半导体废水及废气地处理

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1、实用标准文案半导体废水及废气的处理半导体废水及废气的处理2~1Q7bl0x8A9j*E6t0~2W$M5o:E%W"V;b5G    由于制程技术不断演进，使得相关供应系统等级及质量日趋精密且复杂，如毒性气体，化学药品或纯水系统等，而此物质的排放却造成环境恶化的来源之一；因此，如何处理此类高纯度且大量的毒性物质之排放，将是厂务废水，废气处理的重要工作与任务。c1K!~$v(r.Z8Q4SV!S&I7N一、首先是废水处理系统.d7N"`b,G.q  m.E$C9r:])s    半导体厂废水之来源，可略分为

2、制程废水，纯水系统之废水，废气洗涤中和液废    水等三种，如表七所列。各排放水可分为直接排放及回收处理方式。                                                                y6L(D![4T  G4x1.    制程废水：7F  n4q!L,}"N5n*  直接排放－HF浓废液，HF洗涤废水，酸／碱性废水，晶圆研磨废水等五种，经各分类管线排至废水厂。D%n!n5N  F回收处理－有机系列(Solvent,IPA),H2SO4,DIR70%

3、，及DIR90%等，经排放收集委外处理或直接再利用。,K9o%w)B2]2.纯水系统之废水：1z;Q3*m3t;F  直接排放－纯水系统再生时之洗涤药剂混合水（含盐酸再生／洗涤液及碱洗涤液）回收处理－系统浓缩液（逆渗透膜组，超限外滤膜组）或是碱性再生废液。_,.u)J(h2l(h.e  p)V8]3.废气洗涤废水#Z;n0@4[!t  e直接排放－洗涤制程所排放的废气之水，均直接排放至处理厂。U"Y5"x'S)]/k至于其处理的程序及步骤，下文为其各项之说明：(o,^2w-I0E'e1.    HF浓

4、废液：%Q%x  u#TC+O:d5~9_'_.[此废液至处理系统后，添加NaOH提升pH值至8～10之间，注入CaCl2，Ca(OH)2与HF反应向生成CaF2污泥，即7d'D$]2y*n!f/z;l/d:lHF+CaCl2+Ca(OH)2←CaF2+HCl+H2O的反应式。;_,E*l*D+l$[,V:b/E藉此去除氟离子之浓度量，而CaF2污泥产物与晶圆研磨废液混合，且添加Polymer（高分子）增进其沈降性，以利CaF2污泥经脱水机挤压过滤。污泥饼则委托代处理业者处理。另一产物HCl酸气由处理厂废

5、气洗涤后排放，污泥滤液则注入调节池。.s+z:D3@6A  G$b-H2.一般废水：)A([6u  u!f.M包括HF洗涤废水，酸／碱性废水。经水系统树脂塔再生废液，废气洗涤废水等进入调节池混合均匀，稀释后泵入调整池中，添加NaOH，H2SO4等酸碱中和剂，将之调整为6.0～9.0的pH值范围后放流入园区下水道。"C  u3p$@7H"F!B精彩文档实用标准文案!@.

6、:I6P3l;y4?-R6d;f3.回收处理单元：8}3}3v-T.r)x0@:H.Na.有机废液回收－将IPA溶剂、显影液及浓硫酸废液等

7、独立收集，并委外处理。-w;~)z3{$gb.浓缩液回收再利用－纯水系统设备产生之浓缩液，除供应原系统反洗，再生用外，更可补充大量飞散之冷却用水，如此不但降低排水量，亦可节省用水量。)Y8N  e$K7[%

8、c.纯水供应系统回收水－目前纯水供应系统可直接回收70%至纯水制造系统，另将制程之洗涤水回收以供冷却系统及卫生用水，此部份占20%，因此，纯水供应系统回收水已可达90%。}1s1v4?)^*Pd.碱性再生废液－纯水系统碱性再生废液收集应用于废水处理系统之pH值调节用，如此可减少化学药剂之使用量。o#W

9、2q5d6P5X+v8?:g4V@2n;o/f(j0j(2)废气处理系统,Z8G%Y1A:Z/j废气产生的设备约有离子布值机，化学清洗站，蚀刻机，炉管，溅镀机，有机溶剂与气瓶柜等，其中有较高浓度污染的废气均先由该机台所属的LocalScrubber（局部洗涤机）先行处理后，在经由全厂之中央废气处理系统做三次处理后，再排入大气中，以达到净化气体之功能。;D;s#U7o5H-{v4`;E  晶圆厂的废气常含有酸，碱性或腐蚀性，故处理系统的管材就必须能耐酸、碱性或腐蚀性，故处理系统的管材就必须能耐酸、碱性，抗蚀

10、性，甚至耐高温及防水性等，故表八乃将常用材质及使用种类整理归纳。而其废气处理种类及方式如下：o}v_!O1p4}0s$Y-P#^2s4]3{0{6t6O1v#U/h6i5m1{1.一般性废气，其来源为氧化扩散炉的热气，烤箱及干式帮浦的排气，此废气可直接排放至大气。-u;F4w'l/s6H!e:d"x*x4?3S2.    酸、碱性之废气，来源为化学清洗站，具刺激性及有害人体。故一般以湿式洗涤塔做水洗处理后再排入大气。洗涤塔利用