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1、三氧化二钇 名称：钇（Y） 三氧化二钇，（Y2O3）使用电子枪蒸镀，该材料性能随膜厚而变化，在500nm时折射率约为1.8，用作铝保护膜极其受欢迎，特别相对于800-12000nm区域高入射角而言，可用作眼镜保护膜，且24小时暴露于湿气中，一般为颗粒状和片状。 透光范围(nm)折射率(N) 500nm蒸发温度（℃）蒸发源应用蒸气成分 250--80001．792300--2500电子枪防反膜，铝保护膜二氧化铈 名称：二氧化铈（CeO2） 使用高密度的钨舟皿(较早使用)蒸发，在200℃的基板上蒸着二氧
2、化铈，得到一个约为2.2的折射率，在大约3000nm有一吸收带其折射率随基板温度的变化而发生显著变化，在300℃基板500nm区域折射率为2.45，在波长短过400nm时有吸收，传统方法蒸发缺乏紧密性，用氧离子助镀可取得n=2.35(500nm)的低吸收性薄膜，一般为颗粒状,还可用一增透膜和滤光片等。 透光范围(nm)折射率(N) 500nm蒸发温度（℃）蒸发源应用杂气排放量 400--160002.35约2000电子枪防反膜，多 名称：氧化镁(MgO) 必须使用电子枪蒸发因该材料升华，坚硬耐久且有良好
3、的紫外线(UV)穿透性，250nm时n=1.86，190nm时n=2.06，166nm时K值为0.1，n=2.65。可用作紫外线薄膜材料。MGO/MGF2膜堆从200nm---400nm区域透过性良好，但膜层被限制在60层以内(由于膜应力)500nm时环境基板上得到n=1.70。由于大气CO2的干扰，MGO暴露表面形成一模糊的浅蓝的散射表层，可成功使用传统的MHL折射率3层AR膜(MgO/CeO2/MgF2)。硫化锌 名称：硫化锌(ZnS) 折射率为2.35,400-13000nm的透光范围，具有良好的应力和
4、良好的环境耐久性，ZnS在高温蒸着时极易升华，这样在需要的膜层附着之前它先在基板上形成一无吸附性膜层，因此需要彻底清炉，并且在最高温度下烘干，花数小时才能把锌的不良效果消除.HASS等人称紫外线(UV)对ZNS有较大的影响，由于紫外线在大气中导致15-20nm厚的硫化锌膜层完全转变成氧化锌(ZNO)。 透光范围(nm)折射率(N) 550nm蒸发温度（℃）蒸发源应用方式 400--140002.351000--1100电子枪,钽钼舟防反膜，升华 应有:分光膜,冷光膜,装饰膜,滤光片,高反膜,红外膜.二氧化
5、钛 名称:二氧化钛(TIO2) TIO2由于它的高折射率和相对坚固性,人们喜欢把这种高折射率材料用于可见光和近红外线区域,但是它本身又难以得到一个稳定的结果.TIO2,TI2O3.TIO,TI,这些原材料氧-钛原子的模拟比率分别为:2.0,1.67,1.5,1.0,0.后发现比率为1.67的材料比较稳定并且大约在550nm生成一个重复性折射率为2.21的坚固的膜层,比率为2的材料第一层产生一个大约2.06的折射率,后面的膜层折射率接近于2.21.比率为1.0的材料需要7个膜层将折射率2.38降到2.21.这几
6、种膜料都无吸收性,几乎每一个TIO2蒸着遵循一个原则:在可使用的光谱区内取得可以忽略的吸收性,这样可以降低氧气压力的限制以及温度和蒸着速度的限制.TIO2需要使用IAD助镀,氧气输入口在挡板下面. TI3O5比其它类型的氧化物贵一些,可是很多人认为这种材料不稳定性的风险要小一些,PULKER等人指出,最后的折射率与无吸收性是随着氧气压力和蒸着温度而改变的,基板温度高则得到高的折射率.例如,基板板温度为400℃时在550纳米波长得到的折射率为2.63,可是由于别的原因,高温蒸着通常是不受欢迎的,而离子助镀已成为一
7、个普遍采用的方法其在低温甚至在室温时就可以得到比较高的折射,通常需要提供足够的氧气以避免(因为有吸收则降低透过率),但是可能也需要降低吸收而增大镭射损坏临界值(LDT).TIO2的折射率与真空度和蒸发速度有很大的关系,但是经过充分预熔和IAD助镀可以解决这一难题,所以在可见光和近红外线光谱中,TIO2很受到人们的欢迎.在IAD助镀TIO2时,使用屏蔽栅式离子源蒸发则需要200EV,而用无屏蔽栅式离子源蒸发时则需要333EV或者更少一些,在那里平均能量估计大约是驱动电压的60%,如果离子能量超过以上数值,TIO2将
8、有吸收.而SIO2有电子枪蒸发可以提供600EV碰撞(离子辐射)能量而没有什么不良效应.TIO2/SIO2制程中都使用300EV的驱动电压,目的是在两种材料中都使用无栅极离子源,这样避免每一层都改变驱动电压,驱动电压高低的选择取决于TIO2所允许的范围,而蒸着速度的高低取决于完全致密且无吸收膜所允许之范围.TIO2用于防反膜,分光膜,冷光膜,滤光片,高反膜,眼镜膜,热反射
