其放氢动力学性能结果表明,质量分数从30%增加至70%,NaAlH4的放氢量先

6、增加后减少,当质量分数为50%时,NaAIH4的放氢量达最大;NaAlH4/SBA-15的吸放氢动力学性能在吸放氢循环过程中后基本保持不变,显示出良好的可逆I及放氢稳定性。关键词:储氢材料,NaAIH4,动力学性能,循环性能万方数据共掺杂及介孔硅负载NaAlH4储氢性能研究AbstractAsakindofnewhydrogenstoragematerials,complexhydrideshaveattractedmostofattentionsbecauseoftheirhighvolumetricandgravimetrichydrogendensities.Howev

7、er,mostofthesehydrideshavepoorhydrogendesorbed/absorbedkineticsandlimitedreversibilityforapplications.Inthispaper,hydrogenstoragepropertiesofNaAlH4wasimprovedwithcodopingTiF3andporousmaterials(activecarbonACandmesoporoussilicaSBA一15)andconfiningNaAlH4int

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