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1、中国有色金属学会第三届学术会议论文集革巴材及其应用夏慧韩雪吴丽君,(北京有色金属研究总院北京一00055)义和靶材的应用分类、靶材应用的技术要求、靶材的制造工艺、靶摘要从溅射靶材的物理意材与底盘的连接方式及要求、靶材的市场销售、靶材的发展等几个方面进行了评述。重点评述了用于,。微电子产业的半导体关联靶材及透明导电用ITO靶材最后提出了研究与开发靶材的几点看法关键词靶材溅射薄膜溅射可以在任何物质上发生,尤其是对于道,美国跨国公司的直接投资发生了重大变高熔点、低气压元素和化合物更适合。直流电化,它们纷纷花大笔的钱在一些经济增长很快通,
2、“”,,常用于溅射导电靶材高频电通常用于溅射的国家建立消费网从生产转向营销建网非。:。导电靶材溅射的特点如下点拓展市场(1)膜与基体的附着性比真空蒸镀强,这是由于基体在等离子体中受严格的溅射清洗;1靶材的应用(2)膜的生成速率与靶材、电极几何形状。和高频功率有关几乎所有的材料都可作为靶溅射最显著的特点是它的普遍适用性,因;材来溅射为作为靶材涂覆到基片上是一种化学力或热力,(3)溅射时原子从各方向向基材射入所学方法,把靶材在溅射过程中变成气相,紧密,;以镀膜致密疏松少地沉积在基片上,任何材料都能够被溅射上。,(4)靶材可以是金属也可
3、是非金属或化因此,溅射的应用范围是很大的,重要的应用;:合物包括如下的薄膜,(5)溅射时工作温度低尤其应用到塑料(l)用于数据存储磁带的磁性材料,其典;一、一一,上溅射更好型材料是CONiTbFe及CoN卜Cr及最近,一一一(6)工作零件表面凹凸不平有lmm以发展的CoCrTaPt;下的狭缝均可很好地溅射成膜。(2)用于透镜特征的光学材料,其典型材ve,、溅射现象是1842年由Gro发现的料是CeMgO及MgF::姚1870年开始实际应用,广泛用于工业化是(,3)用于降低摩擦的i闰滑材料其典型材。1930、年川现在世界上已形成多家
4、靶材专业料是MoSZWSZ及PTFE;,公司,且具相当规模。随着电子薄膜、光学薄(4)延长切割工具寿命的耐磨损材料其、、、、膜光电薄膜磁性薄膜超导薄膜等在高新典型材料是TINTIC及ZrBZ;技术和工业上大规模的开发应用,靶材已逐渐(5)微电路的金属材料,其典型材料是,、一、一、一形成一个产业每年有10亿美元左右的产AiWTi川51AICu等;。,,6),值同时随着溅射设备越来越先进科学技(透明导电材料其典型材料是术对特殊薄膜的需要越来越大,世界各国还将‘玩203一ysno:的一种陶瓷性材料;继续对靶材进行研究开发,以获得最大利润
5、。(7)薄膜电阻材料,其典型材料为Ni-“”r、r一r一;据19%年6月14日美国亚洲华尔街日报报CC51及C510:夏慧等靶材及其应用,,,。(8)非晶气泡存储器件材料其典型材料TINZrN等等一、u3es123a5,:;是GdCOLFO及GdGO表1金属类靶材性能,(9)微电子遮蔽消除脉冲材料最典型的理论密度溶点r;标准纯度/%一制备法是金属C/『帅〕/℃:..(10)其他应用靶材包括微电子的氧化物,Al999999999,124514531410168190452187514951536姚20..;一绝缘层用于集成光学仪器的
6、非晶光学薄膜Sb99599999..、、‘.,压电变;Bi99599999换器及光电导体用于显示仪器上的分.一。一.‘.且.几,‘B9(〕9294肠995,一光膜;光学寻址存储器的薄膜;电视磁盘的薄..,Cd99599999。193瓦认象胶丘么仇工903263186519犯10;固体电解质薄膜;膜激光薄膜..r,.,C9989995123、常用靶材6种分类包括半导体关联靶材o.C999、、、磁记录靶材光学靶材显示靶材电子靶..u,C999999999、,。1..材超导靶材等见文献【]Ge,99999999999.u、A999999
7、999.C995.2999靶材的性能Hf99.9(共生Zr)..n.I999999999用于制备各种用途的靶材有一般金属及合.eF999、、、、、金难熔金属硅化物氟化物硼化物碳PL99.999、、、、化物氟化物硒化物硫化物啼化物等Mg99.999.991210下色L7439040加。[’]n.等M9995.2.1金属类Mo9995...。9999997金属类靶材的材料如表1所示Ni..,9999999952.2合金和金属化合物Nb999。此类靶材的性能如表2所示...Pd卯999952.3.氧化物类r,P9999995加212屯变
8、化503创45豹,,-此类薄膜材料有A12O3SbZO3BaaRE999(共生T),Z3,ZL;,43;2,eZ,.BiTieTi仇BiOT咕OBiOCOR9999u.rZ3,aZ3,3一uZ,3512,R999COGOXVOxEOYA1O等。59
