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电容屏ITO银浆线制程工艺.doc

电容屏ITO银浆线制程工艺.doc

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时间：2020-09-04

电容屏ITO银浆线制程工艺.doc_第1页
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1、电容屏ITO银浆线制程工艺三种方式：第一种：丝印工艺第二种：钼铝钼工艺第三种：激光工艺一.丝印工艺：400-500目钢丝网，18-16线径，精度在100-50μM二.钼铝钼工艺：需要一条镀膜线才可以完成。先镀一层钼，再镀一层铝，最后再镀一层钼.精度在10μM。三.激光工艺：先丝印银浆，在进行激光蚀刻，精度在25μM。银浆走线示意图

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