真空溅镀工艺介绍.ppt

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1、Preparedby:EchoDate:2010/11/20真空溅镀工藝介紹真空溅镀作為一種新興的鍍膜技術,其產品表面有超強金屬質感。被越來越多的應用在手機等電子產品的外殼表面處理,其膜面不緊亮度高,質感細膩逼真,可做出多種亮麗色彩。同時,它還有製作成本较低,有利環境保護,較少受到基材材質限制的優點。前言(1)表面有超強金屬質感,亮度高,質感細膩。(2)可以解决闪银、魔幻蓝、裂纹、水滴银等七彩色的问题。(水电镀颜色较单调,一般只有亮银和亚银等少数几种)(3)各種高沸點金属、合金或绝缘物均可做成靶材材料。(4)靶材的寿命长,可长时间自动化连续生产。(5)靶材選擇廣泛

2、,可避免使用有害物質(水鍍鍍層材質一般含六價鉻)而且所有镀层材料都是在真空环境下通过离子体沉积在基材上,没有溶液污染,有利於環境保護。(6)基板材質選用範圍廣,如ABS料、ABS+PC料(水鍍只能鍍ABS材質)(7)较其它制程利于生产大面积的均一薄膜。真空濺鍍的優点:(1)真空濺镀不过UV油,其附着力較差,要保证真空濺镀的附着力,均需后续进行特殊的喷涂处理,成本提高(2)获得真空和离子体的仪器设备精密昂贵,其投资和日常生产维护费用昂贵真空濺鍍的缺點:真空溅镀,通常指的是磁控溅镀,属于高速低温溅镀法.在真空状态充入惰性气体氬氣(Ar),并在塑胶基材(陽極)和金属靶材

3、(陰極)之间加上高压直流电,由于辉光放电(glowdischarge)产生的电子激发惰性气体产生氬氣正離子,正離子向陰極靶材高速運動,将靶材原子轰出,沉积在塑胶基材上形成薄膜。真空溅镀的原理:粒子碰撞原理:靶材氣體Ar+靶材原子等粒子Ar+靶材氣體基材溅镀要求在高真空狀態充入惰性氣體實現輝光放電.該工藝要求真空度在1.3×10-3Pa的分子流狀態。真空濺鍍氣壓要求:真空泵實現高真空狀態主要工藝流程:裝配真空濺鍍底漆面漆前處理UV/IR照射烘乾UV/IR照射烘乾成品清潔处理將素材表面雜質,灰塵等用布摖拭乾淨,提高噴漆良率裝配前處理將素材裝配於專用掛具上,用以固定於流

4、水線上,並按設計需求實現外觀和功能性的遮鍍裝配將掛件置於流水線上,自動進入噴漆房線前處理由于素材是塑料件,在注塑时会残留空气泡,有机气体,而在放置时会吸入空气中的水分.另外,由于塑料表面不够平整,直接濺镀的工件表面不光滑,光泽低,金属感差,并且会出现气泡,水泡等不良状况.喷上一层底漆以后,会形成一个光滑平整的表面,并且杜绝了塑料本身存在的气泡水泡的产生,使得濺镀的效果得以展现噴底漆自動噴漆將掛件裝配於真空容器內,容器中間裝配適當的靶材電極,實現基材濺鍍,此過程一般需要5~10分鐘。真空濺鍍噴面漆作用是為增強濺鍍表面性能,增加附著力和耐磨性,同時面漆可以用宇調節表面

5、顏色,得到想要的效果。噴面漆技術人員噴塗面漆ThankYou!

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