LDI工艺流程介绍.ppt

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1、LDI工艺流程严孝年2010-11-22内容简介工艺流程(工艺线)前处理压膜曝光去膜工艺设备维护(PM)压膜机显影机前处理和去膜槽工艺流程前处理作用:采用微蚀的方法(5%H2SO4+3%H2O2)对基板表面进行清洗,去除表面氧化物(在操作台上进行,先打开抽风)。配槽方法:1.首先在槽内加入适量的水;2.以量杯取约5L濃度98%硫酸缓慢倒入槽中;3.以量杯取约3L的H2O2溶液缓慢倒入槽中;4.加水至液位100L处。操作流程:1.首先用无尘布去除板面明显赃物2.放入微蚀槽浸泡1min到5min(以板面氧化程度决定)3.从微蚀槽取出放入旁边的水洗槽进行清水洗4.利

2、用显影机进行烘干处理(需关闭显影槽喷压,只开水洗及风刀)工艺流程工艺流程压膜作用:在前处理后的基板表面覆盖一层干膜,利用干膜的感光性能实现图形转移操作流程:按压膜机操作规范安装好干膜,根据干膜型号不同要求,设定压膜温度,压力,速度。流程参见附件工艺流程LDI曝光设备现状:四个镜头已安装完毕,对准系统还在调试中,目前还不能进行客户流片,软件部分仍在编写。性能参数:最小线宽30um,产能30s/side基本性能可达到设计要求显影作用:使用1%浓度的碳酸钠溶液溶解未曝光部分的干膜,残留部分为曝光线路.操作流程:1.开启总电源2.依次点击操作界面的手动、起动按钮,选择

3、加热。3.开启总水阀,清洗吸水海绵至湿润状态4.待温度升至30℃时,开启界面所有流程按钮,去除板面的保护膜,从入料段放入机台。详见操作规范工艺流程去膜作用:用3%氢氧化钠溶液浸泡,去除板面曝光后的干膜,使基板可以重复使用。(在操作台上进行,先打开抽风)配槽方法:1.首先在槽内加入适量的水;2.倒入3kg固态NaOH,并进行搅拌3.加水至液位100L处操作流程:1.将需去膜的板子放入槽内进行浸泡直至干膜大面积脱落2.用刷子对板面进行刷洗将板面残留的干膜去除干净3.从去膜槽取出板子放入旁边的水洗槽进行清水洗4.利用显影机进行烘干处理(需关闭显影槽喷压,只开水洗及风

4、刀)工艺流程设备维护压膜机设备维护及使用宇宙显影机前处理和去膜槽设备维护及使用

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