RO 清洗判断条件、清洗化学品配制及化学品选择

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1、RO系统清洗操作程序介绍聚酰胺反渗透膜的常见污染及其清洗方法
注意：聚酰胺反渗透膜元件在任何情况下均不得与游离氯接触，游离氯的氧化将使膜造成永久性的损伤。因此，在管路与设备灭菌操作或使用清洗剂与储存保护剂之后均应特别注意膜系统给水中是否含有游离氯残留物。对此如有怀疑，应进行相应检测。如存在游离氯残留物，可使用亚硫酸氢钠将其还原，并满足反应时间以保证充分的脱氯。每1.0ppm的游离氯需亚硫酸氢钠的用量为1.8-3.0ppm。
注意：在清洗溶液中，应避免使用阳离子表面活性剂。使用阳离子表面活性剂可导致膜元件无法恢复的污染。清洗条件
日常操作时必须测量和记录每一段压力容器间的压差(ΔP)，随着元件

2、内进水通道被堵塞，ΔP将增加。需要注意的是，如果进水温度降低，元件产水量也会下降，这是正常现象并非膜的污染所致。预处理、压力控制失常或回收率的增加将会导致产水量的下降或透盐量的增加。当观察到系统出现问题时，此时元件可能并不需要清洗，但应该首先考虑这类原因。
在正常操作过程中，反渗透元件内的膜片会受到无机盐垢、微生物、胶体颗粒和不溶性的有机物质的污染。操作过程中这些污染物沉积在膜表面，导致标准化的产水流量和系统脱盐率分别下降或同时恶化。RO系统清洗操作程序清洗液介绍注意：符号W表示稀释化学溶液浓度是基于100%化学纯度或活性组份的实际重量。溶液1：2.0%（W）柠檬酸（C6H8O7）的低pH（

3、pH值为4）清洗液。对于去除无机盐垢（如碳酸钙垢、硫酸钙、硫酸钡、硫酸垢等），金属氧化物/氢氧化物（铁、锰、铜、镍、铝等），及无机胶体十分有效。注意：当用氢氧化铵（氨水）向上调节pH值时，柠檬酸具有很好的螯合性。这时不能用氢氧化钠调pH值。溶液2：2.0（W）%STPP（三聚磷酸钠Na5P3O10）和0.8%（W）的Na-EDTA混合的高pH（pH值为10）洗液。它专用于去除硫酸钙垢和轻微至中等程度的天然有机污染物。STPP具有无机螯合剂和洗涤剂的功用。Na-EDTA是一个具有螯合性的有机螯合清洗剂，可有效去除二价和三价阳离子和金属离子。STPP和Na-EDTA均为粉末状。溶液3：2.0（W

4、）%STPP（三聚磷酸钠Na5P3O10）和0.25%（W）的Na-DDBS[C6H5（CH2）12-SO3Na，十二烷基苯磺酸钠]混合的pH值为10的高pH洗液。该洗液用于去除较重度的天然有机物（NOM）污染。STPP具有无机螯合剂和洗涤剂的功用，Na-DDBS则作为阴离子洗涤剂。RO系统清洗操作程序溶液4：0.5%（W）盐酸低pH清洗液（pH为2.5），主要用于去除无机物垢（如碳酸钙垢、硫酸钙、硫酸钡、硫酸锶垢等），金属氧化物/氢氧化物（铁、锰、铜、镍、铝等），及无机胶体。这种清洗液比溶液1要强烈些，因为盐酸（HCl）是强酸。盐酸的下述浓度值是有效的：（18°波美=27.9%，20°波美

5、=31.4%，22°波美=36.0%）溶液5：1.0%（W）亚硫酸氢钠（Na2S2O4）高pH清洗液（pH为11.5）。它用于去除金属氧化物和氢氧化物，且可一定程度的扩展至去除硫酸钙、硫酸钡和硫酸锶垢。亚硫酸氢钠是强还原剂，也被称为连二亚硫酸氢钠。亚硫酸氢钠为粉末状。溶液6：0.1%氢氧化钠和0.03%（W）SDS（十二烷基磺酸钠）高pH混合液（pH为11.5）。它用于去除天然有机污染物、无机/有机胶体混合污染物和微生物（菌素、藻类、霉菌、真菌）污染。SDS是会产生一些泡沫的阴离子表面活性剂型的洗涤剂。溶液7：0．1%（W）氢氧化钠高pH清洗液（pH为11.5）。用于去除聚合硅垢。这一洗液是

6、一种较为强烈的碱性清洗液。RO系统清洗操作程序反渗透膜清洗液配方(以100加仑，既379升溶液*为基准)*配制清洗液的水要求是反渗透产品水或不含余氯的洁净水清洗液主要组份药剂用量清洗液最高清洗pH值值值温度℃℃℃编号1柠檬酸（100%粉末）17.0磅（7.7公斤）用氨水调节pH至4.0402①三聚磷酸钠（STPP）（100%粉末）17.0磅（7.7公斤）用硫酸或盐酸调节pH至10.040②EDTA二钠（100%粉末）7.0磅（3.18公斤）3①三聚磷酸钠（STPP）（100%粉末）17磅（7.7公斤）用硫酸或盐酸调节pH至10.035②十二烷基苯磺酸钠（Na-DDBS）2.13磅（0.97公

7、斤）4盐酸（HCl）（密度22波美度或浓度0.47加仑（1.8升）缓慢地加入盐酸下调pH至2.5，3536%）调高pH值用氢氧化钠5缓慢地加入盐酸下调pH至2.5，调高pH8.5磅（3.86公斤）35值用氢氧化钠6①NaOH氢氧化钠（100%粉末）①NaOH氢氧化钠缓慢地加入氢氧化钠上调pH值35（或50%液体）（100%粉末）至11.5，调低pH时采用盐酸②十二烷基磺酸钠（SDS）（或50%液体）②十二烷基