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时间:2020-05-19
《磁控溅射仪主要技术指标.doc》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在工程资料-天天文库。
1、磁控溅射仪主要技术指标真空室尺寸:视窗不锈钢真空室,Ф200x200mm真空系统:配置涡轮分子泵、机械泵(带防返油过滤器)极限压力:≤1.0x10-5Pa恢复真空时间:恢复工作背景真空6×10-4Pa:35分钟左右(充干燥氮气)磁控靶组件:配置两个直径2英寸溅射靶枪,带独立挡板,共焦溅射,可以溅射小于等于4英寸的工件;有一个靶枪为磁场增强型,可以溅射厚度不小于3mm的Ni靶材;直流电源和射频电源可以自动切换到两个靶枪实现直流和射频溅射;4英寸工件溅射均匀性优于±5%;溅射重复性优于±3%。样品尺寸: ≤4inches(约100mm)运动方式: 0~20RPM气路系统:配置两路进气,采用知名
2、品牌流量计控制(最大流量50sccm)计算机控制系统:触摸屏控制系统,可以在触摸屏上实现所有设备操作
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