CVD温度对钽涂层组成、显微组织及形貌的影响-论文.pdf

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1、第36卷第4期穗有金2012年7月V01.36No.4CHINESEJOURNALOFRAREMETALSJtd.2012CVD温度对钽涂层组成、显微组织及形貌的影响蔡宏中,魏巧灵,陈力,王云,胡昌义(稀贵金属综合利用新技术国家重点实验室,昆明贵金属研究所,云南昆明650106)摘要:利用TaC12-H2-HC1反应体系,采用冷壁式化学气相沉积法(CVD)在钼基体表面沉积钽涂层。通过x射线衍射仪、金像显微镜及扫描电镜等手段,对不同沉积温度下钽涂层的组成、组织及形貌进行了研究。结果表明:在1000~1300oC范围内,钽沉积层的相组成无变化,而对择优生长有一定

2、影响;钽沉积层晶粒尺寸随沉积温度的升高而增大;钽沉积层表面颗粒呈金字塔形多面体且随沉积温度的升高而增大。关键词:化学气相沉积;钽涂层;相组成;显微组织;形貌doi:10.3969/j.issn.0258—7076.2012.04.010中图分类号:TG146.416文献标识码:A文章编号:0258—7076(2012)04—0563—05EfectofChemicalVaporDepositionTemperatureonComposition,MicrostructureandSurfaceMorphologyofTantalumCoatingsCaiHo

3、ngzhong,WeiQiaoling,ChenLi,WangYun,HuChangyi(StateKeyLaboratoryofAdvancedTechnologiesforComprehensiveUtilizationofPlatinumMetals,KunmingInstituteofPreciousMetals,Kunming650106,China)Abstract:TheTacoatingonthesurfaceofMomatrixwaspreparedbycold·wallCVDinTaC12一H2·HC1system。Theinfluenc

4、esoftemperatureonphasecomposition,microstructuresandsurfacemorphologyofthecoatingwerestudied.Theresultsshowedthatwithin1000~1300oC,withtheincreaseoftemperature,althoughgrainsizeincreased,therewasnoobviouschangeonthephasecompositionoftantalumcoating;theTacrystalswerepolyhedralpyrami

5、dandincreasedwiththetemperature.Keywords:chemicalvapordeposition(CVD);tantalumcoating;phasecomposition;;surfacemorphology难熔金属钽具有熔点高(2996oC,仅次于w,被广泛的应用于无机材料表面改性涂层制备、物Re)、高温强度高、热膨胀系数低、导电性良好、质提纯、研制新晶体以及沉积各种单晶、玻璃态无可焊性能、极高的耐腐蚀性(常温下可以与铂媲机薄膜材料领域-lJ。以化学气相沉积法在工件美)等优点。,被广泛应用于电子电气、化工、或容器内壁上沉积

6、一层钽涂层,在保证材料具有航空航天、医疗卫生、军事等领域,是高新技术领良好的耐蚀性能的同时,可大大降低材料的使用域中不可缺少的材料。但钽在地球中的储量量。热壁式化学气相沉积一般采用电阻炉加热,反极少,仅为地壳质量的0.0002%,因此,节约钽资应器内壁温度与沉积基体温度一致,因此反应器源的使用具有非常重要的意义。化学气相沉积内壁也发生沉积反应,浪费原材料并造成反应器(CVD)是一种通过化学气相反应在被加热的固体的污染。冷壁式化学气相沉积采用感应加热方式,表面生成固态沉积物的工艺方法,具有沉积层纯只有基体被加热,故只有基体上才能发生沉积反度高、致密、沉积速度快

7、,可进行多元合金沉积等应,大大减少了原材料的浪费,解决了反应器的污特点。由于CVD技术独特的优点,目前该技术已染问题,增强了反应装置的通用性。开展钽的化学收稿日期:2011一o4—28;修订日期:2012—03—08基金项目:国家自然科学基金资助项目(50171031);云南省自然科学基金资助项目(2010zc251)作者简介:蔡宏中(1978一),男,云南建水人,硕士,工程师;研究方向:稀贵金属材料通讯联系人(E—mail:hey@ipm.com.cn)1J1J1j1J1J1J4期蔡宏中等CVD温度对钽涂层组成、显微组织及形貌的影响567RareMetal

8、s(VolumeTwo)[M].Beijing:Me

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