欢迎来到天天文库
浏览记录
ID:37584450
大小:1.63 MB
页数:61页
时间:2019-05-25
《ZnO薄膜的磁控溅射法制备及其性质研究》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在行业资料-天天文库。
1、中山大学硕士学位论文ZnO薄膜和p型ZnO薄膜的磁控溅射法制备及其性质研究姓名:赵银平申请学位级别:硕士专业:光学指导教师:汪河洲20060501摘要ZnO是一种新型的宽禁带化合物半导体材料,其室温禁带宽度为3.37eV,熔点为2230K,具有良好的热稳定性和化学稳定性以及更短的激射波长,是制作短波长激光器以及紫外探测器的理想材料。ZnO最大的优点是其高的激子束缚能(60meV),比同是II一Ⅵ族的ZnSe(2lmeV)及III—V族GaN(20meV)高出许多,高的激子束缚能使其在室温下具有强的激子发光特性。本论文利用射频磁控反应
2、溅射技术生长出具有高度晶面(002)取向的ZnO外延薄膜。通过原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)、吸收光谱(ABS)和荧光光谱(PL)等测量分析手段,分别研究分析了不同衬底、不同溅射气氛和退火对ZnO薄膜结晶质量及光学性质的影响。研究表明,在200℃低温生长的硅基ZnO外延薄膜能够形成几十到几百纳米的氧化锌准六角结构外形,而玻璃基底上则没有。当氧氩比为4:1时,吸收谱激子峰最佳;而退火处理后,所有样品的结晶质量提高,表面更平整,且吸收谱的激子峰(363ram)得到加强,同时出现了402nm的晶体内本征氧空位的紫光发射。P型
3、掺杂是形成p-n结,实现ZnO电注入发光的关键技术。本论文应用磁控溅射的方法,首次采用“高掺磷Si衬底-ZnO薄膜磷扩散法”制备了P型ZnO薄膜。XRD测试结果显示了P型ZnO薄膜的高度C轴择优取向,其结晶尺寸大约18nm。P型ZnO薄膜与n型Si衬底之间的异质p—n结具有开启电压为2.5V、较低的反向漏电电流的良好的伏安特性曲线。关键词:ZnO薄膜,P型ZnO薄膜,射频磁控溅射,反应溅射,光致发光ABSTRACTZnOisanovelwide—gapsemiconductor,whichhasabandgapof3.37eV,co
4、mbiningwithhighexcitonicgainandlargeexcitonbindingenergy(60meV).ItisasuitablecandidatefortheUVoptoelectronicdeviceapplications.Inthispaper,lowtemperatureepitaxialgrowthofhighlyc-axis(0002)orientedZnOthinfilmswereachievedonn-Si(001)andquartzglasssubstratesseparatelybyre
5、activeradiofrequency(RDmagnetoCO—sputteringtechnique,ThepropertiesofthesampleswerestudiedbyX-raydiffraction(XRD),atomicforcemicroscopy(AFM),absorptionspectroscopy(ABS)andphotoluminescence(PL).ItisfoundthatthestructureandopticalpropertiesofZnOthinfilmsareinfluencedbythe
6、sputteringatmosphereandtheannealprocedure.Aquasi-hexagonalstructureofZnOthinfilmisobservedbyAFMwhenitWaSdepositedonn-Si(001)substrateatlowtemperature,butnotonglasssubstrates.Thestrongestexcitonpeakintheabsorptionspectrum(ABS)appearsattheratioof4:1(02/Arratio).Afteranne
7、alingtreatment,thesurfacemorphologyandthefilmqualityofallthesampleswereimprovedobviously,thereforetheexcitonpeak(363nm)wasenhanced,andnativedonordefects(Vo)luminescenceof402urnwasobservedaccordingly.P—typedopingofZnOisakeysteptOobtainp-njunctionsandtOrealizetheelectric
8、currentinjectedemissionofUV-emittingdiode.P—typeZnOwerepreparedOnn+一typesingle·crystalSi(100)(phosphordoped)substrate
此文档下载收益归作者所有