Varian160_10大束流离子注入机

Varian160_10大束流离子注入机

ID:38850653

大小:237.15 KB

页数:4页

时间:2019-06-20

Varian160_10大束流离子注入机_第1页
Varian160_10大束流离子注入机_第2页
Varian160_10大束流离子注入机_第3页
Varian160_10大束流离子注入机_第4页
资源描述:

《Varian160_10大束流离子注入机》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在行业资料-天天文库

1、Varian160一10大束流离子注入机吴健昌。160一10大束流离子注入机是美国Varian公司83年的新产品Varian是美国享有盛,1948,名的电子设备制造公司从年成立至今已有三十七年的历史是世界上著名的电子。,rn行业中心美国硅谷地区的核心厂家之一这家公司有职工13600人它所属的EXtio。分公司所生产的离子注入机在美国和世界上都处于领先地位据85年5月1日出版的Eleetronieusness,13000,Bi杂志报导83年全世界离子注入机销售额为万美元nrn。,nVaria/Extio一家就占54%随着VLS

2、I的向前发展Varia生产的离子注入机,350的性能也不断提高继82年向市场提供性能处于世界领先地位的中束流离子注入机,83年又1,一D以后生产出大束流离子注入机的新产品60一10它是在总结该公司过去已生产一百多台的80一10和120一10两种大束流离子注入机生产和使用经验的基础上生。产出来的新产品近几年世界各国的离子注入机生产厂家都先后有大束流离子注入机间,aonn,,eeeeo,世如美国Et公司的NV一10一160(loA16okV)V的VHC一120(smA120keV),日本真空的IM一,80ke,00(8mA,80

3、H(10mAV)日新的PR一2200keV),25(10mA,12OkeV)和英国heangineerng日立的IP一8WikhmEi的大束。,an,流离子注入机比较起来Vari公司的160一10可说是后来居上其最突出的优点是,。生产率高成为目前世界上最引人注目的大束流离子注入机本文准备从以下几个方面。对这种注入机作一简要的介绍1.注入能且。160一10是lomA级束流的离子注入机中能量最高的一种可供使用的能量范围为10一16okeV,,lomA由于大束流离子注入机的能量提高有一定困难早期出现的级的8eV以下,,ee。。1注

4、入机的能量都在k0而近几年来则陆续有所提高如V的VHC一20已12okeV,EatonV1016016okeV的,达到的N一一是头一台达到zomA级离子注入机从Varan1,16e,能量方面看i的10一60和它业居第一能量提高到0kV以后应用的范围和能,016oke实现的功能都有显著提高16一10的V高能量是通过三间隙加速/引出系统和空,,气绝缘的高压电源实现的头一个间隙两端的电压为70kV第二个和第三个间隙两端kV,,的的电压为45这种型式的电极设计的优点是在高能状态下运行稳定可靠引出的。束流大17eV)工作,60一10不

5、但能在高能状态下(注入能量高于0k而且在低能状态下的工作。e,,性能也很好当注入能量低于7k0V时离子束通过第一个间隙(电位为7k0V)引出然、e,’`十后通过第二第三个间隙减速到最终能量(如4OkV)这时仍可以获得5mA的B和7Ss+“`+。lomA的A和P空气、。,绝缘的三级高压电源的特点是操作简单可靠它由三个高压堆组成每个高,,,压堆分别具有单独的激励级输出电流为60mA输出电压可达70kV当注入机工作e,,。在最高能量16k0V时高压电源的输出电压只为某额定值的75%因此工作可靠2.生产率1,60一10的生产率高对于

6、需要高剂量注入的CMOS和NMOS等器件具有目前世界。,,aon上最高的生产率注入5时圆片时每小时可达10片在相同条件下Et的NV一10一160只有70,日本真空的,2,片IM一80H只有钓片日本日新的PR一0只有50片生产率:高的主要原因有以下三点(1)束流大e,7“s斗“`+。在能量为40一160kV的范围内A和P的束流均可达到lomA(2)双靶室,,160一10采用两个靶室交替运行当其中一个工作于注入时另一个工作于装卸圆,,,。,片此外注入圆盘上每批能安装的圆片数量多5时的圆片可装13片相比之下n。,aEot的Nv一1

7、0一160只能装10片由于圆片装卸和抽真空的时间比注入时短装卸圆,因此离,片不影响注入机的注入时间子束的利用率高每小时能注入的圆片数目相应增。大(3)自动圆片运送装置。,自动圆片运送装置有两个能同时进行装卸的取片臂当注入结束时按动按钮打开注入室的,,,,门将干氮通入靶室两个取片臂同时工作一个取下己注好的圆片另一个。。装上准备注入时的圆片自动装卸可节约一半时间。3圆片冷却,110在注入过程中为了使圆片上涂盖的抗蚀剂的性能不因温度升高而降低60一中,10mA)16eV)注入时,采用了效率高的连续传导冷却装置在大束流(高能量(k0

8、圆。片的温升仍可保持在10℃以下,冷却圆盘中通以循环冷却用的去离子水圆盘和圆片之间为传热性能好的柔性材,。料使园片的热量能迅速散走,。在注入过程中除圆片发热问题以外还有因发热而引起的抗蚀剂放气问题160一10的两个靶室中分别,。设置一台冷凝泵用于迅速抽走抗蚀剂排出的气体.4污染粒子控制,污

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。