离子注入法制备犌犪犖犈狉薄膜的犚犪犿犪狀光谱分析

离子注入法制备犌犪犖犈狉薄膜的犚犪犿犪狀光谱分析

ID:36638802

大小:1.42 MB

页数:6页

时间:2019-05-13

离子注入法制备犌犪犖犈狉薄膜的犚犪犿犪狀光谱分析_第1页
离子注入法制备犌犪犖犈狉薄膜的犚犪犿犪狀光谱分析_第2页
离子注入法制备犌犪犖犈狉薄膜的犚犪犿犪狀光谱分析_第3页
离子注入法制备犌犪犖犈狉薄膜的犚犪犿犪狀光谱分析_第4页
离子注入法制备犌犪犖犈狉薄膜的犚犪犿犪狀光谱分析_第5页
资源描述:

《离子注入法制备犌犪犖犈狉薄膜的犚犪犿犪狀光谱分析》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在学术论文-天天文库

1、Seediscussions,stats,andauthorprofilesforthispublicationat:https://www.researchgate.net/publication/236936666RamanSpectraAnalysisofGaN:ErFilmsPreparedbyIonImplantationArticleinGuangpuxueyuguangpufenxi=Guangpu·March2013DOI:10.3964/j.issn.1000-0593(2013)03-0699-05·Sour

2、ce:PubMedCITATIONREADS1184authors,including:Dong-YanTaoChaoLiuChineseAcademyofSciencesChineseAcademyofSciences2PUBLICATIONS2CITATIONS16PUBLICATIONS65CITATIONSSEEPROFILESEEPROFILEAllcontentfollowingthispagewasuploadedbyChaoLiuon07April2015.Theuserhasrequestedenhanceme

3、ntofthedownloadedfile.第33卷,第3期光谱学与光谱分析Vol.33,No.3,pp6997032013年3月SpectroscopyandSpectralAnalysisMarch,2013离子注入法制备犌犪犖∶犈狉薄膜的犚犪犿犪狀光谱分析陶东言,刘超,尹春海,曾一平中国科学院半导体研究所半导体材料科学重点实验室,北京100083摘要对离子注入法制备的u,n和pGaN∶Er三种类型的薄膜样品进行了Raman光谱分析。Er+注入GaN样品后新出现了293,362和670cm-1等波数的Raman峰,

4、其中293cm-1处的Raman峰被指认为无序激活的Raman散射(DARS),362cm-1和670cm-1处的Raman峰可能与离子注入后形成的GaN晶格缺陷有关。上述GaN∶Er样品在800℃退火前后的E2(high)特征峰均向高频方向移动,表明薄膜晶格中均存在着压应力。采用洛伦兹拟合分析了Raman光谱中组成A1(LO)模式峰的未耦合LO模与等离子体激元耦合模LPP+在不同样品中的出现情况,定性指出了GaN∶Er系列样品中载流子浓度的变化规律。关键词氮化镓;离子注入;稀磁半导体;Raman光谱中图分类号:O657.37文

5、献标识码:A犇犗犐:10.3964/j.issn.10000593(2013)03069905禁止的Raman模式或不激活的Raman模式有可能被激活,引言而在Raman光谱中出现一些与杂质或缺陷有关的局域振动模式(LVM)。Limmer等[10]将Ar,Mg,P,C和Ga等离子注氮化镓(GaN)作为宽带隙的第三代化合物半导体,已成入GaN薄膜中,注入剂量在5×1012~6×1015cm-2范围内,为当前最受重视的ⅢⅤ族化合物半导体材料之一,在微电发现离子注入后会在GaN晶格中引入一些与注入离子种类子、光电子、光纤通讯等

6、领域中具有十分广阔的应用前景。无关的Raman散射峰,如300,360和670cm-1峰等,然而在GaN中掺入不同的稀土元素(GaN∶RE)可以发出从可见迄今对GaN∶RE材料Raman光谱分析的文献报道仍很光到红外光范围不同波长的光,如在GaN中掺入Er可以发少[11,12]。本研究分析了Er+注入不同载流子类型的GaN薄绿光[1],掺入Pr和Eu可以发红光[2,3],掺入Tm可以发蓝膜样品及其退火前后的Raman光谱,旨在研究Er+离子注光[4]等。除了深入研究GaN∶RE材料的发光特性以外,近入以及快速退火处理对GaN∶E

7、r薄膜样品结构性质的影响。年来实验发现GaN∶RE材料还呈现出丰富多彩的室温铁磁性能,使其成为一类在自旋电子学领域中有重要应用前景的1实验部分稀磁半导体(DMS)候选材料之一,引起了各国学者的广泛关注和研究兴趣。采用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)法在2英寸c目前制备GaN∶RE薄膜材料的典型工艺有离子注入法面蓝宝石衬底上外延生长制备了1.5μm厚的非有意掺杂(u和原位生长掺杂法两种。离子注入法的优点是工艺简单、掺GaN,高阻样品狀e~1015~1016cm-3),Si掺杂(nGaN,狀e=杂范围和离子浓度都可以精确控制

8、,缺点是注入过程将不可5.3×1018cm-3),Mg掺杂(pGaN,狀16cm-3)三p=7.75×10避免地引入大量晶格缺陷,需要通过高温退火处理使晶格得种载流子类型的GaN薄膜,然后采用双能态离子注入法制到部分恢复。Raman光谱分析是一种快速、灵敏而非

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。