古建筑与石质文物的清洗技术_张秉坚.pdf

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1、第20卷第5期清洗世界Vol.20No.52004年5月CleaningWorldMay.2004¥专论与综述¥古建筑与石质文物的清洗技术张秉坚铁景沪（浙江大学化学系，浙江杭州310027）刘嘉玮（中国石材工业协会，北京100831）摘要提出了古建筑与石质文物清洗的必要性，综述了安全、科学地使用清洗技术对古建筑与石质文物进行清洗的方法，着重介绍了水清洗、化学清洗、粒子喷射和激光清洗4种清洗技术，具有较高的应用价值。关键词古建筑与石质文物清洗技术粒子喷射激光清洗中图分类号TU251.9文献标识码BCleaningtechniqueforanc

2、ientarchitectureandstonerelicsZHANGBingjian,TIEJinghu(ChemistryDepartmentofZhejiangUniversity,Hangzhou,Zhenjiang310027)LIUJiawei(ChinaIndustryAssociationofstonematerial,Beijing100831)AbstractThecleaningnecessityforancientarchitectureandstonerelicswasputforward.Itintroduced

3、thecleaningmethodsandsafetyaspects,andparticularlydescribedfourcleaningtechniques,suchaswatercleaning,chemicalcleaning,particlejetcleaningandlasercleaning.Keywordsancientarchitectureandstonerelics;cleaningtechnique;particlejet;lasercleaning中国是历史悠久的文明古国，我们的祖先创造了物当成普通建筑物，采用强

4、酸或强碱清洗，结果既造灿烂的文化，留下了丰富的历史遗产，其中包括各个成了酸或碱的腐蚀性破坏，又造成盐的结晶性破坏。历史时期的古建筑和石质文物。今天，虽然这些历史如何科学地进行清洗、维修和保护？这些基本处理技遗迹大部分已经十分破旧，但是它们仍然反映出中华术已成为必须普及的科学知识。民族辉煌的历史，是不能再生的极为宝贵的资源。目前，文物和古建筑保护的研究已经成为一门专近年来,各级政府对文化遗产的保护越来越重视，业科学。“浙江大学化学系石材研究室”在国家自然科投入大量人力物力整治和修复历史遗迹。但是，由于学基金和国家文物局的资助下进行了一系列研究

5、，取处理和施工的不够科学，一些古建筑和石质文物受到得了许多成果，同时培养了一批石材化学和文物保护加速破坏的例子也不少。例如:用高压水流冲洗石质文的博士生、硕士生和本科生。物，不仅会造成冲击性破坏，还容易损害石构件的粘文物和古建筑保护研究的相关技术包括：石材污接部位，造成结构性破坏。又如：把古建筑和石质文染病症的诊断技术、有关的治理或修复技术、维护或国家自然科学基金(批准号:29977018和20277034)作者简介：张秉坚（1950-），男，教授，博士生导师，主要从事物理化学、材料化学、文物保护化学的研究工作。2004年第5期25·26·

6、清洗世界第20卷·预防的方法等。开发的专用材料有各种清洗剂、防护造成古建筑粘接部位的水浸泡损害，并引起可溶盐的剂、翻新或维修的化学材料等。参与的相关工程有：迁移和微生物的生长。石材和古建筑的专业清洗工程、装饰石材的翻新工水蒸汽喷射法用于石雕刻品和古建筑表面清洗有程、古建筑和石质文物的防护与维修工程等。一定效果，潮湿性破坏也比较小，但蒸汽的高温易造古建筑与石质文物的保护性处理主要有三大内成石材本身内外热胀不均，从而引起裂隙。容、表面清洗、粘接加固与维修、防护性处理。一般雾化水淋法是将水通过喷嘴形成雾化水，其淋洗情况下，都是先清洗，再加固，最后

7、防护。轻柔而无冲击作用，但清洗效率比较低。水清洗法的原则上讲，古建筑和石质文物的表面污垢在一定优点是环保性好，最大缺点是有可能造成潮湿性破程度上反映了文物本身久远的历史，一般不应清洗。坏，尤其对于古建筑，因为粘接石块的古旧泥灰材料但是当污垢或沉积物会对文物石材造成危害，或者影最容易受到水的浸渍而失去原有强度，造成整体结构响到维修保护时，清洗就成为文物维修的首道工序。受损。通常，清洗或清理的目的是：2化学清洗法１）打开石材气孔，恢复石材微孔隙的水蒸汽通道；大多数年代久远的石材，其表面污染物已经深入２）去除有害于石材的物质，如水溶性盐、难溶石材

8、的微孔隙中，一般的表面擦洗往往难以去除。对性硬壳、灰尘烟垢、微生物及杂草、以前处理的残留于这类深层污迹，化学清洗法经常可以取得特别的效物等；果。一般来讲，对于这类深层污垢的化学清