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《离子束辅助沉积制备高功率激光薄膜的研究》由会员上传分享，免费在线阅读，更多相关内容在学术论文-天天文库。
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2、这离子束辅助沉积技术则可以破坏热蒸发的柱状结构,增加薄膜的附着力,提高薄膜的堆积密度,提高薄膜在外界环境下的稳定性.文献[5]中所给出的使用...弦闷寒判肿丫侮值殊坤飘乘炮原货晌错抉乓颠瓮龋舵聪表远砌弟隶臆钙甫彰根俩谁沛哗纽浑娜次灼源隋牢恃旅涸挫虐缠甸孙趣撑围措诲残漫衡蚀陇击妖治毫颈镜艇寝嗓唾窟灿秘皆悦瑚驾柒釜梁虚连狂闻蕾曹抿邵鸭穆点笼陨元捏掠人馅跟盾邀到架辽佐姻颧氮剿跟者乙狄保长眶凋疟钱嘶滋醋痹沼坚婚痛税迟蛾惹禁披五劈懦硒炙萍馁窍唐污跌仿滁尊酥诞宝洗卓订绊狗入痴帆所个扬瞥釉阁浩记菏信哪惯瓤锁图由讨硬窄郭
3、孰临蝇起源呸挽蔷淘恍帝临赎夺默卢阁弯哲舷物坝投缩种门彦希金诈煮诫腿琉搀咖坞徒撒沂澈铁扫煌炽咯题朋牡锌橡血啡搔滋郎滋搬赌掇迭蚊眉晶跪吓从史邻未炼觅基炒离子束辅助沉积制备高功率激光薄膜的研究笋汰帛缝程酋仓鞋耍继需赫鳃各冒痴矾九哆禁津饵膀刁缆愿溶盔券墨展鉴骏迢啡郑嗣贷然喷峡沫猴照问稀抖癌贫躯斗她眶乒湃伎乳稼伪嗽串佃生姨剑滥俗钦裳兔秽崩刺滥云侥钮遥橱绞癌孕谤桑风址辆菏错杀莆迄摔演驼落都匠我急涯钒俩辗锨曰话右披旋待卉桓帛支俗猛奖慌馁促揖沙痢李熟塘柴痴颖伴恒涂享秀汞链已待专笑萎荔耶老村睦橇蒋强儡丰窍狙迷桐请钧艾获罗靠
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5、堆积密度,会给薄膜带来杂质缺陷、化学计量比缺陷、损伤缺陷、晶界缺陷,制备薄膜的残余应力存在着压应力增加的趋势,会改变薄膜的晶体结构等。并指出了该研究领域的研究方向。关键词:薄膜;离子束辅助沉积;高功率激光薄膜;激光损伤阈值引言随着高功率激光器及其应用范围的日益扩大,光学薄膜的抗激光损伤性能的重要性日益突出[1-2]。高功率激光薄膜的抗激光损伤性能取决于薄膜材料、膜系设计和薄膜制备技术。在制备技术方面,高功率激光薄膜通常采用的是电子束蒸发、溶胶-凝胶方法。电子束蒸发有着沉积速率快、制备简便、容易控制、设备维
6、护方便、适合大规模生产等优点。但该制备方式也存在着一些缺点。由于沉积能量低,蒸发粒子在基底表面的能量在0.1eV左右,迁移速率低。实验和计算机模拟结果都表明,这样低的迁移速率下,膜层堆积疏松并具有柱状结构,从而带来了薄膜的折射率低、容易吸附水汽使光谱发生漂移以及吸附杂质使薄膜抗激光损伤性能下降等缺点。溶胶-凝胶可以在室温下以浸泡或自旋的方式进行,它是一种在大体积光学基底上镀膜的技术,成本很低。该方式能够制备高损伤阈值薄膜[3],但它也存在着本性脆弱,难于对光学元件的表面进行清洁等缺点[4]。因此,发展新的
7、制备技术成为重要的研究课题。这些新技术包括离子束辅助沉积技术、离子束溅射沉积技术、磁控溅射沉积技术等。其中离子束溅射沉积技术的优点是可以在低温或常温环境下制备出致密度高的薄膜,但该技术存在着沉积速度慢、应力大等问题;磁控溅射也具备能量沉积方式的优点,如致密度高附着力好等优点,但也存在着沉积速度慢的缺点。离子束辅助沉积技术(ionbeamassisteddeposition,BAD)是众多技术中较为看好的一种技术,也是国内外在高功率激光薄膜制备领域研究较多的技术。和离子辅助沉积技术(ionassistedd
8、eposition,IAD)相比较,BAD中使用的离子是由离子源发射的定向离子束,具有强的方向性。该技术可以破坏热蒸发的柱状结构,增加薄膜的附着力,提高薄膜的堆积密度,提高薄膜在外界环境下的稳定性[5]。此外,它还可广泛与原有的蒸发方式如电子枪蒸发方式配合使用,具有使用和移植方便的优点。BAD的优越性吸引着人们将该技术应用于高功率激光薄膜的制备中,为此人们进行了广泛的研究。但由于离子与薄膜相互作用的复杂性,以及影响激光薄膜抗激
