浅析超纯水设备在光学领域的重要应用.docx

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1、浅析超纯水设备在光学领域的重要应用　　超纯水的水质纯度已经成为影响光学器件产品质量、生产成品率及生产成本的重要因素之一，因此光学领域对水质的要求也越来越高。　　在生产中，超纯水设备主要用作纯水清洗和纯水配液，不同的工艺生产中纯水的用途及对水质的要求也不同。清洗需用纯水，如水中含有氯离子，电容器就会漏电。在电子管生产中，电子管阴极涂甫碳酸盐，如其中混入杂质，就会影响电子的发射，进而影响电子管的放大性能及寿命。　　因此其配液要使用纯水，在显像管和阴极射线管生产中，其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质，是锌或其他金属的硫化物组成的荧光粉颗粒并用硅酸钾粘合而成，其配制需用纯水，如纯水中含

2、铜在8ppb以上，就会引起发光变色;含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪光跳跃;含奇有机物胶体、微粒、细菌等，就会降低荧光层强度及其与玻壳的粘附力，并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。　　在晶体管、集成电路生产中，纯水主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制，硅片氧化的水汽源，部分设备的冷却水，配制电镀液等。集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，重金属(Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压降低，Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，V族元素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化，水中细菌高温碳化后的磷(约占灰分的20-

3、50%)会使P型硅片上的局部区域变化为N型硅而导致器件性能变坏水中的颗粒(包括细菌)如吸咐在硅片表面，就会引起电路短路或特性变差。