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《电子束光刻在纳米加工及器件制备中的应用_陈宝钦》由会员上传分享，免费在线阅读，更多相关内容在行业资料-天天文库。
1、专家论坛ExpertForum电子束光刻在纳米加工及器件制备中的应用陈宝钦,赵珉,吴璇,牛洁斌,刘键,任黎明,王琴,朱效立,徐秋霞,谢常青,刘明(中国科学院微电子研究所,北京100029)摘要:电子束光刻技术是推动微米电子学和微纳米加工发展的关键技术,尤其在纳米制造领域中起着不可替代的作用。介绍了中国科学院微电子研究所拥有JEOLJBX5000LS、JBX6300FS纳米电子束光刻系统和电子显微镜系统的电子束光刻技术实验室,利用电子束直写系统所开展的纳米器件和纳米结构制造工艺技术方面的研究。重点阐述了如何利用电子束直写技术实现纳米器件
2、和纳米结构的电子束光刻。针对电子束光刻效率低和电子束光刻邻近效应等问题所采取的措施;采用无宽度线曝光技术和高分辨率、高反差、低灵敏度电子抗蚀剂相结合实现电子束纳米尺度光刻以及采用电子束光刻与X射线曝光相结合的技术实现高高宽比的纳米尺度结构的加工等具体工艺技术问题展开讨论。关键词:电子束光刻;电子束直写;电子束邻近效应校正;纳米制造;纳米器件;纳米结构中图分类号:TN305.6;TN305.7文献标识码:A文章编号:1671-4776(2008)12-0683-06ElectronBeamLithographyApplicationontheNanof
3、abricationandNanodeviceChenBaoqin,ZhaoMin,WuXuan,NiuJiebin,LiuJian,RenLiming,WangQin,ZhuXiaoli,XuQiuxia,XieChangqing,LiuMing(TheInstituteofMicroelectronics,ChineseAcademyofSciences,Beijing100029,China)Abstract:Electronbeamlithographyisthekeytechnologyinnanoelectronics,andespecia
4、llyplaysanirreplaceableroleinmicronanofabrication.TheresearchworkoftheInstituteofMicroelectronicsinChineseAcademyofSciencesismainlyaboutthefabricationofnanostructuresandnanodevicesincludingelectronicandopticaldeviceswithtwosetsofelectronbeamlithographysystems,JEOLJBX5000LSan
5、dJBX6300FS.Thenanolithographyisstudiedbytheelectronbeamdirectwritingtechnology.Toovercometheweaknessesoflowoutputandproximityeffectinelectronbeamlithography,manymeasuresaretakeninthefabricationofnanoscalestructuresincludingthesinglelineexposure,novelresistwithhighresolution
6、andhighcontrast.AndthenanostructurewiththehighaspectratiocanbemadebythecombinationofelectronbeamlithographyandXraylithography.Manyotherdetailprocessesarealsodiscussed.Keywords:electronbeamlithography;electronbeamdirectwriting;electronbeamProximitycorrection;nanofabrication;na
7、nodevice;nanostructureEEACC:2550G;2550N收稿日期:2008-07-29基金项目:国家重点基础研究发展计划(973)资助项目(2006CB0N0604,2006CB302706,2007CB935302)Email:chenbq@ime.ac.cn2008年12月微纳电子技术第45卷第12期683陈宝钦等:电子束光刻在纳米加工及器件制备中的应用到十几个纳米)和很小的步距(通常选择在0引言0.125nm到几个纳米),所以曝光速度非常慢,只中
8、国科学院微电子研究所拥有一个配备适合于专门曝100~200nm以下的线条图形,不
