TC4钛合金磁控溅射镀铝后微弧氧化膜的结构与耐磨性能研究.pdf

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1、第28卷第2期南昌航空大学学报：自然科学版Vo1．28．No．22014年6月JournalofNanehangHangkongUniversity：NaturalSciencesJun．，2014TC4钛合金磁控溅射镀铝后微弧氧化膜的结构与耐磨性能研究欧阳小琴，周琳燕，余斌，万莹，张斌斌，胡水莲，冯长杰(1．中航工业江西洪都航空工业股份有限公司，南昌330024；2．南昌航空大学材料科学与工程学院，南昌330063)[摘要]通过采用磁控溅射技术，在TCA钛合金表面制备铝镀层，然后对其进行微弧氧化，并与TCA钛合金微弧氧化膜的

2、性能进行了对比，研究了TCA钛合金磁控溅射镀铝微弧氧化膜的性能。研究结果表明：TCA钛合金磁控溅射镀铝后的微弧氧化膜表面比TCA微弧氧化膜更加平整、致密，其硬度是TC4微弧氧化膜硬度的3．015倍，其结合性能和摩擦性能均优于TC4微弧氧化膜。[关键词】TC4钛合金；磁控溅射镀铝；微弧氧化；微观结构；磨损性能[中图分类号]TG146．2[文献标志码]Adoi：10．3969／j．issn．1001-4926．2014．02．011[文章编号]1001—4926(2014)02—0061—09StructureandWearRes

3、istanceofMicro．arcOxideFilmofAlthatDepositedonTC4AlloybyMagnetronSputteringTechnologyOUYANGXiao—qin，ZHOUlin—yan，YUBin‘，WANYing，ZHANGBin—bin，HUShui-lian，FENGChang-jie(1．AVICJiangxiHongduAviationIndustryGroupCo．，Ltd．，Nanchang330024，China；2．SchooZofMaterialsScienceandE

4、ngineering，NanchangHangkongUniversity，Nanchang330063。China)Abstract：Inthispaper，thepropertiesofthemicro—arcoxidecoatingofAIthatdepositedontheTC4alloybymagnetronsputteringtechnologywereresearchedthroughthecomparisonwiththepropertiesofTC4micro—arcoxidationcoating．Ther

5、esultsrevealedthat，thesurfaceofthemicro—arcoxidefilmofAIthatdepositedbymagnetronsputteringwasmorefiatandmoredensethanthatofTC4micro—arcoxidationfilmanditshardnessis3．015timesofthehardnessofTC4micro—arcoxidationfilm．However，itssubstrateandcoatingbindingforcewaslowert

6、hanthatofTC4micro—arcoxidationfilm．Furthermore，comparedwiththeTC4micro—arcoxidationfilm，theabrasionresistanceofthemicro-arcoxidefilmofA1thatdepositedbymagnetronsputteringwasmuchbetter．Keywords：TC4titaniumalloy；magnetronsputteringplatingA1；micro—arcoxidation；microstm

7、cture；wearperformance[收稿日期]2014—04—17[修回日期]2014—05—24【基金项目]江西省教育厅重点项目(DB201301052)；航空科学基金(2oo9zF56020)[作者简介]欧阳小琴(1968一)，男，中航工业江西洪都航空工业股份有限公司高级工程师。主要研究方向：金属材料表面技术。南昌航空大学学报：自然科学版第28卷钛合金因其比强度高、热稳定性好、耐腐蚀性分数)Y：O，一ZrO：(vsz)为陶瓷层的热障涂层，发能优异以及良好的成型、加工性能，已成为现代飞现前者有较好的抗热冲击性能，裂纹

8、较分散，防护机不可缺少的结构材料¨。但是，钛合金硬度低，性能较好，而后者易开裂剥落，裂纹密集，防护性能耐磨性能和抗高温氧化性能较弱，限制了钛合金在较差。磁控溅射是物理气相沉积技术之一，具有低航空航天领域的应用。对钛以及钛合金进行适温，高速，膜与基片附着良好，膜层致密、结晶细致