钼粉形貌对溅射靶材微观组织的影响-论文.pdf

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1、第38卷第1期中国钼业Vol_38No．12014年2月CHINAM0LYBDENUMINDUSTRYFebruary2014钼粉形貌对溅射靶材微观组织的影响李晶，安耿，刘仁智(金堆城钼业股份有限公司技术中心，陕西西安710077)摘要：选用两种不同形貌的钼粉，经过压制、烧结、轧制、退火得到靶材产品，通过对金相组织的分析，得出颗粒大小均匀、无团聚的钼粉制备出的靶材组织较好，且大变形量有利于得到细小的组织结构。关键词：钼粉；溅射靶材；微观组织DOI：10．13384／j．cnki．cmi．1006—2602．

2、2014．01．01l中图分类号：TG146．412文献标识码：A文章编号：1006—2602(2014)叭一0048—02’l’HEE’’ECTU量I’MULYBDEUMPUWDERM0RPHoL0GY0MlCRUSTRUC’I’UREU’MoLYBDENUMSPUTTERINGTARGETLIJing，ANGeng，LIURen—zhi(TechnicalCenter，JinduichengMolybdenumCo．，Ltd．，Xi’an710077，Shaan’Xi，China)Abstract：Mo

3、lybdenumsputteringtargetwasprocessedbypressing，sintering，roilingandannealing，takenaggre—gativeanddispersedpowderrespectivelyassamples．Structureofmolybdenumsputteringtargetwasanalyzedbymetallographic．Resultshaveshownthatthemolybdenumsputteringtargetbyproces

4、singwiththedispersedmolyb—denumpowderhasbetterstructurethanothers．Keywords：molybdenumpowder；sputteringtarget；microstructure0前言1实验随着微电子技术、光学和光电子技术的飞速发实验选用两种形貌的钼粉，一种为普通钼粉展，特别是表面技术和薄膜材料的发展，薄膜科学应(记为1)，一种是粒度大小相对均匀的钼粉(记为用日益广泛。溅射是制备薄膜材料的主要技术之2)。两种钼粉的费氏粒度分别为3．3Ixm

5、、3．5Ixm，一形貌见图1。，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离普通钼粉(1)的颗粒大小不均，大小颗粒粒径子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原相差较大。形貌上，大颗粒呈等轴状或接近球形且子离开固体并沉积在基底表面。被轰击的固体是用基本无团聚现象，而小颗粒基本以团聚体存在，且小溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材J。颗粒相互之间出现烧结颈。低倍数下的形貌呈现大作为LCD(液晶显示)、PDP(等离子显示)等平量大小不等的团聚块。而2钼粉在低倍数下粉

6、体面显示器的电极和配线材料的钼系合金靶材引人注的分散性较好，无大的团聚块存在。高倍数下，钼粉目。LCD(液晶显示)的黑色基体主要使用的是铬，颗粒大小相对均匀，分布疏松，而且钼粉大多以单颗但随着平面显示器的大型化和高精度化，越来越需粒形式存在，无明显的团聚现象，颗粒形貌呈等要比阻抗小的材料。研究表明，钼具有比阻抗和膜轴状。应力仅为铬的1／2的优势，而且不存在环境污染问将上述两种钼粉采用相同的压制烧结工艺和轧题，因此成为了平面显示器溅射靶材的首选材料制工艺加工成钼靶材，并采用相同的温度进行退火。之一。2分析收稿

7、日期：2013—09—09；修改稿返回日期：2013—09—20对于钼溅射靶材来说，最终的晶粒组织越小，晶基金项目：国家“十二五”科技支撑项目：钨、钼的增值化利用产业化粒大小分布越均匀，溅射薄膜的各项组织性能也相技术开发(2012BAE06B02)作者简介：李晶(1978一)，女，硕士，高级工程师，主要从事金属材对较好。而影响微观组织性能的因素主要有原料钼料压力加工研究工作。E-mail：ljingingl2@163．eom粉的形貌、压力加工方式、加工总变形量及最终靶材