超支化无皂硅丙乳液合成与性能研究

超支化无皂硅丙乳液合成与性能研究

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时间:2019-11-27

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1、堡堕超支化无皂硅丙乳液合成与性能研究Studyontheperfbmlanceandpreparationofthehyperbranchedemulsi6er-行eesilicOne-acrylicemulsion李锐吕维华杨兴锴杨智索陇宁伍家卫(兰州石化职业技术学院,甘肃兰州730060)摘要:报道了以四甲基四乙烯基环四硅氧烷和乙烯基三甲氧基硅烷为硅源,与甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸(钠)和烯丙基羟乙基醚在无乳化剂情况下进行乳液聚合,得到超支化无皂硅丙乳液;红外光谱确定环硅烷已开环聚合,且与其它单体共聚;讨论了开环无规共聚法和开环核壳共聚法两种工艺对乳液凝胶率、粒径、热稳定性的影响

2、,通过粒径分析、热重分析和TEM分析表明核壳共聚法得到的乳液凝胶率低o.12%、粒径小70IlITl、最大热分解失重峰504.5℃,乳液稳定性好。关键词:无皂;硅丙乳液;核壳Abstract:Themethodthatthehyperbranchedemulsmer—freesilicone—acrylicemulsionwasmadebytetraVinyltetnme七hylcyelotetraSiloxane,myltrimethoxysilane,2一IⅡ讲oxyethan01a11dmethylmechacrylace谢t110utemulSi6erwaSreported.

3、FT—IRshowedthatsihcon—oxygenrin铲wereopenedandallmonomershadp痂cipatedinthecop01ymerizadon.E丑.ectsof七wobndsofpolymerizationprocessoncoagulum,paniclesizeaIldthemlalsdbilicywerediscussed.Thecore—sheHemulsionwasbetterdlanmdomcopolymeremulsion.Itscoagulumwas0.12%,averageparticlesizewas70帆bypardclesiz

4、ean由zerandTEM,thewei曲tlosspeakwas504.5℃bythe肌a1gravimetrican由sis.TheemulSionstabilicywaSbetter.Keywords:emulSi6er一丘ee;silicone—acrylicemukion;core—sheⅡ中图分类号:TQ050.4文献标识码:B文章编号:1003—8965(2014)05一0100一04有机硅改性丙烯酸酯乳液能够明显提高纯丙乳液耐候性、耐碱性、耐水性和耐沾污性等性能。目前硅丙乳液的制备大多以带乙烯基的硅烷偶联剂为硅源,在乳化剂的保护下,与丙烯酸类单体共聚而得无规共聚物。由

5、于乙烯基硅氧烷水解缩聚倾向大,易产生凝胶,造成乳液体系稳定性降低,同时还制约了硅含量的提高,对丙烯酸改性幅度提高有限”“l。为维持体系稳定,通常在聚合期间添加大量乳化剂对硅丙乳液加以保护,而大量乳化剂滞留在树脂中又会造成材料光泽、耐水性、耐候性等性能降低,影响乳液综合性能,同时残留在树脂中的乳化剂还会随时间推移而缓慢溶解释放到大气中造成环境污染,因此如何提高硅含量,降低硅烷水解交联程度,得到高品质硅丙乳液就成为热门研究课题旧一。51。本文选用有机环硅氧烷(V4和YDH)作为丙烯酸酯的共聚单体,选用不饱和羟基醚与丙烯酸进行共聚,完全取代乳化剂进行无皂乳液聚合,通过控制体系pH值来降低乙

6、烯基硅烷偶联剂水解交联带来的高凝胶现象,在提高硅丙乳液中硅含量的同时,维持体系稳定性,避免乳化剂带来的各项问题,提高了改性效果。1实验部分1.1主要原料与仪器四甲基四乙烯基环硅氧烷(V4,武汉志华诚精细化工有限公司):乙烯基三甲氧基硅烷(YDH一171,湖北力鼎化工有限公司);烯丙基羟乙基醚(简称AOE,武汉博莱特化工有限公司);甲基丙烯酸甲酯(MMA,抚顺安信化学有限公司);甲基丙烯酸(MAA,北京益利精细化学品有限公司):过硫酸钾(KPS,衡水佳木化工有限公司),亚硫酸氢钠(NaHS0。,山东凯龙化工股份有限公司),以上原料均为工业品。低真空扫描电子显微镜(SEM,JSM一560

7、0LV,日本电子光学公司);透射电镜(TEM,JEM一1230JEOL):激光粒度分析仪(MS2000,英国马尔文仪器有限公司);红外光谱仪(FT—IR,FTS3000,美国DigiLABMerm);热重分析仪(TG/DTA,PvrisDiamondPemnEImer)1.2超支化无皂纳米核壳硅丙乳液制备超支化无皂纳米硅丙乳液代表性配方为MAA:AOE:YDH:V4:MMA=8:9:4:20:59,引发剂为氧化还原引发剂(K2S208:NaHS03=2:1

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