模具CAD-CAM实训复习2011.5.doc

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1、－、填空题1、设置变半径倒圆角是指沿指定边缘，按可变半径对实体或片体进行倒圆，倒圆面通过指定的陡峭边缘，并与倒圆边缘邻接的一个面相切。2、基准平面可以作为其他特征的参考平面，它是一个无限大的平面，实际上并不存在，也没有任何　　和　　。3、利用裁剪曲线工具，能基于边界对象实现对直线、圆弧等对象的修剪以及延伸。4、利用编辑弧长工具，能实现任意编辑直线的长度或圆弧的弧长。5、UG中的体分实体和　片体两类。6、UG的工作坐标系可以任意的进行移动和旋转。7、UG图层属性有以下几种：可选择性　、工作图层、可见性。8、在进行布尔操作

2、时，有两种类型的体对象：目标体和工具体。9、图标是绘制倒圆角的绘图工具，它包含简单倒圆、双曲线倒圆，三曲线倒圆三种，其中双曲线倒圆运用最为广泛。10、　　　　允许将一个非定位实体特征移动到指定的位置，对于存在有定位尺寸的特征，可通过编辑　　　　　　的方法移动特征，从而达到修改特征实体的目的。2、特征建模时，有的特征能单独存在，如长方体、　　圆柱体、　球；有的特征不能单独存在，如　孔　、　腔体　、　键槽、　　沟槽　等。4、草图由　草图平面　、　草图坐标系　、　草图曲线　、　草图约束等组成。5、基准特征有　相对基准和固定基

3、准之分。其中一个与被引用的对象之间有相关性，而另一个没有。6、图标是绘制基本曲线的绘图工具，其中包含绘制直线、圆弧、圆、倒圆角、裁剪曲线和编辑曲线参数等6项功能。7、表达式名（即变量）由　字母　、　数字和　下划线　组成，以　字母　开头。8、UG的曲面延伸可以实现曲面（片体）各边的延伸，以及过曲面上一直线并与曲面成一定角度的功能。9、常见的分割曲线方式有　等参数分割、　以边界对象分割、　　指定曲线长度分割　等。10、边倒圆有两种方式即凸倒圆和凹倒圆，凸倒圆是从模型上去除材料，凹倒圆是往模型上　加　材料。二、选择题1、＿＿

4、模块是ＵＧＮＸ软件所有模块的基本模块，是启动该软件运行的第一个模块，并为其他模块提供统一的数据库支持和交互环境。（　A　　）A、建模　B、制图　　　C、基本环境D、加工2、使用＿＿可操控ＷＣＳ的位置和方向。（　A　　）A、ＷＣＳ动态　　B、旋转　　　C、方位　　D、原点3、＿＿成型特征必须建立在圆面或圆锥面上。（　　　）A、凸台　B、孔　　　C、键槽　　　D、沟槽1、下列哪项不属于边倒圆？（　D　）A、恒半径倒圆　　B、变半径倒圆　　　C、陡峭边倒圆　D、软倒圆2、（　B　　）在作曲面时能捕捉点来作为主曲线A、过曲线　

5、　B、直纹面　　C、网格曲线　　　D、桥接3、（　D　）特征可以生成直径形状大小不同的圆柱体A、拉伸　　B、旋转　　　　C、沿导线扫描　　D、直纹面三、判断题1、在建立孔特征时，不能建立基准平面以作为放置面。　　　　　　　　（　　）2、直纹面与拉伸、旋转等特征一样必须先绘制一个二维截面。（　x）3、在缝合一组片体以构造实体时，片体与片体之间的缝隙应小于指定的公差。否则，构造出来的只能是片体，而不是实体。　　　　　　　　　　　　　　　　　（　　）4、画椭圆时，椭圆的长半轴总是与XC成旋转角的轴线。　　（　　）5、进入UG

6、草图时，草图平面会自动成为系统默认的XY平面。　　　　　　　　（X　）6、倒圆角的一般流程为：先大后小；先少后多；同类型边一起倒；先支路后干路。（　　）7、草图对象变成黄色代表尺寸约束有冲突。　　　　　　　　（X　）8、按不同的次序选择边缘创建倒圆，将产生不同的结果。　　　　　　（　）9、草图中的约束包括形状约束和尺寸约束。（∨）10、面倒圆将在实体的表面之间和/或片体的表面之间产生，表面可以是不相邻的或是在不同的体上。（　）1、要添加的草图曲线必须预先建立在草图中，可以是非草图曲线。　　　　　　（∨）2、建立基准面时

7、，最多可使用6个约束。　　　　　　　　（X）3、建立相对基准面的约束可施加在多个实体上。　　　　　　　　（∨）4、由一组曲线通过一定方法扫描形成实体特征，建立的特征形状和位置与其用于扫描的曲线之间具有相关性。　　　　　　　　（∨）5、在进行拉伸、扫描体等操作时，截面曲线可以是单一的一段曲线，也可以是一个曲线串，且且曲线串之间不一定要首尾相接。　　　　　　　　（∨）6、在建立矩形凸垫特征时，其放置面可以是平面，也可以是曲面。　　　　　　（X）7、在建立孔特征时，不能建立基准平面以作为放置面。　　　　　　　　（X）8、修剪

8、体常用于利用一个自由曲面去修剪实体模型，从而在模型实体上获得一个曲面形表面。　　　　　　　　（∨）9、在执行修剪体命令时，选定修剪表面后，系统将自动显示一个箭头符号沿修剪表面的法线方向指向被修剪掉的部分。　　　　　　　　（∨）10、画椭圆时，椭圆的长半轴总是与XC成旋转角的轴线。　(X)四、作图题（共76分）1、在建模环境下，绘制