【精品】等离子欧丽安84”方案.doc

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1、等离子大屏幕显示系统(NeoDigmPK-8420)技术方案一:卫呈M(3)二:设十剧(4)三;弟M(5-8)3.1、产品特性(5-6)3.2、具体性能参数(6-7)3.3:控需扬包(8)四:粥做(9-11)(12)一:工程概述根据系统工程要求,本设计必须适应当前的各项应用,我们在进行设计时,将遵循整体性、技术先进性、安全可靠性、可管理性原则,建立经济合理、资源优化的设计方案。等离子系统的实现功能。1.实现显示系统各种类型人机和工作站的显示,且画面与之完全一致。2.系统继承后可以在网络上任一工作站可以通过网络上的工作机来控

2、制系统。3.支持多种视频信号,:全制式标准VIDEO视频信号、独立的VGA、SVGA及S(H、V)信号。4.PC系统下支持TCP/IP协议通过控制机的RS232借口控制等离子。5.支持画面在等离子屏上的拼接。开多层窗口,并可以做到所有图形、画面满屏显示。6.等离子本身内置画面分割及其控制拼接的每个显示屏之间的亮度、对比度、色彩的均匀。7•系统支持后期的扩容。二:设计原则着科学技术和经济建设的飞速发展,大屏幕显示监控系统、电子会议系统、集中控制系统、计算机网络系统在我国的政府、军事、电力、邮电、公安、交通、企业等各行各业的会

3、议、指挥、监控、广告演示等方面的应用也越来越广泛。同时,对于这类系统的先进性、可靠性、控制灵活性、扩容性等综合指标的要求也越来越高。贵局为了适合现代数字监控室的需要,正着手建设一套具有高度集成的现代化高科技监控系统,它要求高亮度、高清晰度、可输入计算机、DVD、VCD、摄录像等各种信号的大屏幕显示设备,从而给控制员提供最直观、最舒适的监控环境。本设计必须适应当前的各项应用,我们在进行设计时,将遵循整体性、技术先进性、安全可靠性、可管理性原则,建立经济合理、资源优化的设计方案。•欧丽安84"等离子显示器PK-8410介绍欧丽

4、安84吋等离子显示器NeoDigmPK-8420,是由韩国欧丽安等离子显示器株式会社开发生产的目前世界最大尺寸等离子显示器,它采用独特的等离子无缝拼接技术,画面间缝隙仅为3nim。整体显示画面对角线尺寸达到84英寸,亮度1000cd/n?,对比度达到3000:1,真正实现超大完美画面。采用超薄机身设计(机身厚度仅为10.5厘米),节省更多空间,安装更简便。通过软件(RS232C远程控制)、硬件(遥控器),可实现多画面显示功能,适用于民航、商场、监控中心、舞台布置、展览展示、多功能会议厅等多种专业显示应用。特点:•大屏幕无缝

5、拼接等离子显示器•屏幕尺寸:84吋(对角线)•拼接缝隙:5mm•亮度:lOOOcd/n?;对比度:3000:1;可视角度:160°•超薄机身:10.5cm,适合更多安装环境•同步显示多个画面,随意组合、切换•具备多种视频信号接口(VGA*2/AV*2/S-Video*2/分量视频*2);支持从VGA到HDTV的所有信号源•配备遥控器及RS232C远程通讯端口,控制方便灵活三:产品概述本系统采用目前世界上最大的等离子显示器(NeoDigmPK-8420)作为系统的显示部分。ORION公司最新推出的PK-8420是专门针对大型

6、展示用而开发的新产品。是一款价格适宜的产品,有很高的性价比,各类接口全面,能满足不同的需求,是大型显示,监控,展示系统很理憩的选择。组成的大屏幕显示系统具有高分辨率、高亮度、高对比度、高均匀性等特点,图像拼接显示无失真、无错位现象。视角宽广,达到160。以上。色彩均匀;持续工作时间长;维护方便。内置信号控制器可将计算器信号或视频信号放至全屏,形成大画面。NeoDigmPK-8420达到1000cd/m2的亮度和VGA(1706x960)的分辨率。它采用了先进的惰性气体发光电极,输出3000:1的对比度,并使整个显示器的体积

7、得以缩小。该等离子显示器厚度为105mm,占用空间小,适合各种场所的安装,其安装不需像传统的CRT显示器或者背投需要占用很大的空间。3.1、产品特性NeoDigm等离子开发的新技术创造出真正的无缝拼接等离子。新开发的边缘结构技术使屏幕之间的缝隙大大缩小,这使拼接等离子进入了新的无缝领域。画面可以是一个完整的图像,不再象在传统拼接等离子上被割开。立体Y/C数位整流过滤器展示出图像的图场跟图场的对比,把色彩从黑白影像中精确地分离出来,它可消除点相位失真。新的IP(革新的介面)转换器运用了自动改编时间/空间的运算法则使显示的分辨

8、率在稳定的图像范围中有最佳表现,清除了移动物件的重影。NeoDigm等离子提供顺畅自然而细致的移动影像,因为运用了FaIse-EdgePredictor技术,降低移动影像轮廓的杂讯,让移动中的影像更清晰。为了使等离子的点阵系统有最佳表现,此功能将现在广播用的交错信号转变为先进的扫描信号。立体逐行扫描技术

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