化肥企业MDEA脱碳溶剂改良升级与技改.pdf

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1、第43卷第2期合成氨与尿素化工设计通讯2017年2月AmmoniaandUreaChemicalEngineeringDesignCommunications化肥企业MDEA脱碳溶剂改良升级与技改霍忠忠,甄晋念,范华杰(兰花科创化工有限公司,山西晋城048000)摘要:兰花科创化工有限责任公司于2016年9月在年产5万t合成氨脱碳系统进行了“多胺法”脱碳溶剂升级及配套技改,技改效果显著、经济效益较为可观,在“多胺法”脱碳系统中有较好的推广应用价值。升级后的脱碳溶剂能够较好地控制溶液对设备及管线的腐蚀,有效提高溶液的吸收和再生效果,提高气体质量。关键词:多胺法;溶剂;升级;腐蚀;吸收;效

2、果;气体质量中图分类号:TQ113.26文献标志码:A文章编号:1003–6490(2017)02–0002–02TheChemicalFertilizerEnterprisesUpgradeandTechnicalImprovementofMDEADecarbonizingSolventHuoZhong–zhong,ZhenJin–nian,FanHua–jieAbstract:LanhuakechuangChemicalCo.,Ltd.inSeptember2016ofthe“multiaminemethod”decarbonizationsolventupgradeandsupp

3、ortingtechnologyintheannualproductioncapacityof50thousandTammoniaremovalsystem,technicaleffectandeconomicbenefitisconsiderable,inthedecarbonizationsystemofpolyaminemethodhasgoodapplicationvalue.Decarbonizingsolventupgradedtobettercontrolthecorrosionofequipmentandpipeline,effectivelyimprovetheabs

4、orptionandregenerationeffectofsolution,improvethegasquality.Keywords:polyamine;solvent;upgrading;corrosion;absorption;effect;gasquality兰花科创有限责任公司是以晋城煤为原料生产合成氨、降介反应速度、后续串级各个降介反应速度及产物(具腐蚀性)尿素的氮肥企业,目前生产能力为年产合成氨13万t(8万t、浓度、溶剂腐蚀性具有十分重要的影响。在前方湿法脱硫条5万t各一套),尿素20万t。脱碳系统两套,均采用三塔流程、件下,本身就形成了“良好”的溶剂氧化降介条件基础

5、上,“多#“多胺”法脱除CO2。为了阻止系统腐蚀,提高脱碳装置的脱胺法”1活化剂的运用,客观上又加速了整个溶剂体系降介碳效果,降低脱碳系统的热能耗与动力消耗,2016年9月在5反应速度,使装置溶剂具有腐蚀性,这可能是国内“多胺法”万t合成氨脱碳系统使用了国内知名脱硫脱碳溶剂生产商——脱碳装置广泛存在溶剂腐蚀、降介产物及缚服胺占比较大的江苏太湖新材料控股有限公司生产的MDEA改良升级脱碳溶真正原因所在。剂替代原“多胺”溶剂,并进行了配套技改,运行6个月系统如何改变这一状况,使MDEA脱碳优点充分发挥出来,稳定,取得了较为显著的效果。配套活化剂的选用及怎样长周期稳定溶剂各活性组份浓度,如国

6、内合成氨厂采用“多胺法”脱碳装置,在前方湿法脱何切实有效除去溶剂降介产物,均构成技改能否成功的关键硫条件下几乎100%存在胺液降介严重、系统腐蚀严重、高铁要点。为此我们要求厂家在认真筛选改良活化剂基础上,必离子等现象,原因在于进气含氧(湿法脱硫液为饱和含氧液),须运用AspenPlus软件模拟新溶剂法分离工艺并结合企业现行脱碳进气无论是气相含氧还是前方脱硫液的气沫挟带,均会装备状况,对新溶剂最佳吸收与再生工艺条件进行模拟分析:导致循环胺中存在溶介氧,进而引发严重的胺液氧化降介所通过分析吸收压力、温度、填料高度、贫液CO2含量对富液致。CO2含量、贫液流量的影响以及吸收压力、解吸压力、贫

7、液##多胺法溶液由MDEA、1活化剂、2活化剂、H2O构成。CO2含量对系统解吸能耗的影响,找出了系统最优化工艺条件,MDEA三个主要氧化与热降介反应如下:并以最小的投入,针对性地对原“多胺法”装置实施了配套CH2CH2OH[0]技改。CH3N→CH3NHCH2CH2OH+CH3COOH1技改前系统运行数据如下CH2CH2OH净化气CO2含量0.4%~0.6%,见表1。表1典型生产数据(1)3贫液入半贫液净化蒸汽溶液铁CH2CH2OH[0]CH

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