硅太阳能电池扩散工序相关知识.ppt

硅太阳能电池扩散工序相关知识.ppt

ID:50048519

大小:1.46 MB

页数:42页

时间:2020-03-02

硅太阳能电池扩散工序相关知识.ppt_第1页
硅太阳能电池扩散工序相关知识.ppt_第2页
硅太阳能电池扩散工序相关知识.ppt_第3页
硅太阳能电池扩散工序相关知识.ppt_第4页
硅太阳能电池扩散工序相关知识.ppt_第5页
资源描述:

《硅太阳能电池扩散工序相关知识.ppt》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在教育资源-天天文库

1、硅太阳能电池扩散工序相关知识1.目录目录半导体PN结扩散电池效率的损失扩散与栅线设计扩散与烧结在绝对温度T=0K时,所有的价电子都被共价键紧紧束缚在共价键中,不会成为自由电子,因此本征半导体的导电能力很弱,接近绝缘体。半导体:导电性能介于导体和绝缘体之间的材料。本征半导体:完全纯净的、结构完整、不含缺陷的半导体晶体。+4+4+4+4+4+4+4+4+42.1本征半导体2.半导体束缚电子这一现象称为本征激发,也称热激发。自由电子+4+4+4+4+4+4+4+4+4空穴当温度升高或受到光的照射时,束缚电子能量增高,有的电子可以挣脱原子核的束缚,而参与

2、导电,成为自由电子。自由电子产生的同时,在其原来的共价键中就出现了一个空位,称为空穴。2.1本征半导体2.半导体杂质元素:磷,砷多子:电子少子:空穴P:施主杂质(提供电子)+++++++++++++++多数载流子少数载流子正离子2.2.1N型半导体在本征Si和Ge中掺入微量五价元素后形成的杂质半导体。2.半导体2.2非本征半导体+4+4+4+4+4+4+4+4P+52.半导体2.2非本征半导体2.2.2P型半导体在本征Si和Ge中掺入微量三价元素后形成的杂质半导体。---------------负离子多数载流子少数载流子杂质元素:硼,铟多子:空穴

3、少子:电子P:受主杂质(提供空穴)+4+4+4+4+4+4+4+4B+33.PN结3.1结的种类同质结:相同材料形成的结(如不同参杂的硅片)异质结:不同材料形成的结半导体异质结(两种半导体材料之间组成的结)半导体-非半导体异质结(肖特基势垒结、MOS、MIS)结+++++++++++++++---------------多数载流子的扩散运动建立内电场P区N区3.PN结少数载流子的漂移运动多子扩散空间电荷区加宽内电场EIN增强少子漂移促使阻止空间电荷区变窄内电场EIN削弱3.2PN结的形成扩散运动和漂移运动达到动态平衡,交界面形成稳定的空间电荷区,

4、即PN结。3.PN结3.3能带图和光伏效应3.3.1基本概念能级:电位能的级别。能带:大量的能级形成能带。价带:在绝对零度下能被电子占满的最高能带,全充满的能带中的电子不能再固体中自由运动。导带:自由电子形成的能量空间。即固体结构内自由运动的电子所具有的能量范围。费米能级:该能级上的一个状态被电子占据的几率为1/2,用来衡量系统能级的水平。3.PN结3.3能带图和光伏效应3.3.2费米原理和费米能级一般而言,电子占据各个能级的几率是不等的。占据低能级的电子多而占据高能级的电子少。统计物理学指出,电子占据能级的几率遵循费米统计规律:在热平衡状态下,

5、能量为E的能级被一个电子占据的几率为:f(E)称为电子的费米分布函数,k、T分别为玻尔兹曼常数和绝对温度,EF称为费米能级。只要知道EF的数值,在一定温度下,电子在各量子态上的统计分布就完全确定了。在一定的温度下,费米能级附近的部分能量小于EF的电子会被激发到EF以上,温度越高,被激发的概率越大。3.PN结3.3能带图和光伏效应3.3.2费米原理和费米能级当E-EF>5kT时,f(E)<0.007当E-EF<-5kT时,f(E)>0.993k≈1.38x10-23J/K在参杂半导体中,如果是N型半导体,由于电子占据导带的几率较大,则EF的位置上移

6、靠近导带底,如果是P型半导体,EF下移靠近价带顶。参杂很重时,EF可以进入导带和价带。3.PN结3.3能带图和光伏效应3.3.3能带图3.PN结IRsRLRshILVIF电池工作时共有三股电流:光生电流IL,在光生电压V作用下的pn结正向电流IF,流经外电路的电流I,IL和IF都流经pn结内部,方向相反。根据pn结整流方程,在正向偏压V作用下,流过结的正向电流为IF=Is[exp(qV/koT)-1]电池与负载联通,流过负载的电流为I=IL-IF=IL-Is[exp(qV/koT)-1]由上式可得V=(koT/q)ln[(IL-I)/IS+1]3

7、.4等效电路图3.PN结合金结:熔化合金→再结晶(杂质分凝)→形成p-n结。生长结:拉制单晶;CVD;MBE。生长晶体时改变掺杂型号.扩散或离子注入结:在衬底中掺入反型杂质(杂质补偿)。高温扩散的概念:扩散机理有替位式扩散(例如硼、磷等在Si中的扩散)和间隙式扩散(如金在Si中的扩散)。杂质替位式扩散的速度慢,扩散温度高(800oC~1200oC),间隙式扩散的速度很快(在1000oC下10分钟就可扩散200~300μm的深度),扩散温度较低一些800oC~1050oC)。替位式扩散间隙式扩散3.5制备方法4.扩散假定在无对流液体(或气体)稀释溶

8、液中,按一维流动形式,每单位面积内的溶质传输可由如下方程描述:(1)式中J是单位面积溶质的传输速率(或扩散通量),N是溶质的浓度,假定它

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。