海绵钛生产中超纯四氯化硅制取及微量fe、mg脱除的研究

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1、贵州大学硕士学位论文海绵钛生产中超纯四氯化硅制取及微量Fe、Mg脱除的研究姓名:李姗姗申请学位级别:硕士专业:化学工艺指导教师:陈天祥20060601贵州大学2006届硕士论文海绵钛生产中超纯四氯化硅制取及微量Fe、Mg脱除的研究摘要超纯四氯化硅是电子级多晶硅、太阳能电池、通信光纤等的基本原料。传统的四氯化硅是用硅石氯化提纯制得,从海绵钛和钛白氯化液中回收SiCh是制取高纯硅的一个新途径,不但变废为宝,制取高附加值超纯SiCl4,减少TiCh损失提高精馏收率,还极大地改善了钛厂及周围地区的生态环境条件,具有重要环境、经济和

2、社会意义。通过对四氯化硅回收液物态及物性和组成的考察研究,并研究了不同工艺条件对四氯化硅提取的影响,设计了相应的分离工艺方案。由15.8%的四氯化硅原料液经过三级精馏,四氯化硅的浓度达到了99.99%,其中FeCl3、MgCl2的质量含量分别从O.13%、0.07%降至1.61×lo-S、1.77X1旷,仍达不到电子级产品的要求。经对4N产品的物系分析考察和吸附剂筛选,选择了试剂级柱层析硅胶进行吸附分离,对Fe、Mg在硅胶上的吸附进行了理论分析,测定得到Fe、Mg相关Freundlich吸附等温线方程分别为:q=0.002

3、6cO’36”、q=1.42X1酽c0‘4333:Fe、Mg的吸附热分别为8.4KJ/mol、14.13KJ/mol。研究表明温度越高吸附初速度越大,但随着时间的推移,低温时的吸附量增加速度较快,吸附过程符合Elovich规律。经过二级精馏一吸附一精馏后,四氯化硅中Fe、Mg的质量含量分别降至2.09×10-8、5.17X10-9。四氯化硅分析检测有较高难度,课题组与检测部门共同探索,得出ICP.MS测定四氯化硅中的金属杂质,火焰原子吸收分光光度法测定Fc、Mg杂质,,姜黄素比色法测定B的分析方法有效可行,可满足研究与生产

4、要求。关键词:四氯化硅精馏吸附硅胶吸附等温线透过曲线吸附速率贵州大学2006届硕士论文StudyonprepareultrapurifiedsilicontetrachlorideandputoffthetinyFeandMginproductionofspongytitaniumAbstractTheultrapurifiedsilicontetrachlorideistheprimarymaterialintheproductionofelectronicpolysilicon,solarbatteriesandcom

5、municationfiberoptical.Thetraditionalmethodforsilicontetrachlorideischloridizesilaneandpurified.Itisnotonlychangewastesintovaluables,getaccessionalultrapurifiedSiCkandreducelosingofTiCkbutalsoimprovetheyieldandimprovetheentironmentalconditionthatrecoverfromtheprod

6、uctionofspongytitaniumandtitaniumwhitetogetultrapurifiedsilicontetrachloride.Itisanewroutethatprepareultrapurifiedsilicontetrachlorideandhastheimportantsignificanceonenvironment,economyandsociety.Accordingthestudyonstateofmatter,physicalpropertyandconstituteofsick

7、,andontheinfectiontorectifyindifferenttechnicalproject,wedesignedtherectifyproject.Thecontentofsilicontetrachloridefrom15.8%to99.99%aftertri-rectify.OfwhichthequalitativecontentofFeandMgfrom0.13%、0.07%to1.61×10"5、1.77XlO-S.Buttheyarestillnotaccordwiththerequireofe

8、lectronicpolysilicon.Afteranalysisandseeingaboutthephysicalpropertyofthe4Nproduction,weselectthereagentgradecolumnchromatographyaerosilassorbent.Afterth

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