DBD等离子体技术在处理腈纶厂异味气体中的应用.pdf

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1、工业技术齐QI鲁LU石油PE化TR工OC,H2E0M10IC,A3L8(4TE)C:2H8N9OL—O2G9Y1DBD等离子体技术在处理腈纶厂异昧气体中的应用邱纯书(中国石化齐鲁分公司,山东淄博,255400)摘要中国石化齐鲁分公司腈纶厂溶剂回收装置放空气体中含二甲胺,厂界散发异味,采用双介质阻挡放电产生的低温等离子体处理技术后,-eo胺去除率达99.6%以上,烟囱尾气臭气浓度小于1000,厂界臭气浓度小于5,达到了国家环保排放标准要求,解决了企业厂界异味的问题。关键词异味二甲胺DBD等离子体介质阻挡

2、放电中图分类号:X783文献标识码:B文章编号:1009—9859(2010)04—0289—031育才言内的混合体。放电过程中整个体系呈现低温状中国石化齐鲁分公司腈纶厂(简称腈纶厂)态,所以称为低温等离子体。双介质阻挡放电产溶剂(N,N一二甲基甲酰胺)回收装置异味废气生于两个电极之问,兼有辉光放电的大空间均匀来源于水封罐放空管、脱水塔Ⅱ再沸器放空管、焦放电和电晕放电的高气压运行的特点。油塔供料罐放空管3处,排放气体主要成分为二双介质层的阻挡放电由于电极不直接与放电甲胺(DMA)及少量N,N一二甲基甲

3、酰胺(DMF),气体发生接触,从而避免了电极因参与反应而发其浓度从5000mg/m’到250mg/m不等,气体温生的腐蚀问题,又因为其具有电子密度高和可在度在30~7O℃,水汽含量大,间歇排放。DMA为常压下运行的特点,介质阻挡放电具有大规模工无色气体,浓度高时有氨味,浓度低时有鱼腥味,业应用的可能性。蒸汽压可达202.65kPa/lO℃,对眼和呼吸道有强等离子被应用于化工异昧治理领域的作用原烈的刺激作用。该废气处理难度大,对环境的污理:在外加电场的作用下,气体电离产生大量携能染一直是企业的老大难问题

4、。电子(电子平均能量在1—10eV),废气中的污染本文针对溶剂回收装置DMA等废气排放情物质在这些高能电子的轰击下发生电离、解离或况,设计了一套采用双介质阻挡放电(Dielectric激发,并在氧气参与反应下发生一系列复杂的物BarrierDischarge,简称DBD)技术产生等离子体理、化学反应,最终使废气中的异味污染物分解。的净化处理工艺。该工艺由山东派力迪环保工程同时空气中的氧气和水分在高能电子的作用下产有限公司与复旦大学共同开发,自2008年8月投生大量的新生态氢、臭氧和羟基氧等活性基团,这

5、用以来,装置运行稳定,操作简单,运行费用低,些活性基团相互碰撞后也引发了一系列复杂的物DMA去除率达到99.6%以上,烟囱尾气的臭气浓理、化学反应。从等离子体的活性基团组成可以度小于1000,厂界臭气浓度小于5,达到了国家看出,等离子体内部富含极高化学活性的粒子,如排放标准,取得了良好的环保效果。电子、离子、自由基和激发态分子等。废气中的污染物质与这些具有较高能量的活性基团发生反2DBD等离子体简介等离子体是继固态、液态、气态之后的物质第收稿H期:2010—08—16;修回日期:2010—09—14。

6、作哲简介:邱纯书(1956一),男,商工。1982年7月毕业于四态,当外加电压达到气体的放电电压时,气体被华东石油学院。现征I}1国石化齐鲁分公司副总-二稃师。电击穿,产生包括电子、各种离子、原子和自由基在话:0533—7511607。齐鲁石油化工·290·QILUPETROCHEMICALTECHNOLOGY2010年第38卷应,最终转化为CO和H:0等物质,从而达到净3.2低温等离子体技术特点化废气的目的¨J。其化学反应过程大致如下:与目前国内常用的异味气体治理方法如生化电场+电子一高能电子(1)

7、法、化学法相比较,本方法具有如下优点:①工艺高能电子+污染物一简洁、操作简单,设备开机后即自行运转,无需专r受激原子1人操作。②节能,1nl废气耗电量约为0.003{受激基因I活性基团(2)kW。③适应工况范围宽,设备启动、停止十分迅【游离基团J速,随用随开,不受气温的影响。250oC以下(最活性基团+氧气—一CO+H0等(3)低一50℃)及雾态工况环境均可正常运转。④设活性基团+0原子(或OH自由基)备由不锈钢、铜、钼、环氧树脂等材料组成,抗氧—CO2+H20等(4)化,电极与废气不直接接触,从根本

8、上解决了设备的腐蚀问题,设备使用寿命长。⑤应用范围广,介3DBD等离子体工艺路线和技术特点质阻挡放电产生的低温等离子体中,电子能量高,3.1低温等离子体工艺路线几乎可以将所有的异味气体分子降解。⑥具有较DBD等离子体技术处理异味气体工艺流程强的耐气体温度和浓度的冲击,对于处理温度和见图1。异味气体从气体收集系统收集后,首先浓度变化较大的废气,效果显著。进入除水器中进行水气分离,然后再进入等离子体氧化反应器单元。在该单元内,由于高能电子4DBD等离子体技术

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